AMAT 0200-03201 CVD-SiC-Wafer-Hebestift

Produktmerkmale

 ● Hochreiner Graphitkern + CVD-SiC-Beschichtung – gebaut für die echte Halbleiterproduktion.

 ● Bewältigt Epitaxieläufe bei hohen Temperaturen, ohne dass die mechanische Stabilität Zyklus für Zyklus verloren geht.

 ● Die dünne Wandform verringert die thermische Masse und verbessert die Präzision bei der Waferhandhabung.

 ● SiC-Schicht hält aggressiven Prozessgasen und chemischer Reinigung stand.

 ● Eine glatte, gleichmäßige Beschichtung bedeutet weniger Partikelabwurf und eine stabilere Verarbeitung. Bei der CNC-Bearbeitung für kritische Halbleiterteile halten wir enge Toleranzen ein.

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung

Anwendungen

 ● Siliziumepitaxie (Si EPI) – Heben, Positionieren und Bewegen von Wafern in 300-mm-Reaktoren.

 ● Allgemeine Verarbeitung von Halbleiterwafern, bei der Hitzestabilität, Korrosionsbeständigkeit, geringe Partikelbildung und eine lange Lebensdauer der Teile erforderlich sind.

 ● AMAT-Epitaxiekammern und kompatible Wafer-Handlingsysteme.

Warum sollten Sie sich für VeTek Semiconductor entscheiden?

 ● Hochreiner SiC-beschichteter Graphit, der für den Einsatz in Halbleitern vorgesehen ist.

 ● Sowohl die thermische Stabilität als auch die chemische Beständigkeit sind solide.

 ● Halten Sie die Toleranzen eng – Präzisionsbearbeitung ist unser Ding.

 ● Kompatibel mit AMAT, ASM, Aixtron und LPE.