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Spezialgraphit

VeTek Semiconductor bietet Spezialgraphit wie silikonisierten Graphit, pyrolytischen Kohlenstoff, porösen Graphit, glasartige Kohlenstoffbeschichtung, hochreine Graphitfolie und hochreinen isostatischen Graphit an. Dies sind verschiedene Arten von Spezialgraphitmaterialien, die gemeinsame Eigenschaften und Anwendungen haben. Hier ist eine kurze Einführung in ihre Funktionen und Anwendungen:


Silikonisierter Graphit: Silikonisierter Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial, das durch die Kombination von Graphit mit Siliziumverbindungen entsteht. Es weist eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und mechanische Eigenschaften auf. Silikonisierter Graphit wird häufig in Hochtemperaturöfen, korrosionsbeständigen Geräten und in der Halbleiterfertigung verwendet.

Pyrolytischer Kohlenstoff: Pyrolytischer Kohlenstoff ist ein Kohlenstoffmaterial, das durch Hochtemperaturpyrolyse organischer Substanzen wie Kohle und Petrolkoks gewonnen wird. Es zeichnet sich durch hohe Reinheit, Dichte, Festigkeit und geringe elektrische Leitfähigkeit aus. Pyrolytischer Kohlenstoff findet breite Anwendung als Hochtemperaturmaterialien und Strukturkomponenten in der Halbleiterindustrie, chemischen Ausrüstung, Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen.

Poröser Graphit: Poröser Graphit ist ein spezielles Graphitmaterial mit mikro- und mesoporösen Strukturen. Es verfügt über eine große spezifische Oberfläche und Porosität und bietet hervorragende Adsorptions- und Wärmeleitfähigkeitseigenschaften. Poröser Graphit wird üblicherweise bei der Gastrennung, der SiC-Kristallzüchtung und anderen Anwendungen verwendet.

Glaskohlenstoffbeschichtung: Glaskohlenstoffbeschichtung bezieht sich auf die Technik, glasartiges Kohlenstoffmaterial als Oberflächenbeschichtung aufzutragen. Es weist eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und elektrische Leitfähigkeit auf. Glaskohlenstoffbeschichtungen werden häufig in korrosionsbeständigen Beschichtungen, Beschichtungsmaterialien für Elektronenstrahlkanonen und anderen Halbleiterbereichen eingesetzt.

Hochreiner isostatischer Graphit: Hochreiner isostatischer Graphit ist ein hochreines Spezialgraphitmaterial, das durch ein isostatisches Hochtemperatur-Pressverfahren hergestellt wird. Es zeichnet sich durch eine gleichmäßige Mikrostruktur, eine hohe Dichte und einen niedrigen Sauerstoffgehalt aus. Hochreiner isostatischer Graphit wird in großem Umfang in der Präzisionsbearbeitung, in Wärmeableitungsmaterialien, in der Halbleiterfertigung, in der Photovoltaik, in der Luft- und Raumfahrt und in anderen Branchen eingesetzt.


Hochreines Graphitpapier ist ein Spezialmaterial für die Halbleiterindustrie. Mit seiner außergewöhnlichen thermischen und elektrischen Leitfähigkeit spielt es eine entscheidende Rolle in Anwendungen wie Kühlkörpern, thermischen Schnittstellenmaterialien und elektrischer Isolierung. Die leichte und flexible Beschaffenheit von hochreinem Graphitpapier macht es ideal für die Verbesserung des Wärmemanagements und die Optimierung der Leistung von Halbleiterbauelementen. Seine hohe Reinheit (Verunreinigung unter 5 ppm) gewährleistet einen zuverlässigen und effizienten Betrieb und macht es zu einer wertvollen Komponente bei der Herstellung und Montage von Halbleitern.


Diese speziellen Graphitwerkstoffe bieten in ihren jeweiligen Einsatzgebieten einzigartige Eigenschaften und Anwendungsvorteile. Sie spielen eine entscheidende Rolle in Hochtemperaturumgebungen, Korrosionsbeständigkeit, Elektronik, Energie, Chemietechnik, Luft- und Raumfahrt sowie in der Halbleiterindustrie und bieten wesentliche Unterstützung für Fortschritte und Innovationen in diesen Sektoren.



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Erweiterte poröse Graphit

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Als professioneller und leistungsstarker Hersteller und Lieferant war Vetek Semiconductor immer dafür verpflichtet, dem Markt hochreines fortschrittliche poröse Graphit bereitzustellen. Wenn wir uns auf unser eigenes professionelles und exzellentes Team verlassen, können wir unseren Kunden maßgeschneiderte Produkte mit wettbewerbsfähigen Preisen und effizienten Lösungen zur Verfügung stellen.
Isostatischer Graphit Crucible

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Als führender Anbieter von maßgeschneiderten Graphit-Tiegel in China liefert der Vetek-Halbleiter hauptsächlich isostatische Graphit Crucible, sicbeschichtete Graphit-Tiegel-Deflektor, glasartige, mit Kohlenstoff beschichtete Graphit-Tiegel usw. Unsere Graphit-Tiegel bestehen aus hoher Puritätsrohfleisch. Willkommen, uns zu konsultieren.
Sic kristallwachstum porous graphit

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Poröser Graphit

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Porous Graphit spielt als Kernverbrauchsteuer im Halbleiterherstellungsprozess eine unersetzliche Rolle bei mehreren Links wie Kristallwachstum, Doping und Tempern. Als professioneller Hersteller von poröser Graphit setzt sich Vetek Semiconductor dafür ein, qualitativ hochwertige poröse Graphitprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen bereitzustellen. Begrüßen Sie Ihre weitere Anfrage.
Waferträgerschale

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Vetek Semiconductor ist auf eine Partnerschaft mit seinen Kunden spezialisiert, um maßgefertigte Designs für Wafer Carrier Tably zu produzieren. Die Wafer-Trägertablett kann für die Verwendung in CVD-Silizium-Epitaxie, III-V-Epitaxie und III-Nitrid-Epitaxie, Siliziumkarbid-Epitaxie, ausgelegt werden. Bitte wenden Sie sich an Vetek Semiconductor bezüglich Ihrer Susceceptor -Anforderungen.
Pecvd Graphitboot

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Das PECVD -Graphitboot von Vetekememon optimiert Solarzellenbeschichtungsprozesse durch Abstand von Siliziumwafern effektiv und induziert eine Glühdleitung für einheitliche Beschichtungsablagerung. Mit fortschrittlicher Technologie und materieller Auswahl verbessert die PECVD -Graphitboote von Vetekememon die Qualität der Siliziumwafer und steigern die Effizienz der Solarenergieumwandlung.
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Spezialgraphit in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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