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Tantal -Carbid -Beschichtungsabdeckung
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Tantal -Carbid -Beschichtungsabdeckung

Die Tantal-Carbidbeschichtungsabdeckung besteht aus Hochpüren-Graphit- und TAC-Beschichtung. Vetek Semiconductor ist ein führender Anbieter und Hersteller von Tantal -Carbid -Beschichtungsbedeckung in China. Wir konzentrieren uns auf die Bereitstellung von hohen, hochtemperativen resistenten Tantal-Carbid-Produkten. Unsere mit Tantal Carbid beschichtete Abdeckung hat eine hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit und kann die Materialien in extrem hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen effektiv schützen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden. Willkommen zu jederzeit konsultieren.

Vetek Semiconducto ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von China Tantal Carbid Coating Coaing Covers. Unsere tantale Carbidbeschichtungsabdeckung stellt die neueste Lösung in thermischen Anwendungen für Kristallwachstums- und Epitaxienprozesse (EPI) dar. Diese sorgfältig gefertigte, einzigartige Abdeckung ist eine kritische Komponente, um die Kristallbildung und epitaxiale Filmablagerung aufrechtzuerhalten.

Das Kernmaterial der TAC-beschichteten Graphitabdeckung besteht aus hochwertigem Graphit, das für seine hervorragende thermische Leitfähigkeit und Stabilität bekannt ist. Die Fähigkeit von Graphit, extremen Temperaturen standzuhalten, macht es zu einem idealen Material für thermische Feldanwendungen, um die Langlebigkeit und Zuverlässigkeit in anspruchsvollen Umgebungen zu gewährleisten.

Das einzigartige Merkmal der TAC -beschichteten Graphitabdeckung ist die innovative Tantal -Carbid -Beschichtung (TAC). Diese fortschrittliche Beschichtung verbessert die Leistung der Abdeckung durch Hinzufügen einer robusten Schutzschicht und die Verbesserung des Widerstands gegen Korrosion, Verschleiß und thermischer Schock. Die TAC -Beschichtung verbessert nicht nur die Stärke der Abdeckung unter harten Bedingungen, sondern verbessert auch die Effizienz und erweitert die Lebensdauer.

Während des Kristallwachstumsprozesses erleichtert die mit TAC beschichtete Graphitabdeckung eine präzise Temperaturregelung und verteilt gleichmäßig Wärme, wodurch eine Umgebung geschaffen wird, die der Bildung hochwertiger Kristalle förderlich ist. Darüber hinaus sorgt seine Anpassungsfähigkeit während des Epitaxieprozesses die kontrollierte Ablagerung von Dünnfilmen, was für Halbleiter- und Materialwissenschaftsanwendungen von entscheidender Bedeutung ist.

Diese sorgfältig ausgestattete TAC -beschichtete Graphitkappe zeigt die Synergie zwischen den inhärenten Eigenschaften von Graphit und den verbesserten Fähigkeiten, die durch die TAC -Beschichtung bereitgestellt werden. Ob in Laboratorien, Forschungsinstitutionen oder industriellen Umgebungen, die TAC -beschichtete Graphitkappe ist ein Modell für technologische Innovationen und bietet eine zuverlässige und dauerhafte Lösung für Kristallwachstum und Epitaxienprozesse. Vetek Semiconductor wird weiterhin dafür verpflichtet sein, den Kunden die fortschrittlichsten Technologielösungen und umfassenden Unterstützung zu bieten.


Produktparameter der Tantal -Carbidbeschichtungsabdeckung

Physikalische Eigenschaften der TAC -Beschichtung
Dichte 14,3 (g/cm³)
Spezifischer Emissionsvermögen 0.3
Wärmeleitkoeffizient 6.3 10-6/K
Härte (HK) 2000 HK
Widerstand 1 × 10-5Ohm*cm
Wärmestabilität <2500 ℃
Graphitgröße ändert sich -10 ~ -20um
Beschichtungsdicke ≥ 20 um einen typischen Wert (35 € ± 10um)


Vergleichen Sie den Semiconductor Production Shop:

VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Semiconductor Chip Epitaxy Industry -Kette:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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