Fusions undurchsichtiger Quarz

Geschmolzener undurchsichtiger Quarz wird hauptsächlich durch elektrische Fusion hergestellt, bei der hochreiner Quarzsand durch elektrische Hochtemperaturheizung geschmolzen wird, um Quarzglas mit einer großen Anzahl von Mikrobläschen mit undurchsichtigen Eigenschaften herzustellen. Elektrischer Quarzglas enthält im Inneren eine große Anzahl kleiner Bläschen, die ihn undurchsichtig machen und dabei helfen, Wärme zu reflektieren und zu verteilen. Darüber hinaus weist es eine hohe Temperaturbeständigkeit, eine geringe Wärmeleitfähigkeit, eine gute chemische Stabilität usw. auf. Diese Eigenschaften machen undurchsichtiges Quarzglas zu einem idealen Material für verschiedene Prozesse in der Halbleiterherstellung. 

Derzeit hat undurchsichtiger Quarz viele Schlüsselanwendungen im Halbleiterbereich:

● Ofenrohre in Diffusions- und Oxidationsprozessen

Als Ofenrohrmaterial für Diffusionsöfen und Oxidationsöfen kann geschmolzenes, opakes Quarz verwendet werden. Seine hohe Temperaturbeständigkeit, Thermoschockbeständigkeit und gute chemische Stabilität stellen sicher, dass stabile chemische Eigenschaften bei hohen Temperaturen aufrechterhalten werden können, wodurch eine schadstofffreie Umgebung geschaffen und die Stabilität und Konsistenz von Halbleiterprozessen sichergestellt wird.

● Maskenplatten und Isolationsmaterialien

In der Halbleiterverarbeitung kann ein fusionierter undurchsichtiger Quarz als Maskenplatten und Isolationsmaterial verwendet werden. Aufgrund seiner Opazität und seiner schlechten Lichtübertragung kann es unnötiges Licht und Wärme wirksam blockieren und die thermische Strahlung, die im Doping- und Oxidationsdiffusionsprozess erzeugt wird, andere Teile verhindern. Dies ist besonders wichtig, um das Dotieren und Schutz empfindlicher Bereiche genau zu kontrollieren.

● Krisenstücke und Heizhaubenhaube

Während des Ziehprozesses von Halbleiterwafern werden geschmolzene Quarzkreuzer aufgrund ihrer hervorragenden Hochtemperaturresistenz und niedrigen thermischen Leitfähigkeit verwendet, um mit hohem Temperatur geschmolzenes Silizium zu halten. Eine niedrige thermische Leitfähigkeit kann den Wärmeverlust verringern, die Heizung gleichmäßiger machen und die Stabilität des Einziehens eines Kristalls gewährleisten. Für die Wärmeisolierung werden fusionierte undurchsichtige Quarzheizheizheizungen verwendet, wodurch Wärmeverlust und Verbesserung der Energieeffizienz verhindert werden.

●  Unterstützungsmaterialien bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)

Während des chemischen Gasphasenabscheidungsprozesses wird geschmolzenes, undurchsichtiges Quarz als Wafer-Trägermaterial verwendet. Seine geringe Wärmeleitfähigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit tragen dazu bei, ein stabiles Temperaturfeld aufrechtzuerhalten und Überhitzung oder ungleichmäßige Erwärmung zu verhindern. Durch die chemische Inertheit wird sichergestellt, dass es bei hohen Temperaturen nicht mit reaktiven Gasen reagiert, wodurch die Reinheit und Qualität der abgeschiedenen Schicht erhalten bleibt.

●  Hitzeschutz- und Isolierkomponenten

Halbleiterfertigungsanlagen müssen häufig kontinuierlich bei hohen Temperaturen betrieben werden, und die geringe Wärmeleitfähigkeit und Temperaturschockbeständigkeit von geschmolzenem, undurchsichtigem Quarz machen es zu einer idealen Hitzeschutz- und Isolationskomponente. Durch die Verwendung von geschmolzenem, undurchsichtigem Quarz als Hitzeschutzmaterial können Energieverluste wirksam reduziert und verhindert werden, dass die Wärme der Ausrüstung auf andere Bereiche übertragen wird, wodurch Präzisionsteile geschützt werden.

●  Schutzmaterialien in Ätz- und Reinigungsgeräten

Geschmolzenes, undurchsichtiges Quarz weist eine extrem starke Säure- und Alkalibeständigkeit auf und ist daher ein Schutzmaterial in Halbleiterätz- und Reinigungsgeräten, um zu verhindern, dass korrosive Chemikalien die Geräte beschädigen. Seine chemische Inertheit trägt außerdem dazu bei, dass es in rauen chemischen Umgebungen stabil bleibt und die Lebensdauer der Ausrüstung verlängert.

●  Photolithographie-Maskenmaterial

Die undurchsichtigen Eigenschaften von geschmolzenem undurchsichtigem Quarz können als Maskenmaterial in bestimmten Fotolithographieprozessen verwendet werden, um die genaue Kontrolle des Belichtungsbereichs zu unterstützen und zu verhindern, dass überschüssiges Licht empfindliche Bereiche des Wafers beeinträchtigt.

Diese Eigenschaften von geschmolzenem, undurchsichtigem Quarz machen es zu einem Schlüsselmaterial für Hochpräzisions- und Hochtemperaturprozesse. Mit der kontinuierlichen Weiterentwicklung von Halbleiterbauelementen und -prozessen wird geschmolzenes undurchsichtiges Quarz auch in der nächsten Generation der Fertigungstechnologie eine wichtige Rolle spielen, um strengere Prozessanforderungen zu erfüllen.

Als professioneller Lieferant und Hersteller von undurchsichtigem Quarzglas in China ist VeTek Semiconductor bereit und in der Lage, seinen Kunden hochwertiges undurchsichtiges Quarzglas zu liefern, und freut sich auf Ihre Anfrage. Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Physikalische Eigenschaften von VeTek Semiconductor Geschmolzener undurchsichtiger Quarz

Abbildung a. Durchlässigkeit von geschmolzenem undurchsichtigem Quarz                                                           Abbildung b. Reflexionsvermögen von verschmolzenem undurchsichtigen Quarz

Vetek Semiconductor Fusion und undurchsichtige Quarzgeschäfte