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Unser Roboterarm des Siliciumcarbids (SIC) ist für die Handhabung von Hochleistungswafern in der Herstellung fortschrittlicher Halbleiter ausgelegt. Dieser Roboterarm aus hohem Siliziumcarbid aus hoher Purität bietet einen außergewöhnlichen Widerstand gegen hohe Temperaturen, Plasmakorrosion und chemische Angriffe, um einen zuverlässigen Betrieb in anspruchsvollen Reinraumumgebungen zu gewährleisten. Die außergewöhnliche mechanische Festigkeit und die dimensionale Stabilität ermöglichen eine präzise Handhabung des Wafers und minimieren Kontaminationsrisiken und machen es zu einer idealen Wahl für MOCVD, Epitaxie, Ionenimplantation und andere Anwendungen für kritische Waferhandhabungen. Wir begrüßen Ihre Anfragen.

Vetekemicon ist auf die Bereitstellung maßgeschneiderter Quarzwafer -Bootsprodukte für die Halbleiterindustrie spezialisiert. Unsere Produktlinie umfasst Halbleiter-Fusions-Quarzglasboote, Quarzdiffusionsboote und maßgeschneiderte Quarz-Annealing-Boote, die bei hohen Präzisionsprozessen wie Diffusion, Oxidation und CVD häufig verwendet werden. Vetekemicon besteht darauf, umfassende kundenspezifische Dienstleistungen von Produkten und Technologien bereitzustellen. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Vetekemicon SIC-Waferboote werden in kritischen Hochtemperaturprozessen bei der Herstellung von Halbleiter häufig eingesetzt und dienen als zuverlässige Träger für Oxidations-, Diffusions- und Glühprozesse für integrierte Kreisläufe auf Siliziumbasis. Sie zeichnen sich auch im Halbleitersektor der dritten Generation aus und eignen sich perfekt für anspruchsvolle Prozesse wie epitaxiale Wachstum (EPI) und metallorganische chemische Dampfablagerung (MOCVD) für SIC- und GaN-Stromversorgungsgeräte. Sie unterstützen auch die Hochtemperaturherstellung hocheffizienter Solarzellen in der Photovoltaikindustrie. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Der CVD SIC Coated Graphit-Duschkopf von Vetekememon ist eine Hochleistungskomponente, die speziell für die Prozesse zur Ablagerung des Halbleiterchemikas Dampf (CVD) ausgelegt ist. Dieser Duschkopf wird aus hochreinigem Graphit hergestellt und mit einer Siliziumcarbidbeschichtung (SIC) für chemische Dampfablagerung (CVD) geschützt und bietet herausragende Haltbarkeit, thermische Stabilität und Widerstand gegen korrosive Prozessgase. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Der Quarzduschkopf, auch als Quarzgasverteilungsplatte bezeichnet, ist eine kritische Komponente, die bei Ablagerungsprozessen mit Halbleiterdünnfilmableitungen wie CVD (chemische Dampfabscheidung), PECVD (Plasma-verbesserter CVD) und Ald (Atomschichtablagerung) verwendet wird. Diese Komponente besteht aus einem fusionierten Quarz mit hohem Purity und sorgt für eine extrem niedrige Kontamination und eine hervorragende thermische Stabilität, wodurch eine präzise Gasabgabe und ein einheitliches Filmwachstum über die Waferoberfläche ermöglicht werden. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Unsere TAC-beschichteten Graphit-Führungsringe sind Präzisionskernkomponenten für die Herstellung von Halbleiter-Wafer. Sie verfügen über ein hochreines Graphit-Substrat, das mit einer Verschleiß-resistenten und chemisch inerten Tantal-Carbid-Beschichtung (TAC) beschichtet ist. Entwickelt für anspruchsvolle Prozesse wie epitaxiale Ablagerung und Plasma -Radierung sorgen sie für eine präzise Waferausrichtung und -stabilität, kontrollieren die Kontamination effektiv und verlängern die Lebensdauer der Komponenten erheblich. Vetekemicon bietet Anpassungsdienste an, um Ihren Geräten und Prozessanforderungen perfekt zu entsprechen.