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Quarzmaterial ist eines der wesentlichen Materialien für High-Tech-Branchen wie Halbleiter und Photovoltaik. Im Folgenden werden mehrere globale High-Tech-Quarzmateriallieferanten und deren Produkte eingeführt.
1. IOTA High Purity Quartz Sand Series: IOTA 4, IOTA 6, IOTA 6-SV, IOTA 8 und IOTA STD-SV
Niedriger Alkalisgehalt sorgt für eine hohe Viskosität des fusionierten Quarzes, bietet einen hohen Erweidungspunkt und niedrige Kristallisationsrate -Eigenschaften, verlängert die Lebensdauer der Komponenten und senkt die Gesamtbesitzkosten. Stabile niedrige Bor- (B) und Spurenübergangsmetalle tragen dazu bei, die Siliziumreinheit während des Kristallwachstums und die Waferverarbeitung aufrechtzuerhalten. Typische Anwendungen: verwendet bei der Herstellung von fusionierten Quarzkreuzküken und Halbleiter -Quarzprodukten.
2. IOTA CG -Serie:
Es ist der Standard in der Photovoltaik-Tiegelindustrie und ist sehr geeignet für die Langzeitdrahtziehung und die Multi-Ingot-Drahtzeichnung. In den anspruchsvollsten Anwendungen kann es als Crucible -Liner verwendet werden, um die Reinheit des Siliziumimbots zu gewährleisten.
IOTA -Serie High Purity Quartz Related Indicators (PPM):
Der von TQC produzierte High-Purity-Quarz ist einer der reinsten Quarz der Welt und wird hauptsächlich in Halbleitern, Photovoltaik, Optik und anderen Feldern verwendet. Und der SIO2 -Inhalt kann mehr als 99,998% oder sogar höher erreichen. Es gewährleistet die Stabilität und Zuverlässigkeit des Produkts in verschiedenen High-End-Anwendungen. Die hohen Quarz-Sandrohstoffe des Norwegen-TQC-Unternehmens werden hauptsächlich aus dem Granit-Pegmatit in der Fichtekieferngebiet der Vereinigten Staaten (der von Unimin Company der Vereinigten Staaten angehören) und dem Schaltgrenit-Pegmatit in den Vereinigten Staaten und dem Ziehen von Granit-Pegmatit in den Vereinigten Staaten und dem Schuhl-Pegmatit in Norwarz-Rohstoffe hergestellt. Nachdem die Quarzressourcen abgebaut wurden, werden sie in Norwegen verarbeitet. Der Drag -Granit -Pegmatitgürtel in Norwegen besteht aus Dutzenden von Pegmatiterzkörpern.
Die Pegmatiten werden im umgebenden Granit -Gneis in einer vertikalen Rohrform erzeugt. Die durchschnittliche Partikelgröße von Quarzpartikeln in Pegmatit beträgt etwa 6 mm, und der Gehalt an Flüssigkeitseinschlägen und mineralischen Einschlüssen in Quarz ist sehr klein. Im Produktionsprozess können die von den USA aus den Quarzressourcen verarbeiteten hochreinheitlichen Quarzprodukten die Anforderungen des Halbleitersandes und des Photovoltaiksandes erfüllen, während die norwegischen Produkte besser für die Felder von Optik und elektrischen Lichtquellen geeignet sind.
Typische Produktbeispiele:
✔ High-Purity-Quarzsand:
✔ Modell: NC4AF
✔ sio2 Inhalt: ≥99,998%
✔ Partikelgrößenbereich: 80-200 Mesh (anpassbar entsprechend den Kundenbedürfnissen)
✔ Verwendungszwecke: In der Herstellung von Glasfasern, Halbleitermaterialien, Quarzglas und anderen Feldern häufig verwendet.
Momentive ist ein weltweit führender Hersteller von hochpurigen Quarzfeststoffen. Die typischen hochpräzisen Quarzprodukte decken mehrere Modelle ab:
1.Semiconductor Quarzstäbe:
Hauptsächlich für Quarzboote verwendet, die Wafer im Halbleiter-Hochtemperaturherstellungsprozesse tragen. Hergestellt aus ultra-pure-Quarzmaterial, hoher Qualität, makelloser und niedriger Expansionsrate. Flexibler Herstellungsprozess, um die strengen dimensionalen Kontrollanforderungen der Kunden zu erfüllen.
2.Fusionsquarzrohre:
Die Kombination von hoher Reinheit mit hervorragenden hochtemperaturen Eigenschaften ist eine ideale Wahl für die Verarbeitungsöfen von Siliziumwafer. Niedriger Hydroxylgehalt (-OH) sorgt für die Stabilität bei hohen Temperaturen. Hohe Reinheit sorgt für eine reine Umgebung während der Verarbeitung von Siliziumwafer.
3. Quartz -Pergots:
Der Trace-Element-Inhalt befindet sich nur auf der PPM- oder PPB-Ebene, wodurch die für die Waferverarbeitung erforderliche saubere Umgebung erstellt wird und eine ideale Wahl für Hochtemperaturanwendungen ist. Der Trace -Element -Inhalt ist extrem niedrig und erstellt die für die Waferverarbeitung erforderliche saubere Umgebung. Nach einer speziellen Verarbeitung verfügt es über einen Gehalt mit niedrigem Hydroxyl (-OH) und weist eine hervorragende Leistung auf. Großgröße, geeignet für Anwendungen verschiedener Größen von kleinen Präzisionskomponenten bis hin zu großen Teleskopobjektiven.
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