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Spezialgraphit

VeTek Semiconductor bietet Spezialgraphit wie silikonisierten Graphit, pyrolytischen Kohlenstoff, porösen Graphit, glasartige Kohlenstoffbeschichtung, hochreine Graphitfolie und hochreinen isostatischen Graphit an. Dies sind verschiedene Arten von Spezialgraphitmaterialien, die gemeinsame Eigenschaften und Anwendungen haben. Hier ist eine kurze Einführung in ihre Funktionen und Anwendungen:


Silikonisierter Graphit: Silikonisierter Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial, das durch die Kombination von Graphit mit Siliziumverbindungen entsteht. Es weist eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und mechanische Eigenschaften auf. Silikonisierter Graphit wird häufig in Hochtemperaturöfen, korrosionsbeständigen Geräten und in der Halbleiterfertigung verwendet.

Pyrolytischer Kohlenstoff: Pyrolytischer Kohlenstoff ist ein Kohlenstoffmaterial, das durch Hochtemperaturpyrolyse organischer Substanzen wie Kohle und Petrolkoks gewonnen wird. Es zeichnet sich durch hohe Reinheit, Dichte, Festigkeit und geringe elektrische Leitfähigkeit aus. Pyrolytischer Kohlenstoff findet breite Anwendung als Hochtemperaturmaterialien und Strukturkomponenten in der Halbleiterindustrie, chemischen Ausrüstung, Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen.

Poröser Graphit: Poröser Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial mit mikro- und mesoporösen Strukturen. Es verfügt über eine große spezifische Oberfläche und Porosität und bietet hervorragende Adsorptions- und Wärmeleitfähigkeitseigenschaften. Poröser Graphit wird üblicherweise bei der Gastrennung, der SiC-Kristallzüchtung und anderen Anwendungen verwendet.

Glaskohlenstoffbeschichtung: Glaskohlenstoffbeschichtung bezieht sich auf die Technik, glasartiges Kohlenstoffmaterial als Oberflächenbeschichtung aufzutragen. Es weist eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und elektrische Leitfähigkeit auf. Glaskohlenstoffbeschichtungen werden häufig in korrosionsbeständigen Beschichtungen, Beschichtungsmaterialien für Elektronenstrahlkanonen und anderen Halbleiterbereichen eingesetzt.

Hochreiner isostatischer Graphit: Hochreiner isostatischer Graphit ist ein hochreines Spezialgraphitmaterial, das durch ein isostatisches Hochtemperatur-Pressverfahren hergestellt wird. Es zeichnet sich durch eine gleichmäßige Mikrostruktur, eine hohe Dichte und einen niedrigen Sauerstoffgehalt aus. Hochreiner isostatischer Graphit wird in großem Umfang in der Präzisionsbearbeitung, in Wärmeableitungsmaterialien, in der Halbleiterfertigung, in der Photovoltaik, in der Luft- und Raumfahrt und in anderen Branchen eingesetzt.


Hochreines Graphitpapier ist ein Spezialmaterial für die Halbleiterindustrie. Mit seiner außergewöhnlichen thermischen und elektrischen Leitfähigkeit spielt es eine entscheidende Rolle in Anwendungen wie Kühlkörpern, thermischen Schnittstellenmaterialien und elektrischer Isolierung. Die leichte und flexible Beschaffenheit von hochreinem Graphitpapier macht es ideal für die Verbesserung des Wärmemanagements und die Optimierung der Leistung von Halbleiterbauelementen. Seine hohe Reinheit (Verunreinigung unter 5 ppm) gewährleistet einen zuverlässigen und effizienten Betrieb und macht es zu einer wertvollen Komponente bei der Herstellung und Montage von Halbleitern.


Diese speziellen Graphitwerkstoffe bieten in ihren jeweiligen Einsatzgebieten einzigartige Eigenschaften und Anwendungsvorteile. Sie spielen eine entscheidende Rolle in Hochtemperaturumgebungen, Korrosionsbeständigkeit, Elektronik, Energie, Chemietechnik, Luft- und Raumfahrt sowie in der Halbleiterindustrie und bieten wesentliche Unterstützung für Fortschritte und Innovationen in diesen Sektoren.



