CVD-TAC-Beschichtung

CVD -TAC -Beschichtung (chemische Dampfabscheidung Tantal -Carbidbeschichtung) ist ein Beschichtungsprodukt, das hauptsächlich aus Tantal -Carbid (TAC) besteht. Die TAC -Beschichtung hat extrem hohe Härte, Verschleißfestigkeit und hohe Temperaturfestigkeit. Damit ist es eine ideale Wahl zum Schutz wichtiger Gerätekomponenten und zur Verbesserung der Prozesszuverlässigkeit. Es ist ein unverzichtbares Material in der Halbleiterverarbeitung.

CVD-TaC-Beschichtungsprodukte werden üblicherweise in Reaktionskammern, Waferträgern und Ätzgeräten verwendet und spielen darin die folgenden Schlüsselrollen.

CVD-TaC-Beschichtung wird häufig für interne Komponenten von Reaktionskammern wie Substrate, Wandpaneele und Heizelemente verwendet. In Kombination mit seiner hervorragenden Hochtemperaturbeständigkeit kann es der Erosion durch hohe Temperaturen, korrosive Gase und Plasma wirksam widerstehen, wodurch die Lebensdauer der Ausrüstung effektiv verlängert und die Stabilität des Prozesses und die Reinheit der Produktproduktion sichergestellt werden.

Darüber hinaus weisen TaC-beschichtete Waferträger (wie Quarzschiffchen, Vorrichtungen usw.) auch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und chemische Korrosionsbeständigkeit auf. Der Waferträger kann den Wafer bei hohen Temperaturen zuverlässig stützen, eine Kontamination und Verformung des Wafers verhindern und so die gesamte Chipausbeute verbessern.

Darüber hinaus wird die TAC-Beschichtung von Vetek Semiconductor auch in verschiedenen Ätz- und Dünnfilm-Abscheidungsausrüstungen wie Plasmaköher, chemischen Dampfabscheidungssystemen usw. verwendet damit die Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Prozesses.

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