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Veteksemicon-Quarztiegel in Halbleiterqualität sind wichtige Verbrauchsmaterialien im Czochralski-Einkristallwachstumsprozess. Mit extremer Reinheit und hervorragender thermischer Stabilität als unserem Hauptaugenmerk sind wir bestrebt, unseren Kunden qualitativ hochwertige Produkte zu liefern, die eine stabile Leistung und eine hervorragende Kristallisationsbeständigkeit unter Hochtemperatur- und Hochdruckumgebungen aufweisen. Dies gewährleistet die Qualität der Kristallstäbe von der Quelle und trägt dazu bei, dass bei der Herstellung von Halbleiter-Siliziumwafern höhere Erträge und eine bessere Kosteneffizienz erzielt werden.

Der Veteksemicon-Fokusring wurde speziell für anspruchsvolle Halbleiter-Ätzgeräte entwickelt, insbesondere für SiC-Ätzanwendungen. Seine Hauptfunktion besteht darin, die Verteilung des elektromagnetischen Feldes innerhalb der Reaktionskammer zu optimieren und so eine gleichmäßige und fokussierte Plasmawirkung über die gesamte Waferoberfläche sicherzustellen. Ein Hochleistungs-Fokusring verbessert die Gleichmäßigkeit der Ätzrate erheblich und reduziert Kanteneffekte, wodurch die Produktausbeute und die Produktionseffizienz direkt gesteigert werden.

Die Veteksemicon-Siliziumkarbid-Trägerplatte für die LED-Ätzung wurde speziell für die Herstellung von LED-Chips entwickelt und ist ein zentrales Verbrauchsmaterial im Ätzprozess. Es besteht aus präzisionsgesintertem, hochreinem Siliziumkarbid und bietet eine außergewöhnliche chemische Beständigkeit sowie Dimensionsstabilität bei hohen Temperaturen und widersteht effektiv Korrosion durch starke Säuren, Basen und Plasma. Seine geringen Kontaminationseigenschaften sorgen für hohe Erträge bei LED-Epitaxiewafern, während seine Haltbarkeit, die weit über die herkömmlicher Materialien hinausgeht, Kunden dabei hilft, die Gesamtbetriebskosten zu senken, was es zu einer zuverlässigen Wahl für die Verbesserung der Effizienz und Konsistenz des Ätzprozesses macht.

Das Veteksemicon-Graphitboot für PECVD ist präzisionsgefertigt aus hochreinem Graphit und speziell für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidungsprozesse konzipiert. Wir nutzen unser umfassendes Wissen über Halbleiter-Wärmefeldmaterialien und Präzisionsbearbeitungsmöglichkeiten und bieten Graphitschiffchen mit außergewöhnlicher thermischer Stabilität, ausgezeichneter Leitfähigkeit und langer Lebensdauer. Diese Boote sind so konzipiert, dass sie in der anspruchsvollen PECVD-Prozessumgebung eine äußerst gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf jedem Wafer gewährleisten und so die Prozessausbeute und Produktivität verbessern.

Der CVD-TaC-beschichtete Graphitring von Veteksemicon wurde entwickelt, um den extremen Anforderungen der Halbleiterwaferverarbeitung gerecht zu werden. Mithilfe der CVD-Technologie (Chemical Vapour Deposition) wird eine dichte und gleichmäßige Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf hochreine Graphitsubstrate aufgetragen, wodurch eine außergewöhnliche Härte, Verschleißfestigkeit und chemische Inertheit erreicht wird. In der Halbleiterfertigung wird der CVD-TaC-beschichtete Graphitring häufig in MOCVD-, Ätz-, Diffusions- und epitaktischen Wachstumskammern verwendet und dient als wichtige Struktur- oder Dichtungskomponente für Waferträger, Suszeptoren und Abschirmbaugruppen. Wir freuen uns auf Ihre weitere Beratung.

Der von VETEK hergestellte poröse TaC-beschichtete Graphitring verwendet ein leichtes poröses Graphitsubstrat und ist mit einer hochreinen Tantalkarbidbeschichtung beschichtet, die sich durch eine hervorragende Beständigkeit gegen hohe Temperaturen, korrosive Gase und Plasmaerosion auszeichnet