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Die SIC -Substratproduzenten verwenden üblicherweise ein Tiegeldesign mit einem porösen Graphitzylinder für den Hot Field -Prozess. Dieses Design erhöht den Verdunstungsbereich und das Ladungsvolumen. Es wurde ein neues Verfahren entwickelt, um Kristallfehler zu beheben, den Massenübergang zu stabilisieren und die SIC -Kristallqualität zu verbessern. Es enthält eine kernlose Fixierungsmethode für Kristallschalen zur thermischen Expansion und Stressabbau. Ein begrenztes Marktangebot an Tiegelgraphit und poröser Graphit stellt jedoch Herausforderungen für die Qualität und Ertrag von sic -Einzelkristallen dar.
1. Hochtemperaturumgebungstoleranz - Das Produkt kann der Umgebung von 2500 Grad Celsius standhalten, was eine hervorragende Wärmefestigkeit aufweist.
2. Strikte Porositätskontrolle - VETEK -Semikonduktor behält eine enge Porositätskontrolle bei und gewährleisten eine konsistente Leistung.
3.ultra -hohe Reinheit - Das verwendete poröse Graphitmaterial erreicht durch strenge Reinigungsprozesse ein hohes Maß an Reinheit.
4. EXCELLENT Oberflächenpartikelbindungsfähigkeit - Vetek -Halbleiter hat eine ausgezeichnete Fähigkeit zur Bindungsbindung von Oberflächen und Resistenz gegen Pulveradhäsion.
5. GAS -Transport, Diffusion und Gleichmäßigkeit - Die poröse Struktur von Graphit erleichtert einen effizienten Gastransport und Diffusion, was zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit von Gasen und Partikeln führt.
6. Quality Control and Stability - Vetek Semiconductor betont hohe Reinheit, geringe Verunreinigungsgehalt und chemische Stabilität, um die Qualität des Kristallwachstums zu gewährleisten.
7. Temperaturkontrolle und Gleichmäßigkeit - Die thermische Leitfähigkeit von poröser Graphit ermöglicht eine gleichmäßige Temperaturverteilung, wodurch Spannung und Defekte während des Wachstums verringert werden.
8. Verbesserte Diffusions- und Wachstumsrate der gelösten gelösten Stoffe - Die poröse Struktur fördert die gleichmäßige Verteilung der gelösten Stoffe und verbessert die Wachstumsrate und Gleichmäßigkeit von Kristallen.
Veteksemicon porous graphite materials are your ideal procurement choice for precision thermal processing and vacuum applications. With high porosity, uniform pore distribution, and excellent chemical resistance, Veteksemicon's porous graphite is engineered to meet the strict demands of advanced semiconductor manufacturing, filtration systems, and fuel cell components. These materials enable efficient gas diffusion, fluid flow control, and thermal management, making them indispensable in processes like vacuum chucks, electrochemical applications, and battery electrodes.
Each porous graphite block or plate is manufactured using advanced graphite molding and sintering techniques, ensuring optimal performance in high-temperature and corrosive environments. Due to its open-cell microstructure and customizable pore size, our porous graphite offers superior permeability and thermal conductivity while maintaining dimensional stability under extreme conditions.
This category also covers related entities such as graphite vacuum plates, porous graphite discs, frequently used in semiconductor wafer handling and energy systems.
Discover more product details on Veteksemicon's Porous Graphite product page or contact us for technical specifications and custom solutions.
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