CVD-Tantalkarbid (TaC) beschichteter Suszeptor

Hauptmerkmale

Anwendungen

Typische Anwendungen sind:

• SiC-Epitaxiewachstum

• GaN-MOCVD-Epitaxie

• AlN-Epitaxiewachstum

• Halbleiterfertigung der dritten Generation

• Hochleistungselektronik

• HF-Geräte

• MicroLED-Produktion

• Forschungs- und Pilotproduktionssysteme

Kompatible Ausrüstung

Zu den kompatiblen Plattformen gehören:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Kundenspezifische CVD- und MOCVD-Reaktoren

Auch erhältlich:

• Waferträger

• Planetarische Suszeptoren

• Fasssuszeptoren

• Rotationsscheiben

• Halbmondteile

• Abdeckplatten

• Graphitbaugruppen

• Benutzerdefinierte Wärmefeldkomponenten

Technische Spezifikationen

Häufig gestellte Fragen

1. Was ist ein CVD-TaC-beschichteter Suszeptor?

Eine Komponente aus hochreinem Graphit, geschützt durch eine dichte CVD-TaC-Beschichtung, die während des epitaktischen Wachstums als Waferträger dient.

2. Warum TaC-Coa verwenden?Beschichtung statt SiC-Beschichtung?

TaC bietet eine höhere Temperaturbeständigkeit, überlegene chemische Stabilität und eine längere Lebensdauer.

3.Welche Halbleiterprozesse nutzen TaC-cgesalzene Suszeptoren?

SiC-Epitaxie, GaN-MOCVD, AlN-Epitaxie und andere Hochtemperatur-Kristallwachstumsprozesse.

4. Kann VETEK maßgeschneiderte Suszeptoren herstellen?

Ja. Wir bieten maßgeschneiderte Designs basierend auf Kundenzeichnungen und Prozessanforderungen.

5. Welche Reaktormarken werden unterstützt?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare und andere Mainstream-Systeme.