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Hochreines Graphitpulver
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Hochreines Graphitpulver

Vetek Semiconductor bietet hochreines Graphitpulver an, ein hochwertiges Produkt mit einer Reinheit von bis zu 5 ppm, das den höchsten Industriestandards entspricht. Anpassbare Partikelform, die hauptsächlich für die Siliziumkarbidpulver- und Diamantsynthese verwendet wird und für die Halbleiter-, Elektronik- und High-Tech-Industrie geeignet ist. Willkommen bei uns!

Vetek Semiconudctor bietet hochreines Graphitpulver mit hoher Reinheit und maßgeschneiderter Partikelgröße für verschiedene Branchen, einschließlich Halbleiteranwendungen.


Graphit schlammig weich, schwarzgrau; Fettig, kann das Papier verunreinigen. Die Härte beträgt 1 bis 2 und kann mit zunehmender Verunreinigung in vertikaler Richtung auf 3 bis 5 erhöht werden. Das spezifische Gewicht beträgt 1,9 bis 2,3. Unter der Bedingung der Sauerstoffisolierung liegt sein Schmelzpunkt über 3000 ° C, was zu den hochtemperaturbeständigen Mineralien zählt.


Das hochreine Graphitpulver von Vetek Semiconductor ist ein hochwertiges Produkt mit einer Reinheit von bis zu 5 ppm. Wir kontrollieren den Verunreinigungsgehalt unserer Materialien streng, um sicherzustellen, dass sie den höchsten Industriestandards entsprechen. Unser Graphitpulver kann je nach Partikelmorphologie individuell angepasst werden, was eine größere Flexibilität bei der Verwendung ermöglicht. Es wird hauptsächlich für die Synthese von Siliziumkarbidpulver und die Diamantsynthese verwendet. Die hohe Reinheit und präzise Partikelgrößenverteilung unserer Produkte machen sie ideal für Kunden in der Halbleiter-, Elektronik- und Hightech-Industrie.


Vetek Semiconductor liefert seit jeher feine Pulver mit extrem hoher Reinheit und ausgezeichneter hoher Kristallinität, die in zahlreichen Branchen, insbesondere in der Halbleiterindustrie, eine Rolle spielen. Unsere Pulverprodukte bieten ein breites Spektrum von 1 bis 100 Mikrometern und weisen eine ultrahohe Reinheit von 99,999 % auf, um den grundlegenden Anwendungen der Kunden in allen Bereichen gerecht zu werden.

powder particles


Feines Pulver wird durch ein integriertes Produktionssystem von der Rohstoffverarbeitung bis zum fertigen Produkt hergestellt, wobei die neuesten Produktionsanlagen und unsere einzigartige Verarbeitungstechnologie auf hohem Niveau voll ausgenutzt werden. Unter einem einheitlichen Fertigungsmanagement werden die Rohstoffe je nach Anwendung durch ultrafeine Mahl- und Sortieranlagen auf eine Größe von 1 bis 100 Mikrometer zerkleinert. Durch den Sortierprozess werden Rohstoffe zu anspruchsvollen Produkten verarbeitet.

High purity graphite power data

Hochreines Graphitpulver weist eine gute chemische Stabilität auf. Mit guter Korrosionsbeständigkeit, guter Wärmeleitfähigkeit und geringer Permeabilität wird es häufig bei der Herstellung von Wärmetauschern, Reaktionstanks, Kondensatoren, Verbrennungstürmen, Absorptionstürmen, Kühlern, Heizungen, Filtern, Pumpen und anderen Geräten verwendet.

High purity graphite power application


Aufgrund des geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten von Graphitpulver und der Möglichkeit von Thermoschockänderungen wird es üblicherweise in Kristallwachstumsöfen wie monokristallinem Silizium, regionalen Raffinationsbehältern, Halterungshalterungen, Induktionsheizgeräten usw. verwendet, die aus hochreinem Graphit verarbeitet werden. Darüber hinaus kann Graphit auch als Vakuumschmelzgraphit-Isolierplatte und -Basis, Hochtemperaturofenrohr, Stab, Platte, Gitter und andere Komponenten verwendet werden.


VeTek Semiconductor Production Shop:

High purity graphite power shops

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