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Die vier leistungsstärksten Graphithersteller der Welt - Vetek

SGL, Toyo Tanso, Tokai Carbon, Mersen und andere Graphitmarken sind jetzt relativ hervorragende Graphithersteller und werden von Herstellern im Halbleiter, Photovoltaik und anderen Feldern begeistert gesucht. Daher ist es notwendig, ihre Kernprodukte zu kennen.


Die typischen Graphit- und Anwendungsbereiche von SGL:


● R8500 -Serie: Wird in Photovoltaik, Halbleitern und Hochtemperaturverarbeitung verwendet.

●  R7300 -Serie: Hohe Reinheit, besonders geeignet für Halbleiteranwendungen.

●  R6500 -Serie: Ausgezeichnete Leistung, geeignet für verschiedene Hochtemperatur-, hohe Last- und hohe Präzisionsanwendungen. Hauptsächlich in der Herstellung von Halbleiter, der Photovoltaikindustrie, der Metallurgie und anderen Hochtemperaturfeldern.


Technische Parameter:


R8510
R6510
R7300
R8500
R8710
Durchschnittliche Korngröße µm
10 10 20 10 3
Schüttdichte G/cm³
1.77 1.83 1.73 1.77 1.8
Offene Porosität Vol.%
14 10 14 14 10
Eingangsdurchmesser mittlerer Poren µm
1.8 1.8 1.6 1.8 0.6
Permeabilitätskoeffizient (Umgebungstemperatur) cm2/s
0.25 0.06 0.1 0.25 0.01
Rockwell Härte hr₅/₁₀₀
70 85 75 70 105
Widerstand µωm
14 12 16 14 13
MPA der Biegestärke
50 60 40 50 85
Druckfestigkeit MPA
110 130 85 110 170
Dynamischer Modul der Elastizitäts -MPA
10,5 x 10³
11,5 x 10³
10 x 10³
10,5 x 10³
10,5 x 10³
Wärmeausdehnung (20 - 200 ° C) K⁻¹
4.2 x
4.2 x 2,7 x 4.2 x 4,7 x
Wärmeleitfähigkeit (20 ° C) Wm⁻¹k⁻¹
95 110 70 95 105
Aschinhalte ppm
200 / 200 200 200

Toyo Tansos typische Graphit- und Anwendungsbereiche:


 IG -Serie: Isostatischer Graphit, der in Halbleiter, Photovoltaik, Metallurgie, chemischer Industrie und anderen Hochtemperatur- und hohen Präzisionsfeldern häufig verwendet wird

 Name Serie: Hochleistungs -isostatische Graphit, häufig in EDM-, Schimmelherstellungs-, Halbleiter- und Photovoltaikfeldern verwendet

 ISO -Serie: Hochleistungs -isostatische Graphit, hauptsächlich für industrielle Anwendungen, die eine hohe Reinheit, hohe Festigkeit und Hochtemperaturwiderstand erfordern

●  TTK -Serie: für EDM, Schimmelpilzherstellung und andere Felder mit hoher Präzisionsverarbeitung

 HPG -Serie: Geeignet für Geräte und Komponenten unter hohen Präzision und harten Bedingungen, insbesondere in Elektronik, Halbleiter, Photovoltaik und anderen Branchen


Technische Parameter:

Grad
IG-11
IG-70
Name-1
Name-8
ISO-63
TTK-55
HPG-30
HPG-59
Schüttdichte
Mg/m3
1.77 1.83 1.68 1.78 1.78 1.8 1.8 1.91
Härte
HSD
51 58 45 63 76 73 74 88
Elektrischer Widerstand
μω ・ m
11 10 13.5 13.4 15 15.3 15.3 13.5
Biegerstärke
MPA
39 47 36 52 65 63 65 100
Druckfestigkeit
MPA
78 103 69 106 135 139 142 210
Zugfestigkeit
MPA
25 31 20 34 46 48 50 74
Young's Modul
GPA
9.8 11.8 8.8 10.1 12 11.2 11.3 12.7
Wärmeleitkoeffizient
10-6/K
4.5 4.6 4.2 5.6 5.6 5.6 5.6 5.7
Wärmeleitfähigkeit
W/(m ・ k)
120 130 90 90 70 86 86 95

Tokais typische Graphit- und Anwendungsbereiche:


 HK1: Grobe Bearbeitung großer Schimmelpilzstirme und Stempelanwendungen.

 HK2: Schruppen und Veredelung mit mittlerer bis kleiner Genauigkeit, scharfe Definitionsform und Pressewerkzeuge.

●  HK3: HK-3 ist eine erstklassige Grad von Ultra-Fine-Graphit, die am besten verwendet wird, wenn die ultrahohe Definition und eine hervorragende Kantenbefestigung von entscheidender Bedeutung sind, d. H. Hochwertige Schimmelpilze, Luft- und Raumfahrtindustrie und feine detaillierte Rippenformen. Gutes MRR -Rate/Verschleißverhältnis.

●  HK-75: HK-75 ist ultra-feiner Grad von Graphit und wird hier hohe Oberflächenoberflächen verwendet und gute Kantenverschleißbedingungen sind kritisch. Es gibt auch einfache Bearbeitungseigenschaften von High Definition in Ecken und Profilen. Es wird am besten im hochwertigen Ende des Schimmelpilzherstellungsprozesses verwendet.


Technische Parameter:

Grad

HK-1
HK-2
HK-3
HK-75
Spezifische Schwerkraft
g/cm3
1.85
1.82 1.84 1.82
Spezifischer Widerstand
μω ・ m
11 13.5 15.5 16.5
Biegerstärke MPA 50 64 88 66
Härte
Ufer
58 64 78 72
Durchschnittliche Korngröße
μm
11 7 2 4

Mersens typische Graphit- und Anwendungsbereiche:


●  Isostatische Graphit: Geeignet für CVD -Komponenten und Tiegel in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie. Neben der Herstellung von Komponenten für monokristalline und polykristalline Silizium, insbesondere in hochtemperativen Umgebungen.

●  Ellor+ Serie: Hohe Leitfähigkeit, Verschleißresistente, hoher Entladungseffizienz, geeignet für die Verarbeitung mit hoher Oberfläche, Präzisionsformverarbeitung.


Technische Parameter:

Grad

Isostatic Graphit 1940
Isostatic Graphit 2910
Ellor+18
Ellor+50

DURCHSCHNITTKÖRNUNG

μm
/ / 12 5
DICHTE
g/cm3
1.79 1.74 1.78 1.86
HÄRTE
UFER
63 55 62 80

BiegerSTÄRKE

MPA
43 30 45 76

ElektrischWiderstand

μOHM.CM
1397 1600 1370 1370


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