Über uns

Über uns

WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd.
WuYi TianYao New Material Tech.Co.,Ltd. wurde 2016 gegründet und ist ein führender Anbieter von fortschrittlichen Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Unser Gründer, ein ehemaliger Experte des Instituts für Materialien der Chinesischen Akademie der Wissenschaften, gründete das Unternehmen mit dem Schwerpunkt auf der Entwicklung innovativer Lösungen für die Branche.

Zu unserem Hauptproduktangebot gehören:CVD-Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtungen, Tantalcarbid (TaC)-Beschichtungen, SiC-Massen, SiC-Pulver und hochreine SiC-Materialien. Die Hauptprodukte sind SiC-beschichtete Graphitsuszeptoren, Vorheizringe, TaC-beschichtete Umleitungsringe, Halbmondteile usw., die Reinheit liegt unter 5 ppm und kann die Kundenanforderungen erfüllen.

150

Mitarbeiter

12

Produktionslinien

2

Produktionsstandorte

2

F&E-Zentren

Mehr sehen
VeTek ist der Fachmann für Hersteller und Lieferanten von Siliziumkarbidbeschichtungen, Tantalkarbidbeschichtungen und Spezialgraphit in China. Sie können sicher sein, dass Sie die Produkte in unserer Fabrik kaufen, und wir bieten Ihnen einen hochwertigen Kundendienst.

Unsere Leistungen

CNC Machining

CNC-Bearbeitung

Material Sintering

Materialsintern

Material Purification

Materielle Reinigung

CVD Coating

CVD-Beschichtung

Material Testing

Materialprüfung

Unsere Vorteile

Fortschrittliche Materialien verändern die Zukunft. Ziel ist es, der weltweit führende Innovator für Halbleitermaterialien zu sein.

Advanced Equipment & Testing Capacity

Erweiterte Ausrüstung und Testkapazität

Wir betreiben 12 fortschrittliche Produktionslinien mit über 80 branchenführenden CVD- und Inspektionsgeräten, um eine stabile Massenproduktion und strenge Qualitätskontrolle zu gewährleisten.

Dual R&D Centers & Deep Expertise

Duale Forschungs- und Entwicklungszentren und umfassendes Fachwissen

Unsere dualen Forschungs- und Entwicklungsplattformen wurden von einem ehemaligen CAS-Professor mit einer jährlichen Forschungs- und Entwicklungsinvestition von über 30 % gegründet und schließen erfolgreich die Lücke zwischen der Erforschung zugrunde liegender Mechanismen und der industriellen Skalierung.

Strategic Industry Recognition

Strategische Branchenanerkennung

Als anerkanntes Führungsunternehmen in der Industriekette für integrierte Schaltkreise hat VeTek Semiconductor strategische Kapitalinvestitionen von mehreren führenden börsennotierten Halbleiterunternehmen erhalten.

High-Purity & High-Barrier Solutions

Hochreine Lösungen mit hoher Barriere

Wir liefern hochreine, temperaturbeständige CVD-Beschichtungen und Komponenten, die die Lebensdauer effektiv verlängern und die Produktionskosten für globale Halbleiter- und PV-Kunden optimieren.

WERKSEINFÜHRUNG

VeTek Semiconductor betreibt zwei Forschungs- und Entwicklungszentren, die F&E- und Produktionskapazitäten integrieren. Derzeit verfügt das Unternehmen über 2 Produktionsstandorte, 12 Produktionslinien, mehr als 150 Mitarbeiter, mehr als 30 % auf Forschung und Entwicklung, unser Team konzentriert sich auf Technologie, Produktion, Vertrieb und Betriebsmanagement und verfügt über starke umfassende Fähigkeiten. Das Produktlayout wird hauptsächlich in den Branchen LED, integrierte IC-Schaltkreise, Halbleiter der dritten Generation, Photovoltaik und anderen Branchen eingesetzt.

