CVD -SIC -Beschichtungs -Dummy -Wafer

Produktmerkmale von Veteksemi CVD SIC Coating Dummy Wafer:

● Hochtemperaturgaswiderstand: SIC Dummy Wafer hat eine hervorragende Beständigkeit gegen Hochtemperaturgaserosion, die für die Verwendung unter extremen Bedingungen geeignet ist. Diese Widerstandsfähigkeit sorgt selbst in den anspruchsvollsten Umgebungen durch eine konsequente Leistung.

● Langzeitstrukturintegrität: CVD -SIC -Beschichtungsdummy -Wafer sind so konzipiert, dass sie Biegung und Verformung über lange Zeiträume widerstehen. Ihre Haltbarkeit stellt sicher, dass sie über mehrere Testzyklen zuverlässig bleiben und die Notwendigkeit eines häufigen Ersatzes verringern.

● Partikelfreie Oberfläche: SIC-Dummy-Wafer haben eine leicht zu reduzierende Oberfläche, die Partikelprobleme minimiert, was für die Aufrechterhaltung einer kontaminationsfreien Umgebung von entscheidender Bedeutung ist. Diese Funktion unterstützt qualitativ hochwertige Ergebnisse und verringert das Risiko von Defekten.

● Chemische Stabilität: Die chemische Stabilität von sicbeschichtetem Dummy -Wafer ermöglicht es ihm, einer Vielzahl von korrosiven Substanzen ohne Verschlechterung standzuhalten. Dieses Merkmal ist entscheidend für die Aufrechterhaltung der Integrität des Wafers während der chemischen Exposition.

Spezifische Verwendungen von CVD -sic beschichteten Dummy -Wafern:

● Vielseitige Tests und Experimente: SIC -beschichtete Dummy -Wafer sind in allen Phasen der Halbleiterproduktion von wesentlicher Bedeutung und bieten ein sicheres und zuverlässiges Test- und Experimentiermittel. Sie sind zu Beginn des Produktionsprozesses von wesentlicher Bedeutung, um sicherzustellen, dass alle Parameter optimal sind, bevor die wertvollen Produktionswaffeln verwendet werden.

● Schutz während der Diffusion: Während des Diffusionsprozesses spielen Dummy -Wafer eine wichtige Rolle, indem sie Standard -Silizium -Wafer abschätzen. Diese Schutzfunktion verhindert Schäden und Kontaminationen, wodurch die Integrität und Qualität des ursprünglichen Wafers aufrechterhalten wird.

● Messgenauigkeit: Diese Wafer werden sorgfältig verwendet, um die Filmdicke, den Druckwiderstand und den reflektierenden Index zu messen. Sie helfen auch dabei, das Vorhandensein von Flippern zu erkennen und die Musterdimensionen in der Lithographie zu bewerten, wodurch ein signifikanter Beitrag zur Prozessgenauigkeit und zur Verringerung der Defekte geleistet wird.

Tatsächlich unterstützt Vetek Semiconductor maßgeschneiderte Produktdienste und kann eine benutzerdefinierte Serialisierung für jeden CVD-SIC-Beschichtungsdummy-Wafer entsprechend den Kundenanforderungen ermöglichen, sodass eine kundenspezifische Größe und Dicke ermöglicht. Die benutzerdefinierte Lasergravur beseitigt das Risiko einer Kreuzverschmutzung weiter und sorgt für ein hohes Maß an Reinheit und Zuverlässigkeit.

SEM -Daten des CVD -SIC -Beschichtungsfilms: