Hochreinheit Graphitleistung

Vetek Semiconudctor bietet ein hochreines Graphitpulver mit hoher Reinheit und kundenspezifischer Partikelgröße für verschiedene Branchen, einschließlich Halbleiteranwendungen.

Graphit schlammig weich, schwarz grau; Fettig, kann das Papier verschmutzen. Die Härte beträgt 1 ~ 2, und die Härte kann mit zunehmender Verunreinigungen auf 3 ~ 5 entlang der vertikalen Richtung erhöht werden. Die spezifische Schwerkraft beträgt 1,9 bis 2,3. Unter dem Zustand der Isolierung von Sauerstoff liegt sein Schmelzpunkt über 3000 ° C, was einer der hochtemperaturbeständigen Mineralien ist.

Das hochreinheitliche Graphitpulver von Vetek Semiconductor ist ein hochwertiges Produkt mit einer Reinheit von bis zu 5 ppm. Wir kontrollieren den Verunreinigungsgehalt unserer Materialien streng, um sicherzustellen, dass sie die höchsten Branchenstandards erfüllen. Unser Graphitpulver kann nach der Partikelmorphologie angepasst werden, was eine größere Flexibilität ermöglicht. Es wird hauptsächlich für die Synthese von Siliziumkarbidpulver und Diamantsynthese verwendet. Die hohe Reinheit und die präzise Partikelgrößenverteilung unserer Produkte machen sie ideal für Kunden in der Halbleiter-, Elektronik- und High-Tech-Industrie.

Vetek Semiconductor hat immer feine Pulver mit extrem hoher Reinheit und hervorragender hoher Kristallinität zur Verfügung gestellt, die in mehreren Branchen, insbesondere in der Halbleiterindustrie, eine Rolle spielt. Unsere Pulverprodukte bieten einen weiten Bereich von 1 bis 100 Mikrometernoten und umfassen 99,999% ultrahohe Reinheit, um die grundlegenden Anwendungen der Kunden in allen Bereichen zu erfüllen.

Feinpulver wird durch ein integriertes Produktionssystem von der Rohstoffverarbeitung bis zum fertigen Produkt hergestellt, wobei die neuesten hochmodernen Produktionsanlagen und unsere einzigartige hochrangige Verarbeitungstechnologie voll ausgenutzt werden. Im Rahmen eines einheitlichen Fertigungsmanagements werden die Rohstoffe je nach Anwendung durch ultrafeine Schleif- und Bewertungsgeräte auf 1 bis 100 Mikrometern zerkleinert. Durch den Sortierprozess werden Rohstoffe zu hoch entwickelten Produkten verarbeitet.

Hochreinheit Graphitpulver hat eine gute chemische Stabilität. Mit guter Korrosionsbeständigkeit, guter thermischer Leitfähigkeit und geringer Permeabilität wird es bei der Herstellung von Wärmetauschern, Reaktionstanks, Kondensatoren, Verbrennungstürmen, Absorptionstürmen, Kühler, Heizungen, Filtern, Pumpen und anderen Geräten häufig eingesetzt.

Aufgrund des geringen Wärmeausdehnung von Graphitpulver und thermische Schockveränderungen können normalerweise in Kristallwachstumsöfen wie monokristallinem Silizium, regionaler Raffinerierbehälter, Halterungen, Induktionsheizungen usw. verwendet werden. Darüber hinaus kann Graphit auch als Vakuumschmelz -Graphit -Isolationsplatine und Basis, Hochtemperaturofenofen, Stab, Platte, Gitter und andere Komponenten verwendet werden.

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