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Festes Siliziumkarbid

Vetek Semiconductor Festes Siliziumcarbid ist eine wichtige Keramikkomponente in Plasma -Ätzgeräten, festes Siliziumcarbid (CVD Silicon Carbid) Teile in den Ätzgeräten umfassenRinge konzentrieren, Gasduschhead, Tablett, Kantenringe usw. Aufgrund der geringen Reaktivität und Leitfähigkeit von festem Siliziumkarbid (CVD -Siliziumcarbid) gegenüber Chlor - und fluorhaltigen Ätzgasen ist es ein ideales Material für Plasma -Ätzgeräte und andere Komponenten.


Zum Beispiel ist der Fokusring ein wichtiger Teil außerhalb des Wafers und in direktem Kontakt mit dem Wafer, indem eine Spannung auf den Ring angewendet wird, um das Plasma zu fokussieren, das den Ring verläuft, wodurch das Plasma auf den Wafer fokussiert wird, um die Gleichmäßigkeit der Verarbeitung zu verbessern. Der traditionelle Fokusring besteht aus Silizium oderQuarz, leitendes Silizium Als gemeinsames Fokusringmaterial ist es fast nahezu der Leitfähigkeit von Siliziumwafern, aber der Mangel ist ein schlechter Ätzbeständigkeit in fluorhaltigem Plasma, ätzende Maschinenteile Materialien, die häufig für einen bestimmten Zeitraum verwendet werden.


SOlid Sic Focus RingArbeitsprinzip

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


Vergleich des SI -basierten Fokussierrings und CVD -SIC -Fokussierrings:

Vergleich des SI -basierten Fokussierrings und CVD SIC Focusing Ring
Artikel Und CVD sic
Dichte (g/cm3) 2.33 3.21
Bandlücke (ev) 1.12 2.3
Wärmeleitfähigkeit (w/cm ℃) 1.5 5
CTE (x10-6/℃) 2.6 4
Elastizitätsmodul (GPA) 150 440
Härte (GPA) 11.4 24.5
Resistenz gegen Verschleiß und Korrosion Arm Exzellent


Vetek Semiconductor bietet fortschrittliche Feststoff -Silizium -Carbid (CVD Silicon Carbid) Teile wie sic fokussierende Ringe für Halbleiterausrüstung an. Unser festes Silizium-Carbid-Fokussierring übertrifft traditionelles Silizium in Bezug auf mechanische Festigkeit, chemische Resistenz, thermische Leitfähigkeit, Hochtemperaturdauer und Ionenätzungswiderstand.


Zu den wichtigsten Merkmalen unserer SIC -Fokussierringe gehören:

Hohe Dichte für reduzierte Ätzraten.

Ausgezeichnete Isolierung mit einem hohen Bandgap.

Hohe thermische Leitfähigkeit und niedriger Wärmeausdehnung.

Überlegene mechanische Aufprallwiderstand und Elastizität.

Hohe Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit.

Hergestellt mitPlasma-verstärkte chemische Dampfabscheidung (PECVD)Techniken, unsere SIC -Fokussierringe entsprechen den zunehmenden Anforderungen an Radierungsprozesse bei der Herstellung von Halbleitern. Sie sind so konzipiert, dass sie einer höheren Plasma -Leistung und -ergie standhalten, insbesondere inkapazitiv gekoppeltes Plasma (CCP)Systeme.

Die SIC -Fokussierringe von Vetek Semiconductor bieten eine außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von Halbleitern. Wählen Sie unsere SIC -Komponenten für überlegene Qualität und Effizienz.


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Solide SiC-Fokusringe

Solide SiC-Fokusringe

Der solide SiC-Fokusring ist so konzipiert, dass er die Wafer-Tracking-Zone umgibt und sorgt für eine lineare Plasmaverteilung und exakte Ätzprofile von Kante zu Mitte. Diese hochwertigen β-SiC-Komponenten werden von Vetek Semiconductor (Wuyi Tianyao New Material Technology Co., LTD) unter Verwendung der proprietären CVD-Technologie (Chemical Vapour Deposition) hergestellt. Durch die Verdampfung von Rohstoffen zu einer dichten, bindemittelfreien Matrix beseitigt Vetek die porösen Mikrospalten, die bei älteren Materialien häufig vorkommen. Im Vergleich zu Standard-Quarz- oder Silizium-Abschirmungen halten unsere CVD-SiC-Komponenten korrosiven Halogengasen weitaus besser stand und schirmen den Wafer bei der Herstellung von tiefen Sub-7-nm-Logik- und dichten Speicherchips ab. Wir freuen uns auf Ihre weitere Anfrage.
Massiver Fokussierring aus Siliziumkarbid

Massiver Fokussierring aus Siliziumkarbid

Der Fokussierungsring aus festem Siliziumkarbid (SiC) von Veteksemicon ist eine wichtige Verbrauchskomponente, die in fortschrittlichen Halbleiterepitaxie- und Plasmaätzprozessen verwendet wird, bei denen eine präzise Steuerung der Plasmaverteilung, der thermischen Gleichmäßigkeit und der Waferkanteneffekte von entscheidender Bedeutung ist. Dieser aus hochreinem massivem Siliziumkarbid gefertigte Fokussierring weist eine außergewöhnliche Plasmaerosionsbeständigkeit, Hochtemperaturstabilität und chemische Inertheit auf und ermöglicht so eine zuverlässige Leistung unter aggressiven Prozessbedingungen. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.
Fokusring aus Siliziumkarbid

Fokusring aus Siliziumkarbid

Der Veteksemicon-Fokusring wurde speziell für anspruchsvolle Halbleiter-Ätzgeräte entwickelt, insbesondere für SiC-Ätzanwendungen. Seine Hauptfunktion besteht darin, die Verteilung des elektromagnetischen Feldes innerhalb der Reaktionskammer zu optimieren und so eine gleichmäßige und fokussierte Plasmawirkung über die gesamte Waferoberfläche sicherzustellen. Ein Hochleistungs-Fokusring verbessert die Gleichmäßigkeit der Ätzrate erheblich und reduziert Kanteneffekte, wodurch die Produktausbeute und die Produktionseffizienz direkt gesteigert werden.
Massiver SiC-Fokusring

Massiver SiC-Fokusring

Der solide SiC-Fokusring von Veteksemi verbessert die Gleichmäßigkeit des Ätzens und die Prozessstabilität erheblich, indem er das elektrische Feld und den Luftstrom am Waferrand präzise steuert. Es wird häufig in Präzisionsätzprozessen für Silizium, Dielektrika und Verbindungshalbleitermaterialien eingesetzt und ist eine Schlüsselkomponente zur Gewährleistung der Massenproduktionsausbeute und eines langfristig zuverlässigen Gerätebetriebs.
CVD sic beschichtete Graphit -Duschkopf

CVD sic beschichtete Graphit -Duschkopf

Der CVD SIC Coated Graphit-Duschkopf von Vetekememon ist eine Hochleistungskomponente, die speziell für die Prozesse zur Ablagerung des Halbleiterchemikas Dampf (CVD) ausgelegt ist. Dieser Duschkopf wird aus hochreinigem Graphit hergestellt und mit einer Siliziumcarbidbeschichtung (SIC) für chemische Dampfablagerung (CVD) geschützt und bietet herausragende Haltbarkeit, thermische Stabilität und Widerstand gegen korrosive Prozessgase. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.
Sic Randring

Sic Randring

Vetekemicon High-Purity-SIC-Kantenringe, speziell für Halbleiter-Ätzgeräte ausgelegt, verfügen

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


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