WAS UNSERE KUNDEN SAGEN

WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY
WHAT OUR CLIENTS SAY

ANWENDUNGSBEREICH

APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD
APPLICATION FIELD

FAQ

F1: Können Ihre Beschichtungsprodukte und Feststoffkomponenten vollständig an unsere Pläne angepasst werden?

A: Ja, absolute Individualisierung ist unsere Kernkompetenz. Wir bieten eine durchgängige maßgeschneiderte Bearbeitung auf der Grundlage Ihrer präzisen Zeichnungen, wählen die am besten geeigneten Substrate aus und kombinieren sie mit hocheinheitlichen CVD-SiC- oder TaC-Beschichtungen, damit sie perfekt zu Ihrer Halbleiterausrüstung passen.

F2: Wie garantieren Sie die hohe Reinheit, die für Materialien in Halbleiterqualität erforderlich ist?

A: Wir führen strenge Rohstoffprüfungen und fortschrittliche Hochtemperatur-Reinigungsprozesse durch. Alle Elemente werden mit professionellen Testgeräten wie ICP-OES und GDMS auf Spuren analysiert, um sicherzustellen, dass unsere Beschichtungen und Graphitkomponenten den hochreinen, partikelfreien Standards der Chipindustrie entsprechen.

F3: Über welches Qualitätsmanagementsystem und welche Branchenzertifizierungen verfügen Sie?

A: Unsere Produktionsstätte arbeitet in strikter Übereinstimmung mit dem Qualitätsmanagementsystem ISO9001. Von der Substratbearbeitung bis zum abschließenden chemischen Gasphasenabscheidungsprozess (CVD) wird jeder Schritt vor dem Versand strengen Maß- und Oberflächenpräzisionsprüfungen unterzogen.

F4: Unterstützen Sie Mustertests, bevor Sie Großbestellungen aufgeben, und wie läuft der Prozess ab?

A: Ja, wir begrüßen die Probenbewertung für kundenspezifische Suszeptoren, Wafer-Boote oder Dummy-Wafer. Sie können Ihre spezifischen Betriebsparameter oder Gerätemodelle (wie LPE, Aixtron oder ASM) angeben und wir liefern ein Probemuster, um sicherzustellen, dass es Ihren thermischen und Prozessanforderungen entspricht.

F5: Was ist Ihre typische Produktionsvorlaufzeit für Standard- und kundenspezifische Produkte?

A: Für Standardkonfigurationen oder verfügbaren Lagerbestand versenden wir sofort. Für kundenspezifische Artikel, die eine Präzisionsbearbeitung und CVD-Beschichtung erfordern, liegen die Lieferzeiten in der Regel zwischen 3 und 6 Wochen, je nach Designkomplexität und Chargenvolumen.

F6: Welche Art von technischem Kundendienst bieten Sie internationalen Kunden an?

A: Wir bieten rund um die Uhr technische Online-Beratung an, um Ihnen bei der Optimierung Ihrer Wärmefelder und Komponentenlebensdauer zu helfen. Sollten während der Prozessintegration betriebliche Probleme oder Konzentrationsschwankungen auftreten, arbeiten unsere F&E-Ingenieure aus der Ferne mit Ihnen zusammen, um schnelle und praktische Lösungen zu finden.

Nachricht

  • Wir heißen Kunden herzlich willkommen, die Fabrik für Kohlefaserprodukte von Veteksemicon zu besuchen
    2025-09-10
    Wir heißen Kunden herzlich willkommen, die Fabrik für Kohlefaserprodukte von Veteksemicon zu besuchen

    Am 5. September 2025 besuchte ein Kunde aus Polen eine Fabrik von VETEK, um sich über unsere fortschrittlichen Technologien und innovativen Prozesse bei der Herstellung von Kohlefaserprodukten zu informieren.

