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Das Veteksemicon-Graphitboot für PECVD ist präzisionsgefertigt aus hochreinem Graphit und speziell für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidungsprozesse konzipiert. Wir nutzen unser umfassendes Wissen über Halbleiter-Wärmefeldmaterialien und Präzisionsbearbeitungsmöglichkeiten und bieten Graphitschiffchen mit außergewöhnlicher thermischer Stabilität, ausgezeichneter Leitfähigkeit und langer Lebensdauer. Diese Boote sind so konzipiert, dass sie in der anspruchsvollen PECVD-Prozessumgebung eine äußerst gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf jedem Wafer gewährleisten und so die Prozessausbeute und Produktivität verbessern.

Der CVD-TaC-beschichtete Graphitring von Veteksemicon wurde entwickelt, um den extremen Anforderungen der Halbleiterwaferverarbeitung gerecht zu werden. Mithilfe der CVD-Technologie (Chemical Vapour Deposition) wird eine dichte und gleichmäßige Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf hochreine Graphitsubstrate aufgetragen, wodurch eine außergewöhnliche Härte, Verschleißfestigkeit und chemische Inertheit erreicht wird. In der Halbleiterfertigung wird der CVD-TaC-beschichtete Graphitring häufig in MOCVD-, Ätz-, Diffusions- und epitaktischen Wachstumskammern verwendet und dient als wichtige Struktur- oder Dichtungskomponente für Waferträger, Suszeptoren und Abschirmbaugruppen. Wir freuen uns auf Ihre weitere Beratung.

Der von VETEK hergestellte poröse TaC-beschichtete Graphitring verwendet ein leichtes poröses Graphitsubstrat und ist mit einer hochreinen Tantalkarbidbeschichtung beschichtet, die sich durch eine hervorragende Beständigkeit gegen hohe Temperaturen, korrosive Gase und Plasmaerosion auszeichnet

Das Siliziumkarbid-Cantilever-Paddel von Veteksemicon wurde für die fortschrittliche Waferverarbeitung in der Halbleiterfertigung entwickelt. Es besteht aus hochreinem SiC und bietet hervorragende thermische Stabilität, hervorragende mechanische Festigkeit und hervorragende Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen. Diese Funktionen gewährleisten eine präzise Waferhandhabung, längere Lebensdauer und zuverlässige Leistung in Prozessen wie MOCVD, Epitaxie und Diffusion. Willkommen zur Beratung.

Veteksemicon SiC-Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer wurde entwickelt, um außergewöhnliche Präzision und Zuverlässigkeit bei der Halbleiter-Wafer-Verarbeitung zu bieten. Es wird aus hochreinem Siliziumkarbid hergestellt und gewährleistet eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, chemische Beständigkeit und hervorragende mechanische Festigkeit, wodurch es sich ideal für anspruchsvolle Anwendungen wie Ätzen, Abscheiden und Lithographie eignet. Seine ultraflache Oberfläche garantiert eine stabile Waferunterstützung, minimiert Defekte und verbessert die Prozessausbeute. Dieses Vakuumspannfutter ist die bewährte Wahl für das Hochleistungs-Wafer-Handling.

Der solide SiC-Fokusring von Veteksemi verbessert die Gleichmäßigkeit des Ätzens und die Prozessstabilität erheblich, indem er das elektrische Feld und den Luftstrom am Waferrand präzise steuert. Es wird häufig in Präzisionsätzprozessen für Silizium, Dielektrika und Verbindungshalbleitermaterialien eingesetzt und ist eine Schlüsselkomponente zur Gewährleistung der Massenproduktionsausbeute und eines langfristig zuverlässigen Gerätebetriebs.