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Spezialgraphit

VeTek Semiconductor bietet Spezialgraphit wie silikonisierten Graphit, pyrolytischen Kohlenstoff, porösen Graphit, glasartige Kohlenstoffbeschichtung, hochreine Graphitfolie und hochreinen isostatischen Graphit an. Dies sind verschiedene Arten von Spezialgraphitmaterialien, die gemeinsame Eigenschaften und Anwendungen haben. Hier ist eine kurze Einführung in ihre Funktionen und Anwendungen:


Silikonisierter Graphit: Silikonisierter Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial, das durch die Kombination von Graphit mit Siliziumverbindungen entsteht. Es weist eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und mechanische Eigenschaften auf. Silikonisierter Graphit wird häufig in Hochtemperaturöfen, korrosionsbeständigen Geräten und in der Halbleiterfertigung verwendet.

Pyrolytischer Kohlenstoff: Pyrolytischer Kohlenstoff ist ein Kohlenstoffmaterial, das durch Hochtemperaturpyrolyse organischer Substanzen wie Kohle und Petrolkoks gewonnen wird. Es zeichnet sich durch hohe Reinheit, Dichte, Festigkeit und geringe elektrische Leitfähigkeit aus. Pyrolytischer Kohlenstoff findet breite Anwendung als Hochtemperaturmaterialien und Strukturkomponenten in der Halbleiterindustrie, chemischen Ausrüstung, Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen.

Poröser Graphit: Poröser Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial mit mikro- und mesoporösen Strukturen. Es verfügt über eine große spezifische Oberfläche und Porosität und bietet hervorragende Adsorptions- und Wärmeleitfähigkeitseigenschaften. Poröser Graphit wird üblicherweise bei der Gastrennung, der SiC-Kristallzüchtung und anderen Anwendungen verwendet.

Glaskohlenstoffbeschichtung: Glaskohlenstoffbeschichtung bezieht sich auf die Technik, glasartiges Kohlenstoffmaterial als Oberflächenbeschichtung aufzutragen. Es weist eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und elektrische Leitfähigkeit auf. Glaskohlenstoffbeschichtungen werden häufig in korrosionsbeständigen Beschichtungen, Beschichtungsmaterialien für Elektronenstrahlkanonen und anderen Halbleiterbereichen eingesetzt.

Hochreiner isostatischer Graphit: Hochreiner isostatischer Graphit ist ein hochreines Spezialgraphitmaterial, das durch ein isostatisches Hochtemperatur-Pressverfahren hergestellt wird. Es zeichnet sich durch eine gleichmäßige Mikrostruktur, eine hohe Dichte und einen niedrigen Sauerstoffgehalt aus. Hochreiner isostatischer Graphit wird in großem Umfang in der Präzisionsbearbeitung, in Wärmeableitungsmaterialien, in der Halbleiterfertigung, in der Photovoltaik, in der Luft- und Raumfahrt und in anderen Branchen eingesetzt.


Hochreines Graphitpapier ist ein Spezialmaterial für die Halbleiterindustrie. Mit seiner außergewöhnlichen thermischen und elektrischen Leitfähigkeit spielt es eine entscheidende Rolle in Anwendungen wie Kühlkörpern, thermischen Schnittstellenmaterialien und elektrischer Isolierung. Die leichte und flexible Beschaffenheit von hochreinem Graphitpapier macht es ideal für die Verbesserung des Wärmemanagements und die Optimierung der Leistung von Halbleiterbauelementen. Seine hohe Reinheit (Verunreinigung unter 5 ppm) gewährleistet einen zuverlässigen und effizienten Betrieb und macht es zu einer wertvollen Komponente bei der Herstellung und Montage von Halbleitern.


Diese speziellen Graphitwerkstoffe bieten in ihren jeweiligen Einsatzgebieten einzigartige Eigenschaften und Anwendungsvorteile. Sie spielen eine entscheidende Rolle in Hochtemperaturumgebungen, Korrosionsbeständigkeit, Elektronik, Energie, Chemietechnik, Luft- und Raumfahrt sowie in der Halbleiterindustrie und bieten wesentliche Unterstützung für Fortschritte und Innovationen in diesen Sektoren.


