ICP/PSS-Ätzprozess

VeTek Semiconductor ICPPSS (Induktiv gekoppeltes Plasma-Photoresist-Stripping) Ätzprozess-Waferträger ist speziell für die anspruchsvollen Anforderungen der Ätzprozesse der Halbleiterindustrie konzipiert. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen gewährleistet es optimale Leistung, Effizienz und Zuverlässigkeit während des gesamten Ätzprozesses.

Der Vorteil der ICP/PSS-Ätzprozess-Susveptoren von VeTek Semiconductor:

Verbesserte chemische Kompatibilität: Der Waferträger besteht aus Materialien, die eine hervorragende chemische Kompatibilität mit den Chemikalien des Ätzprozesses aufweisen. Dies gewährleistet die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Ätzmitteln, Resist-Strippern und Reinigungslösungen und minimiert das Risiko chemischer Reaktionen oder Verunreinigungen.

Hohe Temperaturbeständigkeit: Der Waferträger ist so konzipiert, dass er den hohen Temperaturen standhält, die während des Ätzprozesses auftreten. Es behält seine strukturelle Integrität und mechanische Festigkeit bei und verhindert Verformungen oder Schäden auch unter extremen thermischen Bedingungen.

Hervorragende Ätzgleichmäßigkeit: Der Träger verfügt über ein präzise konstruiertes Design, das eine gleichmäßige Verteilung von Ätzmitteln und Gasen über die Waferoberfläche fördert. Dies führt zu konstanten Ätzraten und hochwertigen, gleichmäßigen Mustern, die für die Erzielung präziser und zuverlässiger Ätzergebnisse unerlässlich sind.

Hervorragende Waferstabilität: Der Träger verfügt über einen sicheren Waferhaltemechanismus, der eine stabile Positionierung gewährleistet und Waferbewegungen oder -rutschen während des Ätzvorgangs verhindert. Dies garantiert genaue und wiederholbare Ätzmuster und minimiert Fehler und Ausbeuteverluste.

Reinraumkompatibilität: Der Waferträger ist so konzipiert, dass er strenge Reinraumstandards erfüllt. Es zeichnet sich durch eine geringe Partikelbildung und hervorragende Sauberkeit aus und verhindert so jegliche Partikelverunreinigung, die die Qualität und Ausbeute des Ätzprozesses beeinträchtigen könnte. Die Verunreinigung liegt unter 5 ppm.

Robuste und langlebige Konstruktion: Der Träger besteht aus hochwertigen Materialien, die für ihre Haltbarkeit und lange Lebensdauer bekannt sind. Es hält wiederholtem Gebrauch und strengen Reinigungsprozessen stand, ohne seine Leistung oder strukturelle Integrität zu beeinträchtigen.

Anpassbares Design: Wir bieten anpassbare Optionen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen. Der Träger kann an unterschiedliche Wafergrößen, -dicken und Prozessspezifikationen angepasst werden und gewährleistet so die Kompatibilität mit verschiedenen Ätzgeräten und -prozessen.

Erleben Sie die Zuverlässigkeit und Leistung unseres ICP/PSS-Ätzprozess-Waferträgers, der zur Optimierung des Ätzprozesses in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Seine verbesserte chemische Kompatibilität, Hochtemperaturbeständigkeit, hervorragende Ätzgleichmäßigkeit, ausgezeichnete Waferstabilität, Reinraumkompatibilität, robuste Konstruktion und anpassbares Design machen es zur idealen Wahl für Ihre Ätzanwendungen.

PSS-Ätzplatte ICP-Ätzplatte ICP-Ätzsuszeptor