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Die neue Halbleiterfertigungsanlage von VETEK ist in die Bauphase eines Reinraums für Halbleiter eingetreten. Der neue Standort wird die Produktion von CVD-SiC-beschichteten Graphitkomponenten, TaC-Beschichtungen, PyC-Beschichtungen, massiven SiC-Teilen und hochreinen Graphitmaterialien für Halbleiteranwendungen unterstützen.

VeTek Semiconductor teilt wichtige Erkenntnisse der SNEC 2026 Shanghai und hebt hochreinen Graphit, CVD-SiC-beschichtete Graphitkomponenten, Kohlenstoffverbundwerkstoffe und fortschrittliche Wärmefeldmaterialien hervor, die die Solar- und Photovoltaikproduktion der nächsten Generation unterstützen.

VETEK feiert das Richtfest seiner neuen Halbleiterfertigungsbasis und erweitert damit die Produktionskapazität für fortschrittliche SiC-, TaC- und PyC-Beschichtungstechnologien, feste SiC-Komponenten, hochreine Graphitteile und Halbleiter-Wärmefeldmaterialien.