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Graphitschiffchen für PECVD

Graphitschiffchen für PECVD

Das Veteksemicon-Graphitboot für PECVD ist präzisionsgefertigt aus hochreinem Graphit und speziell für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidungsprozesse konzipiert. Wir nutzen unser umfassendes Wissen über Halbleiter-Wärmefeldmaterialien und Präzisionsbearbeitungsmöglichkeiten und bieten Graphitschiffchen mit außergewöhnlicher thermischer Stabilität, ausgezeichneter Leitfähigkeit und langer Lebensdauer. Diese Boote sind so konzipiert, dass sie in der anspruchsvollen PECVD-Prozessumgebung eine äußerst gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf jedem Wafer gewährleisten und so die Prozessausbeute und Produktivität verbessern.
Glasiger Kohlenstoff Crucible

Glasiger Kohlenstoff Crucible

Als führender chinesischer Hersteller von glasigen Kohlenstoffprodukten werden die glasigen Kohlenstoffkranz von Vetekememon aufgrund ihrer hervorragenden ultrahohen Reinheit, Nullporosität, Anti-Permeation und hervorragender chemischer Korrosionsresistenz im Halbleiter-Produktionsfeld häufig verwendet und von europäischen und amerikanischen Kunden ein hohes Lob gewonnen. Willkommen zu Ihrer Anfrage.
Graphitpapier

Graphitpapier

Vetek Semiconductor's High Purity Graphit Paper, ein Premium -Produkt, das für strenge Reinheit und Leistungsstandards entworfen wurde. Mit einem außergewöhnlichen Reinheit von bis zu 99,9%gilt unser Graphitpapier als vertrauenswürdige Option für verschiedene Anwendungen wie Batteriesysteme, Brennstoffzellen, thermische Managementlösungen, thermische Felder mit Halbleiterthermie und darüber hinaus. Dieses Graphitpapier durch ein proprietäres Herstellungsprozess garantiert eine Gleichmäßigkeit und Konsistenz und liefert eine beispiellose elektrische Leitfähigkeit und thermische Stabilität. Vertrauen Sie Vetek Semiconductor's High Purity Graphit Paper für Zuverlässigkeit und Exzellenz in Ihren speziellen Projekten.
Hochreines Graphitpulver

Hochreines Graphitpulver

Vetek Semiconductor bietet hochreines Graphitpulver an, ein hochwertiges Produkt mit einer Reinheit von bis zu 5 ppm, das den höchsten Industriestandards entspricht. Anpassbare Partikelform, die hauptsächlich für die Siliziumkarbidpulver- und Diamantsynthese verwendet wird und für die Halbleiter-, Elektronik- und High-Tech-Industrie geeignet ist. Willkommen bei uns!
EDM Graphitelektrode

EDM Graphitelektrode

EDM-Graphitelektroden zeichnen sich durch mäßige Dichte, glatte Oberfläche und niedrige Kosten aus und eignen sich für die chemische Industrie, das Schmelzen von Metallen usw. VeTek Semiconductor verfügt über starke Produktionskapazitäten und umfangreiche Exporterfahrung bei EDM-Graphitelektrodenprodukten. Gerne können Sie sich jederzeit bei uns erkundigen.
Ionenstrahl-Sputterquellen-Gitter

Ionenstrahl-Sputterquellen-Gitter

Ionenstrahlen werden hauptsächlich zum Ionenätzen, zur Ionenbeschichtung und zur Plasmainjektion verwendet. Die Aufgabe des Ionenstrahl-Sputter-Quellengitters besteht darin, die Ionen zu zerlegen und auf die erforderliche Energie zu beschleunigen. Vetek Semiconductor bietet hochreine Graphit-Ionenstrahl-Ionenstrahl-Sputterquellengitter für das Ionenstrahlpolieren optischer Linsen, die Modifikation von Halbleiterwafern usw. Gerne können Sie sich nach kundenspezifischen Produkten erkundigen.
Als professioneller Spezialgraphit Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.
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