Pyrolytic Graphite Coated Graphite Elements Mit Pyrolysegraphit beschichtete Graphitelemente Glassy Carbon Coated Graphite Crucible Mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel High Purity Porous Graphite Hochreiner poröser Graphit Three-petal Graphite Crucible Dreiblättriger isostatischer Graphittiegel High Purity Graphite Paper Hochreines Graphitpapier PECVD Graphite Boat PECVD-Graphitboot



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Hochreines Siliziumkarbid (SiC)-Pulver

Hochreines Siliziumkarbid (SiC)-Pulver

Das hochreine Siliziumkarbid-Pulver (SiC) von VeTek Semiconductor wurde speziell für das SiC-Kristallwachstum, Halbleitermaterialien und fortschrittliche Keramikanwendungen entwickelt. Durch fortschrittliche Reinigungstechnologie und strenge Qualitätskontrolle bietet unser SiC-Pulver einen extrem niedrigen Verunreinigungsgrad, eine stabile Partikelverteilung und eine hervorragende Konsistenz für anspruchsvolle Herstellungsprozesse.
Mit Pyrolytischem Kohlenstoff (PyC) beschichteter Graphitring

Mit Pyrolytischem Kohlenstoff (PyC) beschichteter Graphitring

In SiC-PVT-Kristallzüchtungsanlagen werden Graphitteile über lange Zeiträume bei sehr hohen Temperaturen betrieben. Der PyC-beschichtete Graphitring von VeTek ist für diese Art von Einsatz konzipiert. Per CVD wird eine pyrolytische Kohlenstoffschicht auf hochreinem Graphit abgeschieden. Dadurch erhält das Teil eine bessere Oberflächenstabilität und es lösen sich im Betrieb weniger Partikel. Normalerweise platzieren Sie es im Wärmefeldbereich, um die Dampfströmung und die Wärmeausbreitung im Ofen zu steuern. Die Beschichtung verlangsamt außerdem die Graphitsublimation bei Temperaturen über 2200 °C, was die Lebensdauer des gesamten Bauteils verlängert.
Maßgeschneiderte Graphitheizung für die heiße Zone

Maßgeschneiderte Graphitheizung für die heiße Zone

Bei der Halbleiterfertigung und fortschrittlichen Materialverarbeitung bestimmen die Stabilität und Reinheit des Wärmefelds direkt die Wettbewerbsfähigkeit des Endprodukts. VETEK widmet sich der Forschung und Entwicklung sowie der Herstellung von Hochleistungs-Graphitheizsystemen und bietet zuverlässige Lösungen für MOCVD, SiC-Epitaxie und verschiedene Hochtemperatur-Vakuumöfen.
Führungsring aus porösem Graphit

Führungsring aus porösem Graphit

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von Führungsringen aus porösem Graphit in China. Wir bieten nicht nur fortschrittliche und langlebige Führungsringe aus porösem Graphit, sondern unterstützen auch maßgeschneiderte Dienstleistungen. Willkommen beim Kauf eines Führungsrings aus porösem Graphit in unserer Fabrik.
Graphitschiffchen für PECVD

Graphitschiffchen für PECVD

Das Veteksemicon-Graphitboot für PECVD ist präzisionsgefertigt aus hochreinem Graphit und speziell für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidungsprozesse konzipiert. Wir nutzen unser umfassendes Wissen über Halbleiter-Wärmefeldmaterialien und Präzisionsbearbeitungsmöglichkeiten und bieten Graphitschiffchen mit außergewöhnlicher thermischer Stabilität, ausgezeichneter Leitfähigkeit und langer Lebensdauer. Diese Boote sind so konzipiert, dass sie in der anspruchsvollen PECVD-Prozessumgebung eine äußerst gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf jedem Wafer gewährleisten und so die Prozessausbeute und Produktivität verbessern.
Glasiger Kohlenstoff Crucible

Glasiger Kohlenstoff Crucible

Als führender chinesischer Hersteller von glasigen Kohlenstoffprodukten werden die glasigen Kohlenstoffkranz von Vetekememon aufgrund ihrer hervorragenden ultrahohen Reinheit, Nullporosität, Anti-Permeation und hervorragender chemischer Korrosionsresistenz im Halbleiter-Produktionsfeld häufig verwendet und von europäischen und amerikanischen Kunden ein hohes Lob gewonnen. Willkommen zu Ihrer Anfrage.
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Spezialgraphit in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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