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VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller von hochwertigem Graphit-Weichfilz, der sich auf die Entwicklung und Produktion innovativer Lösungen für die Photovoltaik- und Halbleiterindustrie spezialisiert hat. Unser Forschungs- und Entwicklungsteam besteht aus einer Gruppe erfahrener und innovativer Experten. Wir erforschen ständig neue Technologien und Anwendungen, um die Leistung von Graphit-Weichfilzen zu verbessern und den sich ändernden Anforderungen der Branche gerecht zu werden.
1. Hervorragende Isolationsleistung: Es kann den Wärmeverlust effektiv reduzieren, eine stabile Temperaturumgebung im Inneren der Ausrüstung aufrechterhalten und den Energieverbrauch senken.
2. Gute Hochtemperaturbeständigkeit: Weichfilz ist in der Lage, unter Hochtemperaturbedingungen stabile physikalische und chemische Eigenschaften beizubehalten und Hochtemperaturumgebungen in Photovoltaik- und Halbleiterproduktionsprozessen standzuhalten.
3. Geringe Wärmeleitfähigkeit: Trägt zu einer präzisen Temperaturkontrolle bei und verbessert die Prozessstabilität und Produktqualität.
4. Hohe chemische Stabilität: Es weist eine gute Beständigkeit gegenüber den meisten chemischen Substanzen auf und ist nicht leicht zu korrodieren oder zu verunreinigen.
5. Hohe Reinheit: Reduziert die Beeinträchtigung von Photovoltaik- und Halbleiterproduktionsprozessen durch Verunreinigungen und gewährleistet so die Leistung und Qualität des Produkts.
6. Gute Thermoschockbeständigkeit: Hält schnellen Temperaturschwankungen stand und bricht oder beschädigt nicht so leicht.
1. Wärmefeldkomponenten eines Einkristallofens: In einem Czochralski-Einkristallofen kann Graphitweichfilz als Isoliermaterial verwendet werden, um den Temperaturgradienten im Ofen effektiv aufrechtzuerhalten und die Qualität und Stabilität des Kristallwachstums zu verbessern.
2. Polykristalliner Ingot-Ofen: Als Wärmedämmmaterial reduziert es den Wärmeverlust, optimiert die Wärmefeldverteilung und trägt zur Verbesserung der Qualität und Produktionseffizienz von polykristallinen Silizium-Ingots bei.
3. Diffusionsofen: dient der Isolierung, sorgt für eine gleichmäßige Temperatur im Ofen und verbessert die Genauigkeit und Konsistenz von Diffusionsprozessen.
4. Epitaxieofen: Bietet eine stabile thermische Umgebung für den epitaktischen Wachstumsprozess und reduziert die Auswirkungen von Temperaturschwankungen auf die Qualität von Halbleiter-Epitaxieschichten.
5. Halbleiterverpackung: In einigen High-End-Halbleiterverpackungsprozessen spielt es eine Rolle bei der Isolierung, Pufferung und Unterstützung und schützt Chips vor Schäden durch thermische und mechanische Belastung.
6. Ausrüstung für die Herstellung von Photovoltaikzellen: z. B. Ausrüstung für die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD), die zur Aufrechterhaltung der Temperaturstabilität im Inneren der Ausrüstung und zur Sicherstellung der Qualität der Dünnschichtabscheidung verwendet wird.
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