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Oxidation und Diffusionsofen

Oxidations- und Diffusionsöfen werden in verschiedenen Bereichen wie Halbleitergeräten, diskreten Geräten, optoelektronischen Geräten, elektronischen Geräten mit Stromversorgung, Solarzellen und großem Maßstab integrierter Schaltkreis hergestellt. Sie werden für Prozesse verwendet, einschließlich Diffusion, Oxidation, Tempern, Legierung und Sintern von Wafern.


Vetek Semiconductor ist ein führender Hersteller, der sich auf die Herstellung von hochreinheitlichen Graphit-, Siliziumcarbid- und Quarzkomponenten in Oxidations- und Diffusionsöfen spezialisiert hat. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Ofenkomponenten für die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie bereitzustellen, und stehen an der Spitze der Oberflächenbeschichtungstechnologie wie CVD-SIC, CVD-TAC, Pyrokohlenstoff usw.


Die Vorteile von Vetek -Halbleiter -Silizium -Carbid -Komponenten:

● Hochtemperaturwiderstand (bis zu 1600 ℃)

● Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und thermische Stabilität

● Gute chemische Korrosionsbeständigkeit

● Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient

● hohe Stärke und Härte

● Langes Lebensdauer


Bei Oxidations- und Diffusionsöfen benötigen viele Komponenten aufgrund des Vorhandenseins von hohen Temperaturen und korrosiven Gasen die Verwendung von Hochtemperatur- und korrosionsbeständigen Materialien, von denen Siliziumkarbid (SIC) häufig verwendet wird. Im Folgenden finden Sie häufige Siliziumcarbidkomponenten in Oxidationsöfen und Diffusionsöfen:



● Waferboot

Das Silizium -Carbid -Waferboot ist ein Behälter, mit dem Siliziumwafer getragen werden können und die hohen Temperaturen standhalten und nicht mit Siliziumwafern reagieren können.


● Ofenrohr

Das Ofenrohr ist die Kernkomponente des Diffusionsofens, mit dem Siliziumwaffeln untergebracht und die Reaktionsumgebung gesteuert werden. Siliziumkarbidofenofenröhrchen haben eine ausgezeichnete Leistung mit hoher Temperatur und Korrosionsbeständigkeit.


● Schallplatte

Wird verwendet, um den Luftstrom und die Temperaturverteilung im Ofen zu regulieren


● Thermoelement -Schutzrohr

Wird zum Schutz der Temperaturmessung von Thermoelementen vor direktem Kontakt mit korrosiven Gasen.


● Cantilever Paddel

Silizium -Carbid -Ausleger -Paddel sind gegen hohe Temperatur und Korrosion resistent und werden zum Transport von Siliziumbooten oder Quarzbooten verwendet, die Siliziumwafer in die Diffusionsofenröhrchen tragen.


● Gasinjektor

Es wird verwendet, um Reaktionsgas in den Ofen einzuführen, und muss gegen hohe Temperatur und Korrosion resistent sein.


● Bootsträger

Siliziumkarbid -Wafer -Bootsanbieter wird verwendet, um Siliziumwafer zu reparieren und zu unterstützen, die Vorteile wie hohe Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und gute strukturelle Stabilität haben.


● Ofentür

In der Innenseite der Ofentür können auch Siliziumkarbidbeschichtungen oder Komponenten verwendet werden.


● Heizelement

Siliziumkarbidheizelemente sind für hohe Temperaturen und hohe Leistung geeignet und können die Temperaturen schnell auf über 1000 ° C erhöhen.


● SIC -Liner

Wird zum Schutz der inneren Wand der Ofenrohre verwendet, kann es helfen, den Verlust von Wärmeenergie zu verringern und harte Umgebungen wie hohe Temperatur und hohen Druck zu standzuhalten.

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Silizium -Carbid -Roboterarm

Silizium -Carbid -Roboterarm

Unser Roboterarm des Siliciumcarbids (SIC) ist für die Handhabung von Hochleistungswafern in der Herstellung fortschrittlicher Halbleiter ausgelegt. Dieser Roboterarm aus hohem Siliziumcarbid aus hoher Purität bietet einen außergewöhnlichen Widerstand gegen hohe Temperaturen, Plasmakorrosion und chemische Angriffe, um einen zuverlässigen Betrieb in anspruchsvollen Reinraumumgebungen zu gewährleisten. Die außergewöhnliche mechanische Festigkeit und die dimensionale Stabilität ermöglichen eine präzise Handhabung des Wafers und minimieren Kontaminationsrisiken und machen es zu einer idealen Wahl für MOCVD, Epitaxie, Ionenimplantation und andere Anwendungen für kritische Waferhandhabungen. Wir begrüßen Ihre Anfragen.
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Silizium -Carbide -Waferboot

Silizium -Carbide -Waferboot

Vetekemicon SIC-Waferboote werden in kritischen Hochtemperaturprozessen bei der Herstellung von Halbleiter häufig eingesetzt und dienen als zuverlässige Träger für Oxidations-, Diffusions- und Glühprozesse für integrierte Kreisläufe auf Siliziumbasis. Sie zeichnen sich auch im Halbleitersektor der dritten Generation aus und eignen sich perfekt für anspruchsvolle Prozesse wie epitaxiale Wachstum (EPI) und metallorganische chemische Dampfablagerung (MOCVD) für SIC- und GaN-Stromversorgungsgeräte. Sie unterstützen auch die Hochtemperaturherstellung hocheffizienter Solarzellen in der Photovoltaikindustrie. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.
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Sic Cantilever Paddles

Sic Cantilever Paddles

Vetekemicon Sic Cantilever Paddles sind hochpurige Silizium-Carbid-Stützarme, die für die Waferhandhabung in horizontalen Diffusionsöfen und epitaxialen Reaktoren ausgelegt sind. Mit außergewöhnlicher thermischer Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und mechanischer Stärke sorgen diese Paddel bei der anspruchsvollen Halbleiterumgebung. Erhältlich in benutzerdefinierten Größen und optimiert für eine lange Lebensdauer.
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SIC -Keramikmembran

SIC -Keramikmembran

Vetekemicon SIC -Keramikmembranen sind eine Art anorganischer Membran und gehören zu festen Membranmaterialien in der Membran -Trennungstechnologie. SIC -Membranen werden mit einer Temperatur über 2000 ℃ abgefeuert. Die Oberfläche der Partikel ist glatt und rund. Es gibt keine geschlossenen Poren oder Kanäle in der Stützschicht und jeder Schicht. Sie bestehen normalerweise aus drei Schichten mit unterschiedlichen Porengrößen.
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Poröse Sic -Keramikplatte

Poröse Sic -Keramikplatte

Unsere porösen Sic -Keramikplatten sind poröse Keramikmaterialien aus Siliziumkarbid als Hauptkomponente und verarbeitet durch spezielle Prozesse. Sie sind unverzichtbare Materialien bei der Herstellung von Halbleiter, der chemischen Dampfablagerung (CVD) und anderen Prozessen.
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Sic Ceramics Wafer Boat

Sic Ceramics Wafer Boat

Vetek Semiconductor ist ein führender Hersteller, Hersteller und Fabrik in China. Unser SIC -Keramik -Waferboot ist eine wichtige Komponente bei fortgeschrittenen Waferhandhabungsprozessen und sorgt für die Photovoltaik-, Elektronik- und Halbleiterindustrie. Ich freue mich auf Ihre Beratung.
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Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.


Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.


Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.


For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.


Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Oxidation und Diffusionsofen in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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