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CVD -SIC -Beschichtungsgrafitus -Empfängnis
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CVD -SIC -Beschichtungsgrafitus -Empfängnis

Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Graphit Susceptor ist eine der wichtigsten Komponenten in der Halbleiterindustrie wie epitaxielles Wachstum und Waferverarbeitung. Es wird in MOCVD und anderen Geräten verwendet, um die Verarbeitung und Handhabung von Wafern und anderen hochpräzisen Materialien zu unterstützen. Vetek Semiconductor verfügt über Chinas führende sic -beschichtete Graphit -Anfänger- und TAC -beschichtete Graphit -Susceptor -Produktions- und Fertigungsfunktionen und freut sich auf Ihre Beratung.

CVD SIC Coating Graphit Susceptor ist speziell für die Herstellung von hochpräzisetzt in der Halbleiterindustrie ausgelegt. Das Graphit-Substrat wird durch den CVD-Prozess mit einer hohen sic-Schicht beschichtet, die einen hervorragenden Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Oxidationsbeständigkeit aufweist und für eine lange Zeit in hohen Temperatur- und Vakuumumgebungen stabil arbeiten kann. Dieses Sockel wird häufig in MOCVD, PECVD, PVD und anderen Geräten verwendet, um die Verarbeitung und Handhabung von Wafern und anderen hochpräzisen Materialien zu unterstützen.


Kernvorteile:

Hochtemperaturstabilität: High-Purity-Graphit selbst hat eine ausgezeichnete thermische Stabilität. Nachdem sie mit SIC -Beschichtung beschichtet wurde, kann es höhere Temperaturumgebungen standhalten und ist für Hochtemperaturprozesse in der Halbleiterverarbeitung geeignet.

EckeIonenwiderstand: CVD -SIC -Beschichtung ist resistent gegen Säure- und Alkali -Korrosion und kann eine lange Lebensdauer im CVD -Prozess haben.

Hoch hArdness und Oxidationsresistenz: CVD -SIC -Beschichtung hat eine hervorragende Härte, Kratzerbeständigkeit und Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen, um die Stabilität des Materials aufrechtzuerhalten.

Gute thermische Leitfähigkeit: Die Kombination aus Graphit -Substrat und CVD -SIC -Beschichtungsempfängnis setzt die Basis eine ausgezeichnete thermische Leitfähigkeit auf, die Wärme effektiv durchführen und die Produktionseffizienz verbessern kann.


Produktspezifikationen:

Material: Graphit -Substrat + CVD sic -Beschichtung

Beschichtungsdicke: Kann nach Kundenbedürfnissen angepasst werden

Anwendbare Umgebung: hohe Temperatur, Vakuum, ätzende Gasumgebung


Angeordneter Service:

Wir bieten hoch maßgeschneiderte Dienstleistungen an, um den Anforderungen der unterschiedlichen Geräte und Prozesse der Kunden gerecht zu werden. Gemäß der spezifischen Anwendung des Kunden können Graphitbasen mit unterschiedlichen Beschichtungsdicken, Oberflächenbehandlungen und Präzisionsniveaus bereitgestellt werden.


Veteksemi hat schon immer in der CVD-Silizium-Carbid-Beschichtungsindustrie gearbeitet und verfügt über die branchenführende Produktion und Herstellung von CVD-SIC-Beschichtung Graphit. Wenn Sie weitere Produktinformationen oder maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, wenden Sie sich bitte an Vetek Semiconductor, wir bieten Ihnen von ganzem Herzen professionelle Unterstützung.


SEM -Daten der CVD -SIC -Filmkristallstruktur:


the SEM DATA OF CVD SIC coating FILM CRYSTAL STRUCTURE

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