Was ist Tantal Carbid (TAC)？？

Tantalum Carbid (TAC)ist eine binäre Verbindung von Tantal (TA) und Kohlenstoff (c), wobei die chemische Formel normalerweise als TACₓ ausgedrückt wird (wobei x von 0,4 bis 1 liegt). Es wird als feuerfestes Keramikmaterial mit ausgezeichneter Härte, Hochtemperaturstabilität und metallischer Leitfähigkeit eingestuft.

1. Struktur des Tantal -Carbids

1.1 chemische Zusammensetzung und Kristallstruktur

Tantalcarbid ist eine binäre Keramikverbindung aus Tantal (TA) und Kohlenstoff (C).

Seine Kristallstruktur ist Face-Center Cubic (FCC), was ihm hervorragende Härte und Stabilität verleiht.

1.2 Bindungseigenschaften

Eine starke kovalente Bindung macht Tantal -Carbid extrem hart und gegen Verformung widerstandsfähig.

TAC hat einen extrem niedrigen Diffusionskoeffizienten und bleibt auch bei hohen Temperaturen stabil.

Tantal-Carbid (TAC) -Beschicht auf einem mikroskopischen Querschnitt

2. Physikalische Eigenschaften von Tantal Carbid

2.1 Ultrahohe Schmelzpunkt

Mit einem Schmelzpunkt von 3.880 ° C weist Tantal -Carbid einen der höchsten Schmelzpunkte aller bekannten Materialien auf, was zu einer hervorragenden Stabilität bei extremen Temperaturen führt.

2.2 Hervorragende Härte

Mit einer MOHS-Härte von ca. 9-10 liegt es in der Nähe von Diamond und wird daher in Verschleißresistenten beschichtungen häufig verwendet.

2.3 gute elektrische Leitfähigkeit

Im Gegensatz zu den meisten Keramikmaterialien verfügt TAC über eine hohe metallähnliche elektrische Leitfähigkeit, die es für Anwendungen in bestimmten elektronischen Geräten wertvoll macht.

2.4 Korrosion und Oxidationsresistenz

TAC ist äußerst resistent gegen saure Korrosion und behält seine strukturelle Integrität in rauen Umgebungen über einen langen Zeitraum bei.

TAC kann jedoch in Tantal Pentoxid (ta₂o₅) in Luft über 1.500 ° C oxidieren. 

3.. Gemeinsame fertige Tantal -Carbidprodukte

3.1 Tantal Carbid beschichtete Teile

● CVD Tantalum Carbid beschichtetes Suszeptor: Verwendet in Halbleiterpitaxie und Hochtemperaturverarbeitung.

● Tantalum Carbid beschichtete Graphitenteile: Wird in Hochtemperaturöfen und Waferverarbeitungskammern verwendet. Beispiele sind Tantalcarbidbeschichtete poröser Graphit, die die Prozesseffizienz und die Kristallqualität signifikant verbessern, indem der Gasfluss während des SIC -Kristallwachstums reduziert, die thermische Spannung verbessert, die thermische Gleichmäßigkeit verbessert, die Korrosionsresistenz verbessert und die Verbreitung der Verunreinigung beeinträchtigt.

● Tantal -Carbid -beschichtete Rotationsplatte: Die TAC -beschichtete Rotationsplatte von Vetekememon hat eine hohe Reinheitszusammensetzung mit weniger als 5 ppm -Verunreinigungsgehalt und einer dichten und gleichmäßigen Struktur, die in LPE -EPI -System, Aixtron -System, Nufflare -System, Tel CVD -System, VEECO -System, TSI -System häufig verwendet wird. Systeme, TSI -Systeme.

● TAC -beschichtete Heizung: Die Kombination des extrem hohen Schmelzpunkts der TAC -Beschichtung (~ 3880 ° C) ermöglicht es ihm, bei sehr hohen Temperaturen zu arbeiten, insbesondere beim Wachstum von epitaxialen Galliumnitrid- (GaN) -Stemperaturen im Prozess der organischen metall organischen chemischen Dampfablagerung (MOCVD).

● Mit Tantal -Carbid beschichteter Tiegel: CVD -TAC -beschichtete Tiegel spielen häufig eine Schlüsselrolle beim Wachstum von sic -Einzelkristallen durch PVT.

3.2 Schneidwerkzeuge und Verschleißkomponenten

● Tantal -Carbid -Carbid -Schneidwerkzeuge: Verbesserung der Werkzeuglebensdauer und Bearbeitungsgenauigkeit.

● Luft- und Raumfahrtdüsen und Hitzeschilde: Bieten Sie Schutz in extremen Wärme und korrosiven Umgebungen.

3.3 Tantal Carbide Hochleistungs -Keramikprodukte

● Thermalschutzsysteme für Raumfahrzeuge (TPS): Für Raumfahrzeuge und Hyperschallfahrzeuge.

● Kernkraftstoffbeschichtungen: Schützen Sie Kernbrennstoffpellets vor Korrosion.

4. Tantal -Carbid -Anwendungen in der Herstellung von Halbleitern

4.1 Tantal -Carbidbeschichtete Träger (SUPPETOR) für epitaxiale Prozesse

Rolle: Tantal-Carbidbeschichtungen, die auf Graphitträger angewendet werden, verbessern die thermische Gleichmäßigkeit und chemische Stabilität in der chemischen Dampfabscheidung (CVD) und die metallorganischen chemischen Dampfablagerung (MOCVD).

Vorteil: Reduzierte Prozesskontamination und längere Lebensdauer der Träger.

4.2 Ätz- und Abscheidungskomponenten

Waferübertragungsringe und Schilde: Tantal -Carbidbeschichtung verbessert die Haltbarkeit von Plasma -Ätzkammern.

Vorteil: Halten Sie aggressive Ätzumgebungen stand und reduziert den Niederschlag.

4.3 Hochtemperaturheizelemente

Anwendung im SIC -CVD -Wachstum: Tantal -Carbid -beschichtete Heizelemente verbessern die Stabilität und Effizienz des Waferherstellungsprozesses des Siliciumcarbids (SIC).

4.4 Schutzbeschichtungen für die Herstellung von Halbleiter -Herstellungsgeräten

Warum brauchst du TAC -Beschichtung?  Die Semiconductor -Herstellung beinhaltet extreme Temperaturen und korrosive Gase, und Tantal -Carbidbeschichtungen verbessert die Stabilität und Lebensdauer der Geräte wirksam.

5. Warum wählen?Semikon?

Vetekemicon ist ein führender Hersteller und Lieferant vonTantal -CarbidbeschichtungMaterialien an die Halbleiterindustrie in China. Unsere Hauptprodukte sind CVD -Tantal -Carbid -beschichtete Teile, gesinterte TAC -beschichtete Teile für SIC -Kristallwachstum oder Halbleiter -Epitaxienprozesse. Vetekemicon ist ein Innovator und führend in der Tantal -Carbidbeschichtungsindustrie durch kontinuierliche F & E und Technologie -Iteration.