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Chemischer Dampfablagerungsprozess fester Sic -Kantenring

Chemischer Dampfablagerungsprozess fester Sic -Kantenring

Vetek Semiconductor hat sich immer für die Forschung und Entwicklung und Herstellung fortschrittlicher Halbleitermaterialien verpflichtet. Heute hat Vetek Semiconductor große Fortschritte bei der chemischen Dampfablagerungsprozess mit festen SIC -Kantenringprodukten erzielt und kann den Kunden hochmobile solide SIC -Kantenringe zur Verfügung stellen. Feste SIC -Kantenringe bieten eine bessere Ätzeinheitlichkeit und eine präzise Waferpositionierung, wenn sie mit einem elektrostatischen Läuten verwendet werden, um konsistente und zuverlässige Ätzungsergebnisse zu gewährleisten. Ich freue mich auf Ihre Anfrage und werden Sie sich gegenseitig langfristige Partner.

VETEK Semiconductor Chemischer Dampfablagerungsprozess Der feste SIC-Randring ist eine Spitzlösung, die speziell für Trockenätzprozesse entwickelt wurde und die überlegene Leistung und Zuverlässigkeit bietet. Wir möchten Ihnen qualitativ hochwertige chemische Dampfablagerungsprozesse feststellen.

Anwendung:

Der feste SIC -Kantenring des chemischen Dampfablagerung wird in Trockenätzungsanwendungen verwendet, um die Prozessregelung zu verbessern und die Ätzungsergebnisse zu optimieren. Es spielt eine entscheidende Rolle bei der Regie und Begrenzung der Plasmaenergie während des Ätzprozesses und sorgt für eine präzise und gleichmäßige Entfernung des Materials. Unser Fokussierring ist mit einer Vielzahl von Trockenätzsystemen kompatibel und für verschiedene Ätzprozesse in der gesamten Branche geeignet.


Materialvergleich:


CVD -Prozess solider Sic -Kantenring:


● Material: Der Fokussierring wird aus massivem SiC hergestellt, einem Keramikmaterial mit hoher Reinheit und Hochleistungs-Keramik. Es wird durch chemische Dampfablagerung hergestellt. Das massive SIC-Material bietet außergewöhnliche Haltbarkeit, Hochtemperaturbeständigkeit und hervorragende mechanische Eigenschaften.

●  Vorteile: Der CVD-SIC-Ring bietet eine hervorragende thermische Stabilität, wodurch seine strukturelle Integrität auch unter hohen Temperaturbedingungen beibehalten wird, die in trockenen Ätzprozessen auftreten. Seine hohe Härte sorgt dafür, dass die Resistenz gegen mechanischer Stress und Verschleiß zu einer längeren Lebensdauer führt. Darüber hinaus zeigt feste sic chemische Trägheit, schützt sie vor Korrosion und die Aufrechterhaltung seiner Leistung im Laufe der Zeit.

Chemical Vapor Deposition Process

CVD -SIC -Beschichtung:


●  Material: CVD -SIC -Beschichtung ist eine dünne Filmabscheidung von sic unter Verwendung chemischer Dampfabscheidungstechniken (CVD). Die Beschichtung wird auf ein Substratmaterial wie Graphit oder Silizium angewendet, um die SIC -Eigenschaften an die Oberfläche zu liefern.

●  Vergleich: Während CVD -SIC -Beschichtungen einige Vorteile bieten, wie z. B. konforme Ablagerung für komplexe Formen und abstimmbare Filmeigenschaften, entsprechen möglicherweise nicht mit der Robustheit und Leistung von soliden SIC. Die Beschichtungsdicke, die kristalline Struktur und die Oberflächenrauheit können basierend auf den CVD -Prozessparametern variieren und die Haltbarkeit und Gesamtleistung der Beschichtung möglicherweise beeinflussen.


Zusammenfassend ist Vetek Semiconductor Solid Sic Focusing Ring eine außergewöhnliche Wahl für Trockenätzungsanwendungen. Sein solides SIC-Material gewährleistet eine hohe Temperaturbeständigkeit, hervorragende Härte und chemische Inertheit, was es zu einer zuverlässigen und lang anhaltenden Lösung macht. Während die CVD -SIC -Beschichtung Flexibilität bei der Ablagerung bietet, zeichnet sich der CVD -SIC -Ring aus, um nicht übereinstimmende Haltbarkeit und Leistung zu bieten, die für die anspruchsvollen trockenen Ätzprozesse erforderlich sind.


Physikalische Eigenschaften von festem sic


Physikalische Eigenschaften von festem sic
Dichte 3.21 g/cm3
Stromwiderstand 102 Ω/cm
Biegerstärke 590 MPA (6000 kgf/cm2)
Young's Modul 450 GPA (6000 kgf/mm2)
Vickers Härte 26 GPA (2650 kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000 ℃) 4.0 X10-6/K
Wärmeleitfähigkeit (RT) 250 W/mk


Vetek Semiconductor CVD -Prozess Solid Sic Edge Ring Production Shop

CVD Process Solid SiC Ring Production Shop


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