TaC-Beschichtungsheizung

Die TAC-Beschichtungsheizung ist ein Hochleistungsheizelement, das bei Halbleiterherstellungsprozessen weit verbreitet ist. Seine Oberfläche ist mit Tantal -Carbid (TAC) -Material überzogen, wodurch die Heizung hervorragend Hochtemperaturbeständigkeit, chemische Korrosionsbeständigkeit und hervorragende thermische Leitfähigkeit verleiht.

Zu den Hauptanwendungen der TaC-Beschichtungsheizung in der Halbleiterfertigung gehören:

 ✔ Während des epitaxialen Wachstumsprozesses des Galliumnitrids (GaN) bietet die TAC -Beschichtungsheizung eine genau kontrollierte Hochtemperaturumgebung, um sicherzustellen, dass die epitaxiale Schicht mit gleichmäßiger Geschwindigkeit und hoher Qualität auf dem Substrat abgelagert wird. Der stabile Wärmeausgang trägt dazu bei, eine präzise Kontrolle der Dünnfilmmaterialien zu erreichen und damit die Leistung der Geräte zu verbessern.

 ✔ Darüber hinaus wird im Prozess des organischen organischen chemischen Dampfabscheidungsabscheidungsabscheidungs Fördert seine chemische Reaktion auf der Substratoberfläche, wodurch die Gleichmäßigkeit der epitaxialen Schicht verbessert und einen hochwertigen Film bildet.

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