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Der Halbmond ist eine Graphitkomponente, die in LPE-SiC-Reaktoren verwendet wird und hauptsächlich um die heiße Zone der Kammer herum installiert wird. Obwohl es den Wafer nicht direkt berührt, spielt es dennoch eine Rolle für die Stabilität des Gasflusses und den Reaktorbetrieb während des Epitaxiewachstums. Um hohe Temperaturen und reaktive Prozessbedingungen zu bewältigen, wird die Komponente normalerweise mit einer CVD-SiC-Beschichtung geschützt, während für einige Anwendungen auch eine TaC-Beschichtung verfügbar ist. VETEK liefert auch Graphitfilzisolierungen und andere beschichtete Graphitteile für SiC-Epitaxiesysteme.

Der 8-Zoll-SiC-Epi-Oberring ist ein Hardwareteil für Halbleiterreaktoren. Es funktioniert in Si/SiC-Epitaxie- und MOCVD/CVD-Systemen. Dieser Ring stabilisiert die Hitze im Inneren der Kammer. Es steuert auch den Gasfluss. Das Material ist hochreines CVD-Siliziumkarbid. Es gibt nicht die Ausgasungsprobleme von Graphit. Außerdem wird die Partikelkontamination während der Produktion reduziert. Wir freuen uns über Ihre Anfragen.

VETEK hat unseren Kohlefaser-Weichfilz mithilfe einer Kombination aus Präzisionskardier- und Luftstrahltechnologie entwickelt. Wir können eine sehr gleichmäßige Faserstruktur im gesamten Material garantieren. Es ist so konstruiert, dass es der starken Hitze von Industrieöfen standhält und gleichzeitig unglaublich leicht ist. Aufgrund der geringen thermischen Masse und der flexiblen Struktur ist es einfach zu installieren und passt genau in die Ecken des Ofens, wodurch die Energieeffizienz in jedem Zyklus maximiert wird.

Die Qualität des Ausgangsmaterials ist der Hauptfaktor, der die Waferausbeute bei der Herstellung von SiC-Einkristallen begrenzt. VETEKs 7N High-Purity CVD SiC Bulk bietet eine hochdichte polykristalline Alternative zu herkömmlichen Pulvern, die speziell für den physikalischen Dampftransport (PVT) entwickelt wurde. Durch die Verwendung einer Massen-CVD-Form beseitigen wir häufige Wachstumsfehler und verbessern den Ofendurchsatz erheblich. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.

Bei fortgeschrittenen Fertigungsverfahren wie Diffusion, Oxidation oder LPCVD ist das Waferboot nicht nur ein Halter – es ist ein entscheidender Teil der thermischen Umgebung. Bei Temperaturen von 1000 bis 1400 °C versagen Standardmaterialien häufig aufgrund von Verformungen oder Ausgasungen. Die SiC-auf-SiC-Lösung (hochreines Substrat mit einer dichten CVD-Beschichtung) von VETEK wurde speziell zur Stabilisierung dieser stark erhitzenden Variablen entwickelt.

Die Hochtemperatur- und chemisch reaktiven Umgebungen von MOCVD, der Schutz der Reaktionskammer und die Präzision der Prozesssteuerung sind von größter Bedeutung. VETEK bietet hochwertige opake (milchig weiße) Quarzkomponenten, die speziell dafür entwickelt wurden, als „Reinraum“ und „Präzisionstor“ in Ihrer Halbleiterausrüstung zu fungieren. Diese Komponenten bieten eine kostengünstige und dennoch leistungsstarke Lösung zur Bewältigung der Wärmestrahlung und zur Vermeidung von Kontaminationen.