Dreiteilige Graphittiegel

Hauptmerkmale
· Hochreiner isostatischer Graphit mit einem Aschegehalt ≤5 ppm nach der Reinigung.

· Dreiteiliges, modulares Design minimiert thermische Belastung und verlängert die Lebensdauer.

· Hervorragende Wärmeleitfähigkeit für stabile Temperaturverteilung.

· Hervorragende Thermoschockbeständigkeit bei wiederholtem Erhitzen und Abkühlen.

· Kompatibel mit optionalen CVD-SiC-, TaC- und PyC-Beschichtungen.

· Präzise CNC-Bearbeitung gewährleistet enge Maßtoleranzen.

· Kundenspezifische Größen und Strukturen gemäß Kundenzeichnungen verfügbar.

Spezifikationen

Anwendungen
· PVT-SiC-Kristallwachstum

· Halbleiter-Wärmefeldsysteme

· Kristallwachstumsöfen

· Hochtemperatur-Vakuumöfen

· Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern

· Halbleiter-Forschungs- und Entwicklungsausrüstung

Warum mit VETEK zusammenarbeiten?

· Komplette Eigenproduktion von der Graphitreinigung bis zur Beschichtung.

· Fortschrittliche CNC-Bearbeitung und Qualitätskontrolle auf Halbleiterniveau.

· Optionale SiC-, TaC- und PyC-Beschichtungstechnologien.

· Sonderanfertigungen auf Basis von Zeichnungen oder Gerätemodellen.

· Stabile globale Versorgung und zuverlässiger technischer Support.