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Spezialgraphit

VeTek Semiconductor bietet Spezialgraphit wie silikonisierten Graphit, pyrolytischen Kohlenstoff, porösen Graphit, glasartige Kohlenstoffbeschichtung, hochreine Graphitfolie und hochreinen isostatischen Graphit an. Dies sind verschiedene Arten von Spezialgraphitmaterialien, die gemeinsame Eigenschaften und Anwendungen haben. Hier ist eine kurze Einführung in ihre Funktionen und Anwendungen:


Silikonisierter Graphit: Silikonisierter Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial, das durch die Kombination von Graphit mit Siliziumverbindungen entsteht. Es weist eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und mechanische Eigenschaften auf. Silikonisierter Graphit wird häufig in Hochtemperaturöfen, korrosionsbeständigen Geräten und in der Halbleiterfertigung verwendet.

Pyrolytischer Kohlenstoff: Pyrolytischer Kohlenstoff ist ein Kohlenstoffmaterial, das durch Hochtemperaturpyrolyse organischer Substanzen wie Kohle und Petrolkoks gewonnen wird. Es zeichnet sich durch hohe Reinheit, Dichte, Festigkeit und geringe elektrische Leitfähigkeit aus. Pyrolytischer Kohlenstoff findet breite Anwendung als Hochtemperaturmaterialien und Strukturkomponenten in der Halbleiterindustrie, chemischen Ausrüstung, Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen.

Poröser Graphit: Poröser Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial mit mikro- und mesoporösen Strukturen. Es verfügt über eine große spezifische Oberfläche und Porosität und bietet hervorragende Adsorptions- und Wärmeleitfähigkeitseigenschaften. Poröser Graphit wird üblicherweise bei der Gastrennung, der SiC-Kristallzüchtung und anderen Anwendungen verwendet.

Glaskohlenstoffbeschichtung: Glaskohlenstoffbeschichtung bezieht sich auf die Technik, glasartiges Kohlenstoffmaterial als Oberflächenbeschichtung aufzutragen. Es weist eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und elektrische Leitfähigkeit auf. Glaskohlenstoffbeschichtungen werden häufig in korrosionsbeständigen Beschichtungen, Beschichtungsmaterialien für Elektronenstrahlkanonen und anderen Halbleiterbereichen eingesetzt.

Hochreiner isostatischer Graphit: Hochreiner isostatischer Graphit ist ein hochreines Spezialgraphitmaterial, das durch ein isostatisches Hochtemperatur-Pressverfahren hergestellt wird. Es zeichnet sich durch eine gleichmäßige Mikrostruktur, eine hohe Dichte und einen niedrigen Sauerstoffgehalt aus. Hochreiner isostatischer Graphit wird in großem Umfang in der Präzisionsbearbeitung, in Wärmeableitungsmaterialien, in der Halbleiterfertigung, in der Photovoltaik, in der Luft- und Raumfahrt und in anderen Branchen eingesetzt.


Hochreines Graphitpapier ist ein Spezialmaterial für die Halbleiterindustrie. Mit seiner außergewöhnlichen thermischen und elektrischen Leitfähigkeit spielt es eine entscheidende Rolle in Anwendungen wie Kühlkörpern, thermischen Schnittstellenmaterialien und elektrischer Isolierung. Die leichte und flexible Beschaffenheit von hochreinem Graphitpapier macht es ideal für die Verbesserung des Wärmemanagements und die Optimierung der Leistung von Halbleiterbauelementen. Seine hohe Reinheit (Verunreinigung unter 5 ppm) gewährleistet einen zuverlässigen und effizienten Betrieb und macht es zu einer wertvollen Komponente bei der Herstellung und Montage von Halbleitern.


Diese speziellen Graphitwerkstoffe bieten in ihren jeweiligen Einsatzgebieten einzigartige Eigenschaften und Anwendungsvorteile. Sie spielen eine entscheidende Rolle in Hochtemperaturumgebungen, Korrosionsbeständigkeit, Elektronik, Energie, Chemietechnik, Luft- und Raumfahrt sowie in der Halbleiterindustrie und bieten wesentliche Unterstützung für Fortschritte und Innovationen in diesen Sektoren.