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Drei-Petal-Graphit Crucible

Drei-Petal-Graphit Crucible

Der Drei-Petal-Graphit-Crucible des Vetek-Halbleiter-Graphitmaterials besteht aus der pyrolytischen Kohlenstoffbeschichtung mit hohem Reinheit, das zum Ziehen von Einkristallthermiefeld verwendet wird. Im Vergleich zum traditionellen Schmelztiegel ist die Struktur des Drei-Lob-Designs bequemer zu installieren und zu zerlegen, die Arbeitseffizienz zu verbessern, und die Verunreinigungen unter 5 ppm können die Anwendung der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie erfüllen.
Poröse Graphit mit hoher Reinheit

Poröse Graphit mit hoher Reinheit

Poröser Graphit mit hoher Reinheit, die von Vetek Semiconductor bereitgestellt wird, ist ein fortschrittliches Semiconductor -Verarbeitungsmaterial. Es besteht aus hohem Kohlenstoffmaterial mit hervorragender thermischer Leitfähigkeit, guter chemischer Stabilität und ausgezeichneter mechanischer Stärke. Dieser poröse Graphit mit hoher Reinheit spielt eine wichtige Rolle im Wachstumsprozess von Einkristall -SIC. Vetek Semiconductor setzt sich dafür ein, Qualitätsprodukte zu Wettbewerbspreisen bereitzustellen, und freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
Hochreinheit Graphitpapier

Hochreinheit Graphitpapier

Das von Vetek Semiconductor bereitgestellte Hochreinheitspapier ist eine zuverlässige und effiziente Versiegelungslösung. High-Purity-Graphitpapier ist ein Versiegelungsmaterial aus fortschrittlichen Graphitmaterialien mit hervorragender Leistung und Zuverlässigkeit. Es hat einen hervorragenden Hochtemperaturwiderstand und kann die Dichtungsanforderungen unter extremen Temperaturbedingungen standhalten. Willkommen jederzeit zu erkundigen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
Glasible Carbon beschichtetes Graphit Crucible

Glasible Carbon beschichtetes Graphit Crucible

Customized Glader mit kohlenstoffbeschichtetem Graphit Crucible ist ein High-End-Produkt für E-Strahl-Kanonen, Silizium-Einzelkristall-Ziehen, Epitaxie. Durch jahrelange technische Akkumulation ist unser glasides, kohlenstoffbeschichteter Graphit Crucible sorgfältig konstruiert, um außergewöhnliche Leistung zu erzielen. Es bietet eine verbesserte Haltbarkeit gegen Kratzer und andere Reibung und verringert auch die Erzeugung von Staub. Willkommen, um unsere Fabrik zu besuchen, um weitere Informationen zu erhalten.
Mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel für E-Beam-Pistole

Mit Glaskohlenstoff beschichteter Graphittiegel für E-Beam-Pistole

Vetek Semiconductor ist ein führender Anbieter von maßgeschneidertem, mit Kohlenstoff beschichteten Graphit, der für E-Strahl-Waffe in China Crucible ist und sich seit vielen Jahren auf fortschrittliche Materialien spezialisiert hat. Unser graser, mit Kohlenstoff beschichteter Graphit Crucible wurde speziell für die E-Beam-Pistole entwickelt, um eine hervorragende Leistung zu gewährleisten. Hergestellt aus ultra-pure-importiertem SGL-Graphit bietet es Zuverlässigkeit und Haltbarkeit. Besuchen Sie unsere Fabrik in China, um die tiefe Zusammenarbeit zu erkunden.
Mit Pyrolysegraphit beschichtete Graphitelemente

Mit Pyrolysegraphit beschichtete Graphitelemente

Vetek Semiconductor ist ein führender Anbieter von maßgeschneiderten pyrolytischen Graphit -Graphitelementen in China. Die pyrolytischen Graphit -Graphitelemente, die wir bereitstellen, weisen eine dichte Oberflächenstruktur, eine hohe Reinheit und eine gute Hochtemperaturwiderstand auf. Vetek Semiconductor ist verpflichtet, langfristige strategische Partnerschaften mit Kunden aufzubauen, um technologische Innovationen und industrielle Entwicklung zu fördern.
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Spezialgraphit in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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