Ald der Vorgesetzte

Als ProfiAld der VorgesetzteHersteller in China, unser ProduktAld der VorgesetzteDie präzise Temperaturkontrolle, eine gleichmäßige Gasverteilung und die hervorragende thermische Leitfähigkeit und andere Produkteigenschaften bestimmen dasAld der Vorgesetztespielt eine entscheidende Rolle im ALD -Prozess der Atomschichtabscheidung (ALD). Wichtige Rolle, begrüßen Sie Ihre Beratung.

Einheitliche Dünnfilmablagerung: ALD SUPPLECTOR sorgt für eine gleichmäßige Ablagerung von Atomschichten über der gesamten Waferoberfläche während des ALD -Verfahrens (Atomschichtablagerung). Das einzigartige rotierende Design ermöglicht es Gasen und Reaktanten, die Waferoberfläche gleichmäßig zu kontaktieren, was zu einer gleichmäßigen Filmdicke führt. Dies ist entscheidend für die Herstellung von Halbleiter-Semiconductor-Herstellung von hochpräzisetzt.

Verbesserung der Ablagerungsqualität: Durch die Optimierung der Temperaturkontrolle und die Gasverteilung verbessert der ALD-Empfängnis die Filmqualität und -leistung erheblich, reduziert Defekte und Ungleichmäßigkeit. Dies macht es ideal für eine hochpräzisen Halbleiter- und Elektronikgeräteherstellung, um die Produktzuverlässigkeit und -leistung zu gewährleisten.

Unterstützt die Multi-Wafer-Verarbeitung: Bestimmte ALD -SUPPTOR -Designs ermöglichen es, dass mehrere Wafer gleichzeitig verarbeitet werden, wodurch die Produktionseffizienz zunimmt. Dies ist besonders wichtig für die Herstellungsumgebungen mit hohem Durchsatz, die den Bedürfnissen der großflächigen Produktion erfüllen können.

Platziert verschiedene Größen und Arten von Wafern: ALD -Anfänger sind im Allgemeinen für eine hohe Kompatibilität ausgelegt und können unterschiedliche Größen und Arten von Wafern unterstützen. Dies macht es in einer Vielzahl von Produktionsprozessen effektiv und bietet eine größere Flexibilität und Anpassungsfähigkeit.

Produktionskosten senken: Aufgrund seiner effizienten Gasverteilung und gleichmäßigen Heizkapazitäten erhöht der ALD -Anfänger die Effizienz des Abscheidungsprozesses und senkt damit den Abfall und die Produktionskosten. Dies hilft nicht nur bei der Verbesserung der Produktionseffizienz, sondern senkt auch die Produktionskosten erheblich.

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung:

Produktionsläden:

Überblick über die Halbleiter -Chip -Epitaxie -Industriekette：