Tantal -Carbidbeschichtete Abdeckung

Finden Sie eine riesige Auswahl an Tantal -Carbid -Covers aus China bei Vetek Semiconductor. Bieten Sie einen professionellen After-Sales-Service und den richtigen Preis an, und freuen Sie uns auf die Zusammenarbeit. Die von Vetek Semiconductor entwickelte Tantal-Carbid-Cover-Deckung ist ein speziell für das Aixtron G10-MOCVD-System entwickeltes Zubehör, das darauf abzielt, die Effizienz zu optimieren und die Qualität der Halbleiterverarbeitern zu verbessern. Es wird akribisch unter Verwendung hochwertiger Materialien hergestellt und mit äußerster Präzision hergestellt, um eine ausstehende Leistung und Zuverlässigkeit für metallorganische chemische Dampfablagerung (MOCVD) zu gewährleisten.

Mit einem Graphit -Substrat mit chemischer Dampfabscheidung (CVD) Tantal Carbid (TAC) beschichtet, bietet die mit Tantal Carbid beschichtete Abdeckung eine außergewöhnliche thermische Stabilität, hohe Reinheit und Widerstand gegen erhöhte Temperaturen. Diese einzigartige Kombination von Materialien bietet eine zuverlässige Lösung für die anspruchsvollen Betriebsbedingungen des MOCVD -Systems.

Die mit Tantal Carbid beschichtete Abdeckung ist anpassbar, um verschiedene Halbleiter -Wafergrößen aufzunehmen, sodass sie für verschiedene Produktionsanforderungen geeignet ist. Die robuste Konstruktion ist ausdrücklich konstruiert, um der herausfordernden MOCVD-Umgebung standzuhalten, um eine lang anhaltende Leistung zu gewährleisten und Ausfallzeit- und Wartungskosten im Zusammenhang mit Waferbetreibern und -anfassoren zu minimieren.

Durch die Einbeziehung der TAC -Abdeckung in das Aixtron G10 -MOCVD -System können Halbleiterhersteller eine höhere Effizienz und überlegene Ergebnisse erzielen. Die außergewöhnliche thermische Stabilität, die Kompatibilität mit unterschiedlichen Wafergrößen und die zuverlässige Leistung der planetarischen Festplatte machen es zu einem unverzichtbaren Instrument zur Optimierung der Produktionseffizienz und zum Erreichen herausragender Ergebnisse im MoCVD -Prozess.