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Warum ist Tantal -Carbid (TAC) -Bobe mit Siliciumcarbid (sic) beschichten beim SIC -Einzelkristallwachstum? - Vetek Semiconductor25 2024-11

Warum ist Tantal -Carbid (TAC) -Bobe mit Siliciumcarbid (sic) beschichten beim SIC -Einzelkristallwachstum? - Vetek Semiconductor

Aus der Anwendungsperspektive des SIC -Einzelkristallwachstums vergleicht dieser Artikel die grundlegenden physikalischen Parameter der TAC -Beschichtung und der SIC -Beschichtung und erklärt die grundlegenden Vorteile der TAC -Beschichtung gegenüber der SIC -Beschichtung in Bezug auf Hochtemperaturresistenz, starke chemische Stabilität, reduzierte Verunreinigungen und reduzierte Verunreinigungen und niedrigere Kosten.
Welche Messgeräte gibt es in der fabelhaften Fabrik? - Vetek Semiconductor25 2024-11

Welche Messgeräte gibt es in der fabelhaften Fabrik? - Vetek Semiconductor

Es gibt viele Arten von Messgeräten in der fabelhaften Fabrik. Zu den allgemeinen Geräten gehören Lithographie -Prozessmessgeräte, Radierungsprozess -Messgeräte, Dünnfilmabscheidungsprozess -Messgeräte, Dotierungsverfahrensmessgeräte, CMP -Prozessmessgeräte, Waferpartikelerkennungsgeräte und andere Messgeräte.
Wie verbessert die TAC -Beschichtung die Lebensdauer von Graphitkomponenten? - Vetek Semiconductor22 2024-11

Wie verbessert die TAC -Beschichtung die Lebensdauer von Graphitkomponenten? - Vetek Semiconductor

Die Tantal -Carbid -Beschichtung (TAC) kann die Lebensdauer von Graphitteilen erheblich verlängern, indem die Hochtemperaturwiderstand, die Korrosionsbeständigkeit, die mechanischen Eigenschaften und die thermischen Managementfähigkeiten verbessert werden. Seine hohen Reinheitseigenschaften verringern Verunreinigungsverschmutzung, verbessern die Qualität der Kristallwachstum und verbessern die Energieeffizienz. Es eignet sich für die Herstellung von Halbleitern und für Kristallwachstumsanwendungen in hochtemperativen, stark korrosiven Umgebungen.
Was ist die spezifische Anwendung von TAC -beschichteten Teilen im Semiconductor -Bereich?22 2024-11

Was ist die spezifische Anwendung von TAC -beschichteten Teilen im Semiconductor -Bereich?

Tantalum-Carbid (TAC) Beschichtungen werden im Halbleiterfeld weit verbreitet, hauptsächlich für epitaxiale Wachstumsreaktorkomponenten, einzelne Kristallwachstumskomponenten, Hochtemperatur-industrielle Komponenten, MOCVD-Systemheizungen und Waferträger.
Warum versagt der SiC-beschichtete Graphit-Suszeptor? - VeTek Semiconductor21 2024-11

Warum versagt der SiC-beschichtete Graphit-Suszeptor? - VeTek Semiconductor

Während des SIC -epitaxialen Wachstumsprozesses kann ein SIC -beschichtetes Graphitsuspensionsfehler auftreten. Diese Arbeit führt eine strenge Analyse des Versagensphänoms der sic -beschichteten Graphitsuspension durch, die hauptsächlich zwei Faktoren umfasst: sic epitaxiale Gasversagen und SIC -Beschichtungsversagen.
Was sind die Unterschiede zwischen MBE- und MOCVD-Technologien?19 2024-11

Was sind die Unterschiede zwischen MBE- und MOCVD-Technologien?

In diesem Artikel werden hauptsächlich die jeweiligen Prozessvorteile und Unterschiede des Epitaxieprozesses des molekularen Strahls und der metallorganischen chemischen Dampfabscheidungstechnologien erörtert.
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