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Der mit CVD-Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphit-RTP-RTA-Träger von VETEK ist für Systeme zur schnellen thermischen Verarbeitung (RTP) und schnellen thermischen Ausheilung (RTA) konzipiert, die in der Halbleiterfertigung eingesetzt werden. Es besteht aus hochreinem isostatischem Graphit mit einer dichten CVD-SiC-Beschichtung und bietet hervorragende thermische Stabilität, hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit, hervorragende chemische Beständigkeit und eine äußerst geringe Partikelbildung. Der Träger ist so konstruiert, dass er wiederholten schnellen Aufheiz- und Abkühlzyklen standhält und gewährleistet eine zuverlässige Waferunterstützung und eine stabile Prozessleistung beim Tempern von Siliziumwafern und anderen Hochtemperatur-Halbleiteranwendungen.

Der mit CVD TaC beschichtete Suszeptor von VETEK kombiniert ein hochreines isostatisches Graphitsubstrat mit einer dichten CVD-Tantalkarbid (TaC)-Beschichtung, um außergewöhnliche thermische Stabilität, Korrosionsbeständigkeit und geringe Partikelbildung für anspruchsvolle Halbleiterepitaxie zu bieten. Entwickelt für das epitaktische Wachstum von SiC, GaN und AlN, minimiert es Verunreinigungen, verbessert die Gleichmäßigkeit der Wafertemperatur und verlängert die Lebensdauer der Komponenten in Hochtemperatur-MOCVD- und CVD-Prozessen.

Der CVD-SiC-beschichtete RTP-Suszeptor von VeTek Semiconductor eignet sich für Geräte zur schnellen thermischen Verarbeitung (RTP) und schnellen thermischen Ausheilung (RTA), die in der gesamten Halbleiterfertigung eingesetzt werden. Das Substrat wird aus hochreinem isostatischem Graphit gefertigt, auf dem eine dichte CVD-Siliziumkarbidschicht (SiC) abgeschieden wird. Diese Konstruktion sorgt für eine hohe Wärmeleitfähigkeit, robuste chemische Inertheit und anhaltende Dimensionsstabilität bei wiederholten Hochtemperaturzyklen.

Für anspruchsvolle Halbleiterkristallwachstumsanwendungen liefert der dreiteilige Graphittiegel von VETEK die Stabilität, Reinheit und thermische Gleichmäßigkeit, die der Prozess erfordert. Das geteilte Design besteht aus hochwertigem isostatischem Graphit – optional mit SiC-, TaC- oder PyC-Beschichtung – und dient nicht nur der Bequemlichkeit. Es reduziert aktiv die thermische Belastung, beschleunigt die Wartung und sorgt für eine kontinuierliche Leistung von Zyklus zu Zyklus.

Der mit VETEK PG (Pyrolytischer Graphit) beschichtete Ring wurde speziell für Halbleiter-Wärmefelder und Kristallwachstumsumgebungen entwickelt, in denen eine gleichmäßige Wärmeverteilung und stabile Temperaturen nicht verhandelbar sind. Ausgehend von einer hochreinen Graphitbasis und abschließend mit einer dichten pyrolytischen Graphitbeschichtung bietet diese Komponente eine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit, hält starken Temperaturschocks stand und behält ihre Abmessungen über lange Laufzeiten bei extremen Temperaturen. Diese Ringe werden häufig in Kristallwachstumsöfen, Hochtemperaturöfen und Wärmefeldbaugruppen für Halbleiter eingesetzt – überall dort, wo eine präzise Temperaturkontrolle direkt die Prozesswiederholbarkeit und die Qualität des Endprodukts beeinflusst.

Wenn Sie jemals mit einem ungleichmäßigen Gasfluss oder einer Partikelverunreinigung in einer Abscheidungskammer zu kämpfen hatten, ist der VETEK CVD SiC-beschichtete Graphit-Duschkopf genau das Richtige für Sie. Es beginnt mit hochreinem isostatischem Graphit für thermische Stabilität und einfache Bearbeitung und erhält dann eine dichte CVD-Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtung, die die Oberfläche versiegelt, korrosiven Gasen (wie HCl oder NF₃) widersteht und ein Ausgasen verhindert. Das Ergebnis ist eine Gasverteilungsplatte, die einen gleichmäßigen Fluss über den Wafer liefert, Hochtemperaturepitaxie beherrscht und viel länger hält als blanker Graphit oder Quarz – was sie zu einer zuverlässigen Komponente für CVD-, PECVD-, MOCVD-, Siliziumepitaxie- und SiC-Epitaxieprozesse macht. Wir bieten auch kundenspezifische Lochmuster und -größen an, da keine zwei Reaktoren genau gleich sind.