Quarzofenrohr für Diffusionsofen

1. Hauptmerkmale und Vorteile

• Ultrahochreines dehydroxyliertes Quarzglas (SiO₂ ≥ 99,999 %) mit kontrollierten Metallverunreinigungen im ppb-Bereich und extrem niedrigem Hydroxylgehalt

• Dauerbetriebstemperatur bis 1100 °C; kurzfristige Spitzenbeständigkeit bis 1200 °C

• Hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit nach vollständigem Spannungsarmglühen – resistent gegen Rissbildung bei schnellen Temperaturänderungen

• Hervorragende chemische Inertheit gegenüber oxidierenden, reduzierenden und halogenhaltigen Prozessgasen; geeignet für Plasma und korrosive Atmosphären

• Ausgasung bei sehr geringem Vakuum; Die glatte Innenwand minimiert die Ansammlung von Nebenprodukten und unterstützt die Wiederholbarkeit des Prozesses

• Einteilige Formung mit gleichmäßiger Wandstärke, hoher Koaxialität und präzisionsgefertigten Enden für zuverlässige Abdichtung

• Anpassbare Strukturen: gerade Rohre, Reduzierrohre, Flanschrohre, verlängerte Längen und spezielle Endkonfigurationen für vertikale oder horizontale Öfen

2. Typische Anwendungen

VeTek-Quarzofenrohre werden häufig als Kernreaktionskammer verwendet in:

• Thermische Oxidationsöfen (Trocken-/Nassoxidation)

• Diffusionsöfen zum Einbringen von Dotierstoffen (B, P, As usw.)

• LPCVD-Systeme zur Dünnschichtabscheidung

• Vakuumglühen und andere Hochtemperatur-Wärmebehandlungsprozesse

• Kompatibel mit 4-Zoll-, 6-Zoll-, 8-Zoll- und 12-Zoll-Waferplattformen (Si, SiC, GaN, Saphirsubstrate)

Sie unterstützen Produktionslinien für Logik, Speicher, Leistungsgeräte, MCU, LED, MEMS und Halbleiter mit großer Bandlücke, die eine stabile Temperaturgleichmäßigkeit, Gasflusskontrolle und hochreine Prozessumgebungen erfordern.

3. Wichtige technische Parameter

• Material: Dehydroxyliertes Quarzglas in Halbleiterqualität (SiO₂ ≥ 99,999 %), niedriger Hydroxylgehalt, geringe metallische Verunreinigungen

• Wafer-Kompatibilität: 4 / 6 / 8 / 12 Zoll

• Langzeitarbeitstemperatur: −20 °C bis 1100 °C; kurzfristige Spitze bis 1200 °C

• Prozess: Einteilige thermische Umformung, Wandhomogenisierung, Endbearbeitung, Spannungsarmglühen, Helium-Lecktest, Ultra-Clean-Reinigung

• Verfügbare Strukturen: Gerades Rohr, Reduzierrohr, Flanschrohr, verlängertes/kundenspezifisches Rohr, spezielle Endkonfigurationen

• Kundenspezifische Anpassung: Innen-/Außendurchmesser, Länge, Wandstärke, Flanschspezifikationen und spezielle Geometrien gemäß Kundenzeichnungen

4. Warum sollten Sie sich für Quarzofenrohre von VeTek entscheiden?

Als professioneller Hersteller von Halbleiterquarzkomponenten bietet VeTek Semiconductor:

• Ofenrohre aus hochreinem Quarz, die für Oxidations-, Diffusions-, LPCVD- und Glühanlagen entwickelt wurden

• Strenge Reinheitskontrolle, Maßhaltigkeit und Sauberkeit, geeignet für die Reinraumproduktion der Klassen 10 und 100

• Vollständige kundenspezifische und OEM-kompatible Designs für vertikale und horizontale Rohröfen

• Komplementäre Halbleiter-Quarzprodukte, einschließlich Wafer-Boote, Tiegel, Auskleidungen und andere Prozesskomponenten

Unsere Quarzofenrohre tragen dazu bei, stabile Wärme- und Gasströmungsbedingungen aufrechtzuerhalten, Partikel- und Metallverunreinigungen zu minimieren und die Lebensdauer bei kontinuierlichen Hochtemperaturzyklen zu verlängern – was zu einer höheren Ausbeute und niedrigeren Betriebskosten bei der thermischen Halbleiterverarbeitung führt.