Produkte

Technischer Service

1.Reinigung und Kartierungen

Die technischen Dienstleistungen von VeTek Semiconductor umfassen die Reinigung und Kartierung verschiedener Halbleitermaterialien mit dem Ziel, Kunden hochwertige Halbleitermaterialien für eine Vielzahl von Anwendungen bereitzustellen. Wir verfügen über fortschrittliche Reinigungstechnologie und -ausrüstung, um Verunreinigungen effektiv zu entfernen und so die Reinheit von Halbleitermaterialien zu erhöhen. Unser Reinigungsprozess ist sorgfältig konzipiert und umfasst mehrere Schritte und eine strenge Qualitätskontrolle, um die hervorragende Reinheit und Stabilität der bereitgestellten Materialien sicherzustellen.

Gleichzeitig sind wir bestrebt, unseren Kunden genaue und zuverlässige Kartendienste anzubieten. Wir verfügen über fortschrittliche Testgeräte und -instrumente und können auf ein erfahrenes professionelles Team zurückgreifen, das umfassende Messungen und Analysen der Eigenschaften von Halbleitermaterialien durchführen kann. Unsere Kartierungsarbeiten umfassen Tests der elektrischen Eigenschaften, der Zusammensetzung, der Reinheit, der physikalischen Eigenschaften usw. sowie eingehende Studien zur Materialstruktur und -zusammensetzung. Durch die Kartierung können wir detaillierte Daten und Informationen erhalten, um Kunden eine genaue Einschätzung der Materialeigenschaften und relevante Empfehlungen zu liefern.

GDMS GDMS D-SIMS D-SIMS Coordinate measuring machine Koordinatenmessgerät

2. Maschinenfähigkeit

VeTek Semiconductor verfügt über führende Bearbeitungsfähigkeiten und Erfahrung für Graphit, Siliziumkarbid und andere Halbleiterprodukte, die den hohen Präzisions- und Reinheitsgraden der Kunden gerecht werden können.

Hohe Qualitäts- und sonstige Verarbeitungsanforderungen. Die von uns verwendeten Werkzeuge, der Schneidprozess und die Materialauswahl werden ebenfalls sorgfältig optimiert, um eine Kontrolle der Mikrometergröße und Kontrolle des Produkts zu erreichen

Hohe Oberflächenqualität. Wir achten auf Qualitätskontrolle und Prozessoptimierung im Verarbeitungsprozess und führen eine Echtzeitüberwachung und -kontrolle wichtiger Parameter im Verarbeitungsprozess durch, um die Qualität der Produkte sicherzustellen

Konsistenz und Stabilität. Darüber hinaus implementieren wir ein strenges Qualitätsmanagementsystem, um sicherzustellen, dass die Produkte gemäß den Kundenanforderungen und Industriestandards verarbeitet werden, und führen umfassende Qualitätsprüfungen durch.

Wir werden kontinuierlich in die Verbesserung der Ausrüstung und technologische Innovation investieren, um den wachsenden Anforderungen unserer Kunden gerecht zu werden und ihnen erstklassige Lösungen und Support zu bieten.

3. Lösung der thermischen Feldmodifikation

Im Hinblick auf das Design und die Umwandlung von elektromagnetischen Feldern kann unser Unternehmen das Design und die Serienlieferung von Czochra-Einkristallen, Gusspolykristallen, Gallilumarsenid, Zinkselenid, Saphir, Siliziumkarbid und anderen verschiedenen Industriegeräten abschließen. Gleichzeitig verfügen wir für die mechanisch-thermische Berechnung verschiedener Strukturen, Komponenten und Atmosphären in unterschiedlichen Hochtemperaturumgebungen auch über professionelle Modellierungs- und Simulationsrechenfunktionen, die unseren Kunden professionelle Designoptimierungsprogramme und -vorschläge bieten können.

Technical Service


Hauptmerkmale

  • Materialreinigung und -kartierung: Mehrstufige Reinigung und umfassende Charakterisierung (elektrisch, Zusammensetzung, Reinheit, Struktur) für hochwertige Halbleitermaterialien.
  • Präzisionsbearbeitung: führende Fähigkeit für Graphit-, Siliziumkarbid- und andere Halbleiterteile mit Maßkontrolle im Mikrometerbereich und hoher Oberflächenqualität.
  • Wärmefelddesign und -modifikation: Design und Lieferung für Czochralski-, Guss-, GaAs-, ZnSe-, Saphir-, SiC- und andere Systeme sowie thermische Simulation und Optimierung.
  • Reinigung von CVD-SiC-beschichteten Teilen: Spezialreinigung für MOCVD-Suszeptoren und Graphitkomponenten ohne Schichtdickenverlust und ohne Metallrückstände.
  • Ausrüstungslösungen: großformatige SiC-Kristallzüchtungsöfen mit Widerstandsheizung, die das Kristallwachstum von 6–12 Zoll mit präziser Prozesssteuerung unterstützen.


