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Wangda Road, Ziyang Street, Landkreis Wuyi, Stadt Jinhua, Provinz Zhejiang, China
Hersteller von SiC-Substraten verwenden für den Heißfeldprozess üblicherweise ein Tiegeldesign mit einem porösen Graphitzylinder. Dieses Design vergrößert die Verdampfungsfläche und das Ladungsvolumen. Es wurde ein neues Verfahren entwickelt, um Kristalldefekte zu beheben, den Stofftransfer zu stabilisieren und die Qualität der SiC-Kristalle zu verbessern. Es beinhaltet eine kernlose Kristallschalen-Fixierungsmethode zur Wärmeausdehnung und Spannungsentlastung. Allerdings stellt das begrenzte Marktangebot an Tiegelgraphit und porösem Graphit Herausforderungen für die Qualität und Ausbeute von SiC-Einkristallen dar.
1. Hohe Umgebungstemperaturtoleranz – Das Produkt hält einer Umgebungstemperatur von 2500 Grad Celsius stand und weist eine hervorragende Hitzebeständigkeit auf.
2. Strenge Porositätskontrolle – VeTek Semiconductor behält eine strenge Porositätskontrolle bei und gewährleistet so eine konstante Leistung.
3. Ultrahohe Reinheit – Das verwendete poröse Graphitmaterial erreicht durch strenge Reinigungsprozesse einen hohen Reinheitsgrad.
4. Hervorragende Oberflächenpartikelbindungsfähigkeit – VeTek Semiconductor verfügt über eine ausgezeichnete Oberflächenpartikelbindungsfähigkeit und Beständigkeit gegen Pulveranhaftung.
5. Gastransport, Diffusion und Gleichmäßigkeit – Die poröse Struktur von Graphit erleichtert den effizienten Gastransport und die Diffusion, was zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit von Gasen und Partikeln führt.
6. Qualitätskontrolle und Stabilität – VeTek Semiconductor legt Wert auf hohe Reinheit, geringen Verunreinigungsgehalt und chemische Stabilität, um die Qualität des Kristallwachstums sicherzustellen.
7. Temperaturkontrolle und Gleichmäßigkeit – Die Wärmeleitfähigkeit von porösem Graphit ermöglicht eine gleichmäßige Temperaturverteilung und reduziert so Spannungen und Defekte während des Wachstums.
8.Verbesserte Diffusion gelöster Stoffe und Wachstumsrate – Die poröse Struktur fördert eine gleichmäßige Verteilung gelöster Stoffe und erhöht so die Wachstumsrate und Gleichmäßigkeit der Kristalle.
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