Durchbruch der Tantal -Carbid -Technologie, sic epitaxiale Verschmutzung um 75%?

Kürzlich hat das Deutsche Forschungsinstitut Fraunhofer IISB einen Durchbruch in der Forschung und Entwicklung von erzieltTantal -Carbidbeschichtungstechnologieund entwickelte eine Sprühbeschichtungslösung, die flexibler und umweltfreundlicher ist als die CVD -Abscheidungslösung und wurde kommerzialisiert.

In diesem Gebiet haben auch Einzelheiten weiter unten aufgeführt.

Fraunhofer IISB:

Entwicklung einer neuen TAC -Beschichtungstechnologie

Am 5. März nach Angaben der Medien "Zusammengesetzter Halbleiter", Fraunhofer IISB hat eine neue entwickeltTantal -Carbid (TAC) Beschichtungstechnologie-Taccotta. Die Technologielizenz wurde an die Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) übertragen, und NKCG hat begonnen, ihren Kunden TAC-beschichtete Graphitenteile bereitzustellen.

Die traditionelle Methode zur Herstellung von TAC -Beschichtungen in der Branche ist die chemische Dampfablagerung (CVD), die Nachteilen wie hohe Herstellungskosten und lange Lieferzeiten ausgesetzt ist. Zusätzlich ist die CVD -Methode auch anfällig für das Knacken von TAC während der wiederholten Erwärmung und Kühlung von Komponenten. Diese Risse enthüllen den zugrunde liegenden Graphit, der sich im Laufe der Zeit stark verschlechtert und ersetzt werden muss.

Die Innovation von Taccotta besteht darin, dass eine Sprühbeschichtungsmethode auf Wasserbasis verwendet wird, gefolgt von einer Temperaturbehandlung, um eine TAC-Beschichtung mit hoher mechanischer Stabilität und einstellbarer Dicke zu bildenGraphit -Substrat. Die Dicke der Beschichtung kann von 20 Mikrometern auf 200 Mikrometer eingestellt werden, um unterschiedliche Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

Die von Fraunhofer IISB entwickelte TAC -Prozesstechnologie kann die erforderlichen Beschichtungseigenschaften wie Dicke einstellen, wie unten im Bereich von 35 μm bis 110 μm gezeigt.

Insbesondere hat die Taccotta -Sprühbeschichtung auch die folgenden wichtigen Merkmale und Vorteile:

● Umweltfreundlicher: Bei der Sprühbeschichtung auf Wasserbasis ist diese Methode umweltfreundlicher und einfacher zu industrialisieren.

● Flexibilität: Die Taccotta -Technologie kann sich an Komponenten verschiedener Größen und Geometrien anpassen und eine partielle Überbeschichtungs- und Komponentenreueanierung ermöglichen, die bei CVD nicht möglich ist.

● Reduzierte tantale Verschmutzung: Graphitkomponenten mit Taccotta -Beschichtung werden in der SIC -epitaxialen Herstellung verwendet, und die Tantalumverschmutzung wird im Vergleich zu den bestehenden um 75% verringertCVD -Beschichtungen.

● Verschleißfestigkeit: Kratzentests zeigen, dass eine Erhöhung der Beschichtungsdicke den Verschleißfestigkeit erheblich verbessern kann.

Kratzentest

Es wird berichtet, dass die Technologie von NKCG für die Kommerzialisierung gefördert wurde, ein Joint Venture, das sich auf die Bereitstellung leistungsstarker Graphitmaterialien und verwandter Produkte konzentriert. NKCG wird in Zukunft auch lange an der Entwicklung der Taccotta -Technologie teilnehmen. Das Unternehmen hat damit begonnen, ihren Kunden Graphitkomponenten zu bieten, die auf der Taccotta -Technologie basieren.

Vetek Semiconductor fördert die Lokalisierung von TAC

Anfang 2023 startete Vetek Semiconductor eine neue Generation vonSiC -KristallwachstumWärmefeldmaterial-Poröser Tantal -Carbid.

Berichten zufolge hat Vetek Semiconductor einen Durchbruch bei der Entwicklung von gestartetPoröser Tantal -Carbidmit großer Porosität durch unabhängige technologische Forschung und Entwicklung. Seine Porosität kann bis zu 75%erreichen und die internationale Führung erreichen.