  • ​Bei der Herstellung von massiven CVD-SiC-Fokusringen: Von Graphit zu hochpräzisen Teilen
    2026-01-23
    ​Bei der Herstellung von massiven CVD-SiC-Fokusringen: Von Graphit zu hochpräzisen Teilen

    In der hochriskanten Welt der Halbleiterfertigung, in der Präzision und extreme Umgebungen nebeneinander bestehen, sind Fokusringe aus Siliziumkarbid (SiC) unverzichtbar. Diese Komponenten sind für ihre außergewöhnliche thermische Beständigkeit, chemische Stabilität und mechanische Festigkeit bekannt und für fortschrittliche Plasmaätzprozesse von entscheidender Bedeutung. Das Geheimnis ihrer hohen Leistung liegt in der Solid CVD-Technologie (Chemical Vapour Deposition). Heute führen wir Sie hinter die Kulissen, um den anspruchsvollen Herstellungsprozess zu erkunden – vom rohen Graphitsubstrat bis zum hochpräzisen „unsichtbaren Helden“ der Fabrik.

  • VETEK nimmt an der SEMICON Europa 2025 in München teil
    2025-11-20
    VETEK nimmt an der SEMICON Europa 2025 in München teil

    Auch im Jahr 2025 trifft sich die europäische Halbleiterindustrie vom 18. bis 21. November wieder auf der größten Halbleitermesse SEMICON Europa in München

  • Wie kann ein mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel die Hochtemperatur-Halbleitermaterialverarbeitung verbessern?
    2026-07-21
    Wie kann ein mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel die Hochtemperatur-Halbleitermaterialverarbeitung verbessern?

    Ein mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel ist eine fortschrittliche thermische Verarbeitungskomponente, die für anspruchsvolle Anwendungen wie Halbleiterherstellung, Kristallwachstum, Vakuumwärmebehandlung und Hochtemperatur-Materialforschung entwickelt wurde. In diesem Artikel werden Struktur, Vorteile, Anwendungen und Auswahlüberlegungen erläutert. VeTek Semiconductor bietet leistungsstarke Tiegellösungen, die glasartige Kohlenstoffbeschichtungstechnologie mit präziser Graphitherstellung kombinieren, um den strengen Anforderungen moderner Industrien gerecht zu werden.

  • Warum SiC-beschichtete Graphitsuszeptoren für die Halbleiterepitaxie unerlässlich sind
    2026-07-17
    Warum SiC-beschichtete Graphitsuszeptoren für die Halbleiterepitaxie unerlässlich sind

    Erfahren Sie, wie CVD-SiC-beschichtete Graphitsuszeptoren das epitaktische Wachstum verbessern, indem sie die thermische Gleichmäßigkeit verbessern, Verunreinigungen reduzieren und die Lebensdauer der Komponenten bei der Herstellung von SiC-, GaN-, LED- und Siliziumhalbleitern verlängern.

  • Warum TaC-beschichtete Graphitheizungen die Zukunft der GaN-MOCVD-Epitaxie darstellen
    2026-07-10
    Warum TaC-beschichtete Graphitheizungen die Zukunft der GaN-MOCVD-Epitaxie darstellen

    Entdecken Sie, wie TaC-beschichtete Graphitheizungen die Temperaturgleichmäßigkeit verbessern, den Energieverbrauch senken und die Lebensdauer bei der GaN-MOCVD-Epitaxie im Vergleich zu herkömmlichen pBN-beschichteten Heizungen verlängern.

  • Warum ist Hartfilz aus hochreinem Graphit für die Hochtemperatur-Halbleiterfertigung unerlässlich?
    2026-07-08
    Warum ist Hartfilz aus hochreinem Graphit für die Hochtemperatur-Halbleiterfertigung unerlässlich?

    Da sich die Halbleiterfertigung auf immer fortschrittlichere Prozessknoten zubewegt, sind Materialreinheit und thermische Stabilität wichtiger denn je. Hartfilz aus hochreinem Graphit hat sich zu einem der zuverlässigsten Isoliermaterialien für Kristallwachstumsöfen, Epitaxiereaktoren, Siliziumkarbid-Produktionssysteme und andere Hochtemperaturanwendungen entwickelt.