Anwendungen

Um den vielfältigen Anforderungen der Kunden von Halbleitermaterialien und -geräten gerecht zu werden, bietet VeTek gezielte technische Dienstleistungen an. In der folgenden Tabelle werden sie nach Hauptdienstbereichen klassifiziert:

Servicebereich Typische Dienstleistungen/Produkte Anwendungsbeschreibung
Materialreinigung und -kartierung Reinigungsprozesse; Elektrik / Zusammensetzung / Reinheit / Strukturprüfung und -analyse Entfernen Sie Verunreinigungen und charakterisieren Sie Halbleitermaterialien vollständig, um eine hohe Reinheit, Stabilität und genaue Eigenschaftsbewertung für verschiedene Anwendungen sicherzustellen.
Präzisionsbearbeitung Bearbeitung von Graphit, Siliziumkarbid und anderen Halbleiterprodukten Hochpräzise, ​​hochreine Bearbeitung mit mikrometergenauer Kontrolle und hoher Oberflächenqualität für Graphit- und SiC-Komponenten, die in Halbleitergeräten verwendet werden.
Wärmefelddesign und -modifikation Wärmefelddesign und Chargenversorgung; thermische Simulation und Optimierung Entwurf und Lieferung von Wärmefeldern für Czochralski-, Guss-, GaAs-, ZnSe-, Saphir-, SiC- und andere Systeme; Mechanisch-thermische Berechnung und Designoptimierung unter Hochtemperaturbedingungen.
Teilereinigung (CVD SiC) CVD-SiC-Beschichtungs-Graphitteile-Reinigungsservice Spezialreinigung für Aixtron/Veeco MOCVD-Suszeptoren und Graphitteile in GaN/AlN/AlGaN epi; Beseitigt den Memory-Effekt und schützt die CVD-SiC-Beschichtung (kein Dickenverlust, keine Metallrückstände).
Kristallwachstumsausrüstung Großer SiC-Kristallwachstumsofen mit Widerstandsheizung Widerstandsheizöfen auf PVT-Basis für stabiles 6–12-Zoll-SiC-Kristallwachstum; Präzise Steuerung von Temperatur, Druck und Leistung zur Reduzierung von Fehlern und zur Unterstützung der industriellen Produktion.

Informationen zu verwandten Materialien und Prozesslösungen finden Sie imSiliziumkarbidbeschichtung, SpezialgraphitUndSiliziumkarbid-EpitaxieSeiten


Als professioneller Hersteller und Lieferant technischer Dienstleistungen in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder einen fortschrittlichen und langlebigen technischen Service aus China kaufen möchten, Sie können dies tunhinterlassen Sie uns eine Nachricht.

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CVD-SiC-Beschichtungs-Graphitteile-Reinigungsservice

CVD-SiC-Beschichtungs-Graphitteile-Reinigungsservice

Der professionelle VETEK-Reinigungsservice für CVD-SiC-beschichtete Graphitteile ist ein spezialisierter technischer Service, der für MOCVD-Gerätesuszeptoren und Graphitkomponenten von Aixtron/Veeco entwickelt wurde, die in GaN/AlN/AlGaN-Epitaxieprozessen verwendet werden. Unser firmeneigener Reinigungsprozess eliminiert den Oberflächen-Memory-Effekt gründlich, stellt einen stabilen Gasfluss im Reaktor wieder her und schützt die 100 µm CVD-SiC-Beschichtung streng ohne Dickenverlust und ohne Metallrückstände.
Großer SiC-Kristallwachstumsofen mit Widerstandsheizung

Großer SiC-Kristallwachstumsofen mit Widerstandsheizung

Das Kristallwachstum von Siliziumkarbid ist ein Kernprozess bei der Herstellung von Hochleistungshalbleiterbauelementen. Die Stabilität, Präzision und Kompatibilität von Kristallwachstumsgeräten bestimmen direkt die Qualität und Ausbeute von Siliziumkarbid-Ingots. Basierend auf den Eigenschaften der Physical Vapour Transport (PVT)-Technologie hat Veteksemi einen Widerstandsheizofen für das Siliziumkarbid-Kristallwachstum entwickelt, der ein stabiles Wachstum von 6-Zoll-, 8-Zoll- und 12-Zoll-Siliziumkarbid-Kristallen bei voller Kompatibilität mit leitfähigen, halbisolierenden und N-Typ-Materialsystemen ermöglicht. Durch die präzise Steuerung von Temperatur, Druck und Leistung werden Kristalldefekte wie EPD (Etch Pit Density) und BPD (Basal Plane Dislocation) effektiv reduziert. Gleichzeitig zeichnet es sich durch einen geringen Energieverbrauch und ein kompaktes Design aus, um den hohen Standards der industriellen Großproduktion gerecht zu werden.
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