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Aixtron MOCVD-Rezeptor
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Aixtron MOCVD-Rezeptor

Der Aixtron Mocvd -Soldaten von Vetek Semiconductor wird im Dünnfilmabscheidungsprozess der Halbleiterproduktion verwendet, insbesondere im MOCVD -Prozess. Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Herstellung und Lieferung von Hochleistungs-Aixtron-Mocvd-Suszeptorprodukten. Begrüßen Sie Ihre Anfrage.

Die Suszeptoren hergestellt vonEs Halbleitersind aus Graphit -Substrat und Siliziumcarbid (sic) Beschichtungsmaterial. Angesichts der höheren Verschleißfestigkeit, der Korrosionsbeständigkeit und der extrem hohen Härte von SIC -Material ist es besonders für die Verwendung in harten Prozessumgebungen geeignet. Daher können die von Vetek Semiconductor produzierten Suszeptoren direkt in Hochtemperatur-MOCVD-Prozessen ohne zusätzliche Oberflächenbehandlung verwendet werden.


Suszeptoren sind Schlüsselkomponenten in der Halbleiterfertigung, insbesondere in MOCVD-Geräten für Dünnschichtabscheidungsprozesse. Die Hauptrolle vonAixtron: Also die UnterstützungBeim MOCVD-Prozess geht es darum, Halbleiterwafer zu transportieren, eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Abscheidung von Dünnfilmen durch Bereitstellung einer gleichmäßigen Wärmeverteilung und Reaktionsumgebung sicherzustellen und so eine qualitativ hochwertige Dünnfilmproduktion zu erreichen.


Aixtron MOCVD-Rezeptorwird normalerweise zur Unterstützung und Fixierung der Basis von Halbleiterwafern verwendet, um die Stabilität des Wafers während des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten. Gleichzeitig besteht die Oberflächenbeschichtung des Aixtron MOCVD Susceptor aus Siliziumkarbid (SiC), einem hochwärmeleitenden Material. Die SiC-Beschichtung sorgt für eine gleichmäßige Temperatur auf der Oberfläche des Wafers und eine gleichmäßige Erwärmung ist für die Erzielung hochwertiger Filme unerlässlich.


Darüber hinaus ist dieAixtron MOCVD-RezeptorWir produzieren eine größere Rolle bei der Steuerung des Flusses und der Verteilung von reaktiven Gasen durch das optimierte Design von Materialien. Vermeiden Sie Wirbelströme und Temperaturgradienten, um eine gleichmäßige Filmabscheidung zu erreichen.


Noch wichtiger ist, dass beim MOCVD-Verfahren das Beschichtungsmaterial aus Siliziumkarbid (SiC) korrosionsbeständig istEs Halbleiter'SAixtron MOCVD-Rezeptorkann auch hohen Temperaturen und korrosiven Gasen standhalten.


Grundlegende physikalische Eigenschaften vonSic -Beschichtung:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE



VeTek Semiconductor Wafer Boat Shops:

VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

Hot-Tags: Aixtron Mocvd Supportor
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