Die neue Halbleiterfertigungsbasis von VETEK tritt in die Bauphase für Reinräume ein

Zhejiang, China – Juni 2026— Der Bau der neuen Produktionsbasis von VETEK hat eine weitere wichtige Phase erreicht. Nach der Fertigstellung der Hauptgebäudestruktur haben sich die Arbeiten nun auf die Installation von Reinraumanlagen in Halbleiterqualität verlagert.

Am Projektstandort werden gleichzeitig Innendekoration, Lüftungssysteme, Luftfilteranlagen und Versorgungsleitungen installiert. Mehrere Bereiche sind bereits in die Vorbereitungsphase der Ausrüstung eingetreten.

Die Arbeiten im Reinraum schreiten wie geplant voran

Die neue Anlage ist für die Produktion von Halbleitermaterialien und Beschichtungsprodukten konzipiert. Im Vergleich zur aktuellen Fabrik bietet der neue Standort mehr Produktionsfläche und ein verbessertes Prozessflussmanagement.

Der Reinraumbereich wird für die Beschichtungsproduktion, Präzisionsbearbeitung, Reinigung, Inspektion und Verpackung genutzt. Auch für Produkte mit höheren Reinheitsanforderungen werden eigene Bereiche vorbereitet.

Derzeit führen Bauteams die Deckeninstallation, die Bodenbearbeitung und die unterstützende Systemintegration durch. Die tägliche Arbeit verläuft gemäß dem Projektzeitplan.

Ausrüstungstransfer bis Jahresende erwartet

Die Vorbereitungen für den Geräteumzug haben bereits begonnen.

Bestehende Produktionsanlagen werden nach Abschluss der Reinrauminstallation schrittweise in die neue Anlage verlegt. Der Umzugsplan umfasst auch die Kalibrierung der Ausrüstung, die Testproduktion und die Prozessüberprüfung.

Aufgrund des aktuellen Baufortschritts wird erwartet, dass die Verlagerung wichtiger Produktionsanlagen noch in diesem Jahr abgeschlossen sein wird.

Nach dem Umzug wird VETEK weiterhin Produkte herstellen, darunterCVD-SiC-Beschichtungen, TaC-Beschichtungen, PyC-Beschichtungen, Massive SiC-KomponentenUndhochreine Graphitmaterialienfür Halbleiteranwendungen.

Für das VETEK-Team ist die neue Fabrik nicht nur ein größeres Gebäude. Es handelt sich um eine Produktionsplattform, die für die nächste Phase der Halbleitermaterialherstellung konzipiert ist und mehr Raum für Prozessentwicklung, Anlagenerweiterung und zukünftiges Kapazitätswachstum bietet.