Solide SIC -Ätzen -Fokussierring

Vetek Semiconductor hat große Fortschritte bei der CVD-soliden SIC-Technologie erzielt und kann nun solide SIC-Ätzenfokussierungsring mit weltweit führendem Niveau produzieren. Vetek Semiconductors fester SIC-Ätz-Fokussierring ist ein ultrahohes Reinheit-Silizium-Carbid-Materialprodukt, das durch den Prozess der chemischen Dampfablagerung erzeugt wird.

Ein fester SIC -Ätz -Fokussierring wird bei Halbleiterherstellungsprozessen verwendet, insbesondere in Plasmaetching -Systemen. Der SIC -Fokusring ist eine entscheidende Komponente, die dazu beiträgt, präzise und kontrollierte Ätzen von Siliziumcarbid (sic) Wafern zu erreichen.

Während des Plasmaätzprozesses spielt der Fokusring mehrere Rollen:

● Fokussiere das Plasma: Der feste SIC -Ätz -Fokussierring hilft das Plasma um den Wafer und stellt sicher, dass der Ätzprozess gleichmäßig und effizient erfolgt. Es hilft, das Plasma auf den gewünschten Bereich zu beschränken und verhindern, dass die umgebenden Regionen ein Streuner ätzer oder beschädigt werden.

●  Schutz der Kammermauern: Der Fokussierungsring fungiert als Barriere zwischen dem Plasma und den Kammerwänden und verhindert direkten Kontakt und mögliche Schäden. SiC ist äußerst beständig gegen Plasmaerosion und bietet einen hervorragenden Schutz für die Kammerwände.

●  TTemperaturkontrolle: Der SIC -Fokusring hilft bei der Aufrechterhaltung einer gleichmäßigen Temperaturverteilung über den Wafer während des Ätzprozesses. Es hilft, Wärme abzulösen und verhindert lokalisierte Überhitzung oder thermische Gradienten, die die Ätzergebnisse beeinflussen könnten.

Solid SIC wird aufgrund seiner hervorragenden thermischen und chemischen Stabilität, hohen mechanischen Festigkeit und Resistenz gegen Plasmaerosion ausgewählt, um Ringe zu fokussieren. Diese Eigenschaften machen SIC zu einem geeigneten Material für die harten und anspruchsvollen Bedingungen innerhalb von Plasma -Ätzsystemen.

Es ist zu beachten, dass das Design und die Spezifikationen von Fokussierungsringen je nach dem spezifischen Plasmaätzsystem und den Prozessanforderungen variieren können. VeTek Semiconductor optimiert die Form, Abmessungen und Oberflächeneigenschaften der Fokussierringe, um eine optimale Ätzleistung und Langlebigkeit zu gewährleisten. Festes SiC wird häufig für Waferträger, Suszeptoren, Dummy-Wafer, Führungsringe, Teile für Ätzprozesse, CVD-Prozesse usw. verwendet.