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LPE SI EPI-Rezeptor-Set
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LPE SI EPI-Rezeptor-Set

Flache Suszeptoren und Zylindersuszeptoren sind die Hauptform von Epi-Suszeptoren. VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von LPE-Si-Epi-Suszeptoren-Sets in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Beschichtung und TaC-Beschichtung spezialisiert. Wir bieten einen LPE-Si-Epi-Suszeptor an Das Set wurde speziell für LPE PE2061S 4-Zoll-Wafer entwickelt. Der Übereinstimmungsgrad von Graphitmaterial und SiC-Beschichtung ist gut, die Gleichmäßigkeit ist ausgezeichnet und die Die Lebensdauer ist lang, was die Ausbeute des Epitaxieschichtwachstums während des LPE-Prozesses (Flüssigkeitsphasenepitaxie) verbessern kann. Wir heißen Sie herzlich willkommen, unsere Fabrik in China zu besuchen.

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von LPE-Si-EPI-Empfängersätzen in China. Mit guter Qualität und wettbewerbsfähigen Preisen sind Sie herzlich willkommen, unsere Fabrik zu besuchen und eine langfristige Zusammenarbeit mit uns aufzubauen.


Der Vetek Semiconductor LPE Si epi Susceptor Set ist ein Hochleistungsprodukt, das durch Auftragen einer feinen Schicht Siliziumkarbid auf die Oberfläche von hochreinigem Auftragen erzeugt wirdisotroper Graphit. Dies wird durch den proprietären chemischen Dampfabscheidungsprozess (CVD) von Vetek Semiconductor erreicht.


Vetek Semiconductor's LPE SI EPI SUPI SUPTORE SET ist ein CVD -Epitaxialablagerungs -Barrel -Reaktor, der selbst unter herausfordernden Bedingungen zuverlässig abschneidet. Die herausragende Beschichtungsadhäsion, die Resistenz gegen Hochtemperaturoxidation und Korrosion machen es zu einer idealen Wahl für harte Umgebungen. Darüber hinaus verhindern sein einheitliches thermisches Profil und das laminare Gasströmungsmuster eine Kontamination und gewährleisten das Wachstum hochwertiger epitaxieller Schichten.


Das tonnenförmige Design unseres Halbleiter-Epitaxie-Reaktors optimiert den Gasfluss und sorgt so für eine gleichmäßige Wärmeverteilung. Diese Funktion verhindert wirksam Kontaminationen und die Diffusion von Verunreinigungen und gewährleistet die Herstellung hochwertiger Epitaxieschichten auf Wafersubstraten.


Bei Vetek Semiconductor sind wir bestrebt, Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte zu bieten. Unser LPE SI EPI SUPPECTOR SET bietet wettbewerbsfähige Preisgestaltung und hält gleichzeitig eine hervorragende Dichte für das Graphit -Substrat und sowohl für das Graphit -Substrat als auch für dieSiliziumkarbidbeschichtung. Diese Kombination sorgt für einen zuverlässigen Schutz in hochtemperatur- und korrosiven Arbeitsumgebungen.


REM-DATEN DES CVD-SIC-FILM

SEM DATA OF CVD SIC FILM


Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung
Eigentum Typischer Wert
Kristallstruktur Polykristalline FCC -β -Phasen -FCC -β -Phase, hauptsächlich (111) orientiert
CVD -SIC -Beschichtungsdichte 3,21 g/cm³
Sic -Beschichtungshärte 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung 2~10μm
Chemische Reinheit 99,99995%
Wärmekapazität 640 J·kg-1· K-1
Sublimationstemperatur 2700 ℃
Biegefestigkeit 415 MPa RT 4-Punkt
Der Modul von Young 430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Wärmeleitfähigkeit 300W · m-1· K-1
Wärmeausdehnung (CTE) 4,5 × 10-6K-1


VeTek Semiconductor LPE SI EPI-Rezeptor-SetProduktionswerkstatt

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Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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