Was ist TAC -Beschichtung? - Vetek Semiconductor

TAC -Beschichtung (Tantal -Carbidbeschichtung) ist ein Hochleistungsbeschichtungsmaterial, das durch chemische Dampfabscheidungsprozess (CVD) produziert wird. Aufgrund der hervorragenden Eigenschaften der TAC -Beschichtung unter extremen Bedingungen wird es im Halbleiterherstellungsprozess weit verbreitet, insbesondere in Geräten und Komponenten, die hohe Temperatur und starke korrosive Umgebung erfordern. Die TAC -Beschichtung wird normalerweise verwendet, um Substrate (wie Graphit oder Keramik) vor Schäden durch hohe Temperatur, korrosive Gase und mechanische Verschleiß zu schützen.

Physikalische Eigenschaften der TAC -Beschichtung

Produktmerkmale und Vorteile

● Extrem hohe thermische Stabilität:

Merkmalsbeschreibung: Die TAC -Beschichtung hat einen Schmelzpunkt von mehr als 3880 ° C und kann die Stabilität ohne Zersetzung oder Deformation in extrem hohen Temperaturumgebungen aufrechterhalten.

Vorteil: Dies macht es zu einem unverzichtbaren Material in hochtemperaturen Halbleiterausrüstung wie CVD-TAC-Beschichtung und TAC-beschichteten Suszeptor, insbesondere für Anwendungen in MOCVD-Reaktoren wie Aixtron G5-Geräten.

● Hervorragende Korrosionsbeständigkeit:

Merkmalsbeschreibung: TAC hat eine extrem starke chemische Inertheit und kann der Erosion von ätzenden Gasen wie Chloriden und Fluoriden effektiv widerstehen.

Vorteile: In Halbleiterprozessen mit hochkarresiven Chemikalien schützt die TAC -Beschichtung Gerätekomponenten vor chemischem Angriff, verlängert die Lebensdauer und verbessert die Prozessstabilität, insbesondere bei der Anwendung von Siliziumkarbid -Waferboot und anderen Schlüsselkomponenten.

● Hervorragende mechanische Härte:

Merkmalsbeschreibung: Die Härte der TAC-Beschichtung beträgt bis zu 9-10 MOHS, wodurch sie gegen mechanische Verschleiß und hohe Temperaturspannung resistent ist.

Vorteil: Die Eigenschaft mit hoher Härte macht die TAC-Beschichtung besonders geeignet für den Einsatz in hohen Verschleiß- und hohen Stressumgebungen, um die langfristige Stabilität und Zuverlässigkeit von Geräten unter harten Bedingungen zu gewährleisten.

● niedrige chemische Reaktivität:

Merkmalsbeschreibung: Aufgrund seiner chemischen Trägheit kann die TAC -Beschichtung in Umgebungen mit hohen Temperaturen eine geringe Reaktivität aufrechterhalten und unnötige chemische Reaktionen mit reaktiven Gasen vermeiden.

Vorteil: Dies ist besonders wichtig im Semiconductor-Herstellungsprozess, da sie die Reinheit der Prozessumgebung und die qualitativ hochwertige Ablagerung von Materialien gewährleistet.

Die Rolle der TAC -Beschichtung bei der Verarbeitung der Halbleiter

● Schutz der wichtigsten Gerätekomponenten:

Funktionsbeschreibung: Die TAC -Beschichtung wird in Schlüsselkomponenten von Halbleiterfertigungsgeräten wie TAC -beschichteten Suszeptor häufig verwendet, die unter extremen Bedingungen arbeiten müssen. Durch die Beschichtung mit TAC können diese Komponenten über einen längeren Zeitraum der hohen Temperatur- und korrosiven Gasumgebungen arbeiten, ohne beschädigt zu werden.

● Lebensdauer der Ausrüstung verlängern:

Funktionsbeschreibung: In MOCVD -Geräten wie Aixtron G5 kann die TAC -Beschichtung die Haltbarkeit von Gerätekomponenten erheblich verbessern und den Bedarf an Wartungs- und Austausch von Geräten aufgrund von Korrosion und Verschleiß verringern.

● Verbesserung der Prozessstabilität:

Funktionsbeschreibung: Bei der Herstellung von Halbleiter sorgt die TAC -Beschichtung für die Gleichmäßigkeit und Konsistenz des Abscheidungsprozesses durch eine stabile hohe Temperatur und chemische Umgebung. Dies ist besonders wichtig bei epitaxialen Wachstumsprozessen wie Siliziumpitaxie und Galliumnitrid (GaN).

● Verbesserung der Prozesseffizienz:

Funktionsbeschreibung: Durch die Optimierung der Beschichtung auf der Oberfläche der Geräte kann die TAC -Beschichtung die Gesamteffizienz des Prozesses verbessern, die Defektrate verringern und die Produktausbeute erhöhen. Dies ist entscheidend für die Herstellung von hochpräzierenden Halbleitermaterialien mit hoher Purity.

Die hohe thermische Stabilität, die hervorragende Korrosionsbeständigkeit, die mechanische Härte und die geringe chemische Reaktivität, die durch TAC -Beschichtung während der Verarbeitung von Halbleiter aufgetragen wird, macht es zu einer idealen Wahl zum Schutz der Komponenten der Semiconductor -Herstellungsgeräte. Da die Nachfrage der Halbleiterindustrie nach hoher Temperatur, hoher Reinheit und effizienten Herstellungsprozessen weiter zunimmt, weist die TAC -Beschichtung eine breite Anwendungsaussichten auf, insbesondere in Geräten und Prozessen, die CVD -TAC -Beschichtung, TAC -beschichtete Suszeptor und Aixtron G5 betreffen.

Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd ist ein führender Anbieter fortschrittlicher Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Unser Unternehmen konzentriert sich auf die Entwicklung modernster Lösungen für die Branche.

Unsere Hauptproduktangebote umfassenCVD Silicon Carbid (sic) Beschichtungen, Tantal -Carbid (TAC) Beschichtungen, Bulk SIC, SIC-Pulver und hochreines SIC-Materialien, sic-beschichtete Graphit-Anfänger, Vorheizenringe, TAC-beschichtete Umleitungsring, Halbmoonteile usw., die Reinheit liegt unter 5 ppm, kann die Kundenanforderungen erfüllen.

Vetek Semiconductor Fokus auf die Entwicklung hochmoderner Technologie- und Produktentwicklungslösungen für die Halbleiterindustrie.Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.