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Warum hebt sich 3c-sic unter vielen SiC-Polymorphen aus? - Vetek Semiconductor16 2024-10

Warum hebt sich 3c-sic unter vielen SiC-Polymorphen aus? - Vetek Semiconductor

Siliziumcarbid (SIC) ist ein hochpräzises Halbleitermaterial, das für seine hervorragenden Eigenschaften wie Hochtemperaturwiderstand, Korrosionsbeständigkeit und hohe mechanische Festigkeit bekannt ist. Es hat über 200 Kristallstrukturen, wobei 3c-sic der einzige kubische Typ ist und im Vergleich zu anderen Typen überlegene natürliche Sphärizität und Verdichtung bietet. 3C-SIC zeichnet sich durch seine hohe Elektronenmobilität aus und ist damit ideal für MOSFETs in der Leistungselektronik. Darüber hinaus zeigt es ein großes Potenzial für Nanoelektronik, blaue LEDs und Sensoren.
Diamant – der zukünftige Star der Halbleiter15 2024-10

Diamant – der zukünftige Star der Halbleiter

Diamant, ein potenzieller „ultimativer Halbleiter“ der vierten Generation, gewinnt aufgrund seiner außergewöhnlichen Härte, Wärmeleitfähigkeit und elektrischen Eigenschaften bei Halbleitersubstraten an Aufmerksamkeit. Obwohl die hohen Kosten und Produktionsherausforderungen den Einsatz einschränken, ist CVD die bevorzugte Methode. Trotz Dotierung und großflächiger Kristallherausforderungen ist Diamant vielversprechend.
Was ist der Unterschied zwischen Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN)-Anwendungen? - VeTek Semiconductor10 2024-10

Was ist der Unterschied zwischen Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN)-Anwendungen? - VeTek Semiconductor

SIC und GaN sind breite Bandgap -Halbleiter mit Vorteilen gegenüber Silizium wie höheren Breakdown -Spannungen, schnellere Schaltgeschwindigkeiten und überlegene Effizienz. SIC ist aufgrund seiner höheren thermischen Leitfähigkeit besser für Hochleistungsanwendungen mit Hochleistungsanwendungen, während Gan dank seiner überlegenen Elektronenmobilität in hochfrequenten Anwendungen auszeichnet.
Prinzipien und Technologie der physischen Dampfabscheidung (PVD) Beschichtung (2/2) - Vetek -Halbleiter24 2024-09

Prinzipien und Technologie der physischen Dampfabscheidung (PVD) Beschichtung (2/2) - Vetek -Halbleiter

Die Elektronenstrahlverdampfung ist im Vergleich zu Widerstandserwärmung eine hocheffiziente und weit verbreitete Beschichtungsmethode, die das Verdunstungsmaterial mit einem Elektronenstrahl erhitzt und dazu führt, dass es verdampft und in einen dünnen Film kondensiert.
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