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Graphitschiffchen für PECVD

Graphitschiffchen für PECVD

Das Veteksemicon-Graphitboot für PECVD ist präzisionsgefertigt aus hochreinem Graphit und speziell für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidungsprozesse konzipiert. Wir nutzen unser umfassendes Wissen über Halbleiter-Wärmefeldmaterialien und Präzisionsbearbeitungsmöglichkeiten und bieten Graphitschiffchen mit außergewöhnlicher thermischer Stabilität, ausgezeichneter Leitfähigkeit und langer Lebensdauer. Diese Boote sind so konzipiert, dass sie in der anspruchsvollen PECVD-Prozessumgebung eine äußerst gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf jedem Wafer gewährleisten und so die Prozessausbeute und Produktivität verbessern.
Glasiger Kohlenstoff Crucible

Glasiger Kohlenstoff Crucible

Als führender chinesischer Hersteller von glasigen Kohlenstoffprodukten werden die glasigen Kohlenstoffkranz von Vetekememon aufgrund ihrer hervorragenden ultrahohen Reinheit, Nullporosität, Anti-Permeation und hervorragender chemischer Korrosionsresistenz im Halbleiter-Produktionsfeld häufig verwendet und von europäischen und amerikanischen Kunden ein hohes Lob gewonnen. Willkommen zu Ihrer Anfrage.
Graphitpapier

Graphitpapier

Vetek Semiconductor's High Purity Graphit Paper, ein Premium -Produkt, das für strenge Reinheit und Leistungsstandards entworfen wurde. Mit einem außergewöhnlichen Reinheit von bis zu 99,9%gilt unser Graphitpapier als vertrauenswürdige Option für verschiedene Anwendungen wie Batteriesysteme, Brennstoffzellen, thermische Managementlösungen, thermische Felder mit Halbleiterthermie und darüber hinaus. Dieses Graphitpapier durch ein proprietäres Herstellungsprozess garantiert eine Gleichmäßigkeit und Konsistenz und liefert eine beispiellose elektrische Leitfähigkeit und thermische Stabilität. Vertrauen Sie Vetek Semiconductor's High Purity Graphit Paper für Zuverlässigkeit und Exzellenz in Ihren speziellen Projekten.
Hochreinheit Graphitleistung

Hochreinheit Graphitleistung

Vetek Semiconductor bietet eine hochrangige Graphitleistung, die ein hochwertiges Produkt mit einer Reinheit von bis zu 5 ppm ist und die höchsten Branchenstandards erfüllt. Anpassbare Partikelform, hauptsächlich für Siliziumkarbidpulver und Diamantsynthese, geeignet für Halbleiter, Elektronik und High-Tech-Industrie. Willkommen bei Inquiry uns!
EDM Graphitelektrode

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EDM-Graphitelektroden zeichnen sich durch mäßige Dichte, glatte Oberfläche und niedrige Kosten aus und eignen sich für die chemische Industrie, das Schmelzen von Metallen usw. VeTek Semiconductor verfügt über starke Produktionskapazitäten und umfangreiche Exporterfahrung bei EDM-Graphitelektrodenprodukten. Gerne können Sie sich jederzeit bei uns erkundigen.
Ionenstrahl-Sputterquellen-Gitter

Ionenstrahl-Sputterquellen-Gitter

Ionenstrahlen werden hauptsächlich zum Ionenätzen, zur Ionenbeschichtung und zur Plasmainjektion verwendet. Die Aufgabe des Ionenstrahl-Sputter-Quellengitters besteht darin, die Ionen zu zerlegen und auf die erforderliche Energie zu beschleunigen. Vetek Semiconductor bietet hochreine Graphit-Ionenstrahl-Ionenstrahl-Sputterquellengitter für das Ionenstrahlpolieren optischer Linsen, die Modifikation von Halbleiterwafern usw. Gerne können Sie sich nach kundenspezifischen Produkten erkundigen.
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Spezialgraphit in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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