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Basierend auf einer 8-Zoll-Silizium-Carbid-Einkristall-Wachstumstechnologie11 2024-07

Basierend auf einer 8-Zoll-Silizium-Carbid-Einkristall-Wachstumstechnologie

Siliziumcarbid ist eines der idealen Materialien, um Hochtemperatur-, Hochleistungs-, Hochleistungs- und Hochspannungsgeräte herzustellen. Um die Produktionseffizienz zu verbessern und die Kosten zu senken, ist die Vorbereitung großer Siliziumkarbidsubstrate eine wichtige Entwicklungsrichtung.
Berichten zufolge entwickeln chinesische Unternehmen 5 -nm -Chips mit Broadcom!10 2024-07

Berichten zufolge entwickeln chinesische Unternehmen 5 -nm -Chips mit Broadcom!

Laut ausländischen Nachrichten gaben zwei Quellen am 24. Juni bekannt, dass ByteDance mit dem US-amerikanischen Chipdesign-Unternehmen Broadcom zusammenarbeitet, um einen fortschrittlichen Computerprozessor mit künstlicher Intelligenz (KI) zu entwickeln, der ByteDance dabei helfen wird, angesichts der Spannungen zwischen China eine ausreichende Versorgung mit High-End-Chips sicherzustellen und die Vereinigten Staaten.
Sanan Optoelectronics Co., Ltd.: 8-Zoll-SIC-Chips werden voraussichtlich im Dezember in Produktion gebracht!09 2024-07

Sanan Optoelectronics Co., Ltd.: 8-Zoll-SIC-Chips werden voraussichtlich im Dezember in Produktion gebracht!

Als führender Hersteller in der SIC -Industrie hat die verwandte Dynamik von Sanan Optoelektronik in der Branche weit verbreitete Aufmerksamkeit erhalten. In jüngster Zeit gab Sanan Optoelectronics eine Reihe von neuesten Entwicklungen bekannt, die 8-Zoll-Transformationen, neue Substrat-Fabrikproduktion, Einrichtung neuer Unternehmen, staatliche Subventionen und andere Aspekte umfassten.
Anwendung von TAC-beschichteten Graphitenteilen in Einkristallöfen05 2024-07

Anwendung von TAC-beschichteten Graphitenteilen in Einkristallöfen

Im Wachstum von SIC- und ALN -Einzelkristallen unter Verwendung der PVT -Methode (Physical Dampor Transport) spielen entscheidende Komponenten wie Tiegel, Samenhalter und Führungsring eine wichtige Rolle. Wie in Abbildung 2 [1] dargestellt, wird während des PVT -Verfahrens der Samenkristall im niedrigeren Temperaturbereich positioniert, während der SIC -Rohstoff höheren Temperaturen ausgesetzt ist (über 2400 ℃).
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