Hochreinheit Sic Cantilever Paddel

Hochreines SIC -Cantilever -Paddel ist eine Schlüsselkomponente, die in der Verarbeitungsgeräte für Halbleiter verwendet wird. Das Produkt besteht aus hochpurigem Siliziumcarbidmaterial (SIC).  Kunden können frei SIRTED SIC -Material oder Rekristall -SIC -Material frei wählen. Mit Hilfe seiner hervorragenden Eigenschaften von hoher Reinheit, hoher thermischer Stabilität und Korrosionsbeständigkeit wird es in Prozessen wie Waferübertragung, Unterstützung und Hochtemperaturverarbeitung häufig eingesetzt und bietet zuverlässige Garantie für die Gewährleistung der Prozessgenauigkeit und der Produktqualität.

Hochreines Sic Cantilever Paddel spielt die folgenden spezifischen Rollen im Semiconductor -Verarbeitungsprozess:

Waferübertragung: Hochreines Sic-Ausleger-Paddel wird normalerweise als Waferübertragungsvorrichtung in Hochtemperaturdiffusions- oder Oxidationsöfen verwendet. Seine hohe Härte lässt es tragen, resistent und nicht leicht zu verformen, während der Langzeitgebrauch zu verformen ist, und kann sicherstellen, dass der Wafer während des Transferprozesses genau positioniert bleibt. In Kombination mit seinem hohen Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit kann es in Hochtemperaturumgebungen, ohne Verunreinigungen oder Schäden an den Wafern zu verursachen, sicher in und aus dem Ofenrohr in und aus dem Ofenrohr übertragen.

Waferunterstützung: SIC -Material hat einen niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten, was bedeutet, dass sich seine Größen weniger ändert, wenn sich die Temperatur ändert, was dazu beiträgt, die genaue Kontrolle beizubehalten. In der chemischen Dampfabscheidung (CVD) oder der PVD -Prozesse (Physical Dampf Dampf Dampfablagerung) wird das SIC -Cantilever -Paddel verwendet, um den Wafer zu unterstützen und zu beheben, um sicherzustellen, dass der Wafer während des Ablagerungsprozesses stabil und flach bleibt, wodurch die Gleichmäßigkeit und Qualität des Films verbessert wird.

Anwendung von Hochtemperaturprozessen: SIC Cantilever Paddle hat eine ausgezeichnete thermische Stabilität und kann Temperaturen von bis zu 1600 ° C standhalten. Daher wird dieses Produkt häufig in Hochtemperatur -Tempern, Oxidation, Diffusion und anderen Prozessen eingesetzt.

Grundlegende physikalische Eigenschaften von Hochreinheit Sic Cantilever Paddel:

Hochreinheit Sic Cantilever PaddelGeschäfte:

Überblick über die Halbleiter -Chip -Epitaxie -Industriekette: