Halbleiterquarz -Glockenglas

Die Quarzglasglocke in Halbleiterqualität besteht aus hochreinem Quarzmaterial. Es verfügt über eine ausgezeichnete thermische Stabilität und starke Korrosionsbeständigkeit und wird in vielen Bereichen eingesetzt. In der Halbleiterindustrie: Quarzglasglocken in Halbleiterqualität bieten eine kontrollierte Umgebung für die Dünnschichtabscheidung auf Wafern während der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD). Quarzglasglocken in Halbleiterqualität werden auch in Prozessen verwendet, die Vakuumtechnologie erfordern, beispielsweise bei der Herstellung optischer Beschichtungen, Metallbeschichtungen und anderer Arten von Dünnschichtmaterialien. Quarzglocken in Halbleiterqualität werden auch in vielen physikalischen und materialwissenschaftlichen Experimenten benötigt, die eine hochreine, vakuumversiegelte Umgebung erfordern.

Anwendungsszenarien für die Halbleiterindustrie:

Polysilizium ist ein aus vielen kleinen Körnchen bestehendes Siliziummaterial, das in integrierten Schaltkreisen, Solarzellen und anderen Bereichen weit verbreitet ist. Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine der Hauptmethoden zur Herstellung von polykristallinem Silizium. Das Grundprinzip besteht darin, dass das Silizium-Quellgas, wie z. B. SiH4, bei hoher Temperatur zersetzt und auf dem Substrat abgeschieden wird, um polykristallines Silizium zu bilden:

SIHCL3 + H2 ⇒ Si + 3HCL

Unter Hochtemperatur- und Vakuumbedingungen wurde das Silizium-Quellgas in die chemische Gasphasenabscheidung eingespeist. Schließlich wird polykristallines Silizium erhalten. Die Quarzglocke in Halbleiterqualität ist ein wichtiger Bestandteil des CVD-Reaktors für polykristallines Silizium.

CVD-Reaktor aus polykristallinem Silizium

Unter der Hochtemperaturreaktion von CVD kann Quarzglas der Halbleiterquarz eine gleichmäßige thermische Umgebung liefern. Die hohe Temperaturbeständigkeit von hochreinigem Quarzmaterial (kann Temperaturen bis zu etwa 1100 ° C standhalten) ermöglicht es ihm, stabil bei CVD -Reaktionen zu arbeiten und eine gleichmäßige Temperaturverteilung im Reaktionsbereich sicherzustellen. Im CVD -Verfahren gibt es viele toxische Gaskomponenten wie PH3 usw. Die Quarz -Glockenglas des Halbleitergrades kann die chemischen Gase in der Reaktionskammer effektiv aus der äußeren Umgebung isolieren, um schädliche Gasleckage zu verhindern. Die Korrosionsbeständigkeit von Quarzmaterial mit hohem Reinheit ermöglicht es auch anderen Materialien, während des CVD -Prozesses lange stabil zu arbeiten, und ist nicht leicht zu korrodieren oder beschädigt.

Die Quarzglocke wird in Verbindung mit dem Quarz-Wärmekonservierungsrohr und dem vertikalen Quarzboot verwendet und wird hauptsächlich im Epitaxieprozess der Herstellung von Halbleiterchips für integrierte Schaltkreise verwendet. Der Epitaxieofen hat im Allgemeinen eine vertikale Struktur, mit der Quarzglocke an der Außenseite des vertikalen Quarzschiffchens und dem Quarz-Wärmeschutzrohr als Träger.

Eine weitere typische Anwendung von Quarzglocken in Halbleiterqualität in Umgebungen mit hohen Temperaturen: Erhitzen einer Charge kieferorthopädischer Teile innerhalb einer Sekunde auf 704 °C in einer inerten Atmosphäre zum Hartlöten:

VeTek Semiconductor verfügt über ein ausgereiftes technisches Team. Ganz gleich, welche Form oder welches Material Sie für eine Glasglocke aus hochreinem Quarz benötigen, wir können sie maßgeschneidert für Sie herstellen.

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