  • Wie eine TaC-Beschichtung das SiC-Kristallwachstum in PVT-Anwendungen verbessert
    2026-07-03
    Wie eine TaC-Beschichtung das SiC-Kristallwachstum in PVT-Anwendungen verbessert

    Entdecken Sie, wie die CVD-TaC-Beschichtung das SiC-Kristallwachstum in PVT-Öfen verbessert, indem sie die Kohlenstoffverunreinigung reduziert, Graphitkomponenten schützt, die Lebensdauer verlängert und die Kristallqualität für die fortschrittliche Halbleiterfertigung verbessert.

  • Ist SiC-Diffusionsofenrohr die ultimative Lösung für die Hochtemperatur-Halbleiterverarbeitung?
    2026-07-02
    Ist SiC-Diffusionsofenrohr die ultimative Lösung für die Hochtemperatur-Halbleiterverarbeitung?

    Das SiC-Diffusionsofenrohr ist aufgrund seiner außergewöhnlichen thermischen Stabilität, chemischen Beständigkeit und langen Lebensdauer zu einer entscheidenden Komponente in der modernen Halbleiterfertigung geworden. In diesem Artikel wird untersucht, wie VeTek fortschrittliche SiC-Lösungen liefert, die die Leistung des Diffusionsofens verbessern, die Waferqualität verbessern und die Gesamtproduktionskosten senken. Sie erfahren mehr über seinen Aufbau, seine Vorteile, Anwendungen, technischen Spezifikationen und warum es zunehmend traditionelle Quarz- und Aluminiumoxidrohre ersetzt.

  • Warum die TaC-Beschichtung zur bevorzugten Wahl für Halbleiter-Graphitkomponenten wird
    2026-06-26
    Warum die TaC-Beschichtung zur bevorzugten Wahl für Halbleiter-Graphitkomponenten wird

    Entdecken Sie, warum die CVD-TaC-Beschichtung zur bevorzugten Schutzlösung für Halbleitergraphitkomponenten wird. Erfahren Sie mehr über seine Vorteile, Anwendungen im SiC-Kristallwachstum, GaN-MOCVD und Waferträger und wie es Haltbarkeit, Reinheit und Prozessstabilität verbessert.

  • Warum ist ein mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel die bevorzugte Wahl für hochreine Halbleiter- und Kristallwachstumsanwendungen?
    2026-06-24
    Warum ist ein mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel die bevorzugte Wahl für hochreine Halbleiter- und Kristallwachstumsanwendungen?

    Da sich die Halbleiterfertigung, die Kristallwachstumstechnologie und die fortschrittliche Materialverarbeitung ständig weiterentwickeln, ist die Nachfrage nach hochreinen und thermisch stabilen Komponenten erheblich gestiegen. Unter diesen kritischen Komponenten hat sich der mit Glaskohlenstoff beschichtete Graphittiegel als eine der zuverlässigsten Lösungen für Umgebungen mit hohen Temperaturen und hoher Reinheit herausgestellt.

  • Warum ist ein Tantalcarbid-Beschichtungsring für die Hochleistungshalbleiterfertigung unerlässlich?
    2026-06-17
    Warum ist ein Tantalcarbid-Beschichtungsring für die Hochleistungshalbleiterfertigung unerlässlich?

    Da sich die Halbleiterfertigung immer weiter in Richtung höherer Präzision, Reinheit und thermischer Stabilität weiterentwickelt, sind fortschrittliche Beschichtungsmaterialien zu entscheidenden Komponenten in Prozessanlagen geworden. Unter ihnen zeichnet sich der Tantalcarbid-Beschichtungsring durch seine außergewöhnliche Beständigkeit gegen hohe Temperaturen, Korrosion, Plasmaerosion und Partikelkontamination aus.

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