Wie wähle ich die MOCVD -Graphitschale aus?

Frage 1: Was ist das MOCVD -Graphitschalen und warum ist es für den epitaxialen Prozess so wichtig?

MOCVD-Graphitplatte (Metall-organische chemische Dampfabscheidung), auch bekannt als MOCVD-Graphit-Tablett oder MOCVD-Graphit-Soldaten, ist eine hohe Purity-Komponente, mit der Semiconductor-Wafer während des epitaxialen Wachstums repariert werden. Im epitaxialen Prozess wirkt es als Heizelement und sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung, die eine unersetzliche Rolle bei der Ablagerung von Dünnfilmen in Anwendungen wie fortschrittlicher Halbleitergeräte, LED -Fertigung und Solarzellen spielt.

Graphit-Tablett kann extremen Temperaturen (bis zu 1.800 ° C) und korrosiven Gasumgebungen standhalten, was es zu einem unverzichtbaren Material für hochtemperaturfeste, korrosionsbeständige MOCVD-Systeme macht. Die Leistung wirkt sich direkt auf die Prozesskonsistenz und den Waferertrag aus.

Frage 2: Welche Materialeigenschaften sollten bei der Auswahl von MOCVD -Graphitschalen priorisiert werden?

Die Auswahl der richtigen Graphitplatte erfordert die Bewertung der physikalischen und chemischen Eigenschaften:

● Hohe Reinheit (über 99,999%):

In der Regel können Verunreinigungen wie Metalle oder Asche den epitaxialen Prozess kontaminieren. Die Auswahl eines hochreinheitlichen Graphit-Anfänger-Anfänger-Lieferanten wie Vetekemicon sorgt für minimale Defekte im Halbleiter-Epilayer.

●  Ausgezeichnete thermische Stabilität:

Während der tatsächlichen Verarbeitung müssen Graphitplatten in der Lage sein, bestimmten thermischen Schocks standzuhalten und die strukturelle Integrität unter schnellen Temperaturzyklen aufrechtzuerhalten. Vetekemicon Graphit mit hoher Dichte sorgt für eine gleichmäßige Wärmeverteilung, die für ein gleichmäßiges Filmwachstum von entscheidender Bedeutung ist.

●  Hervorragende Korrosionsbeständigkeit:

In der MOCVD -Prozessumgebung ist Graphit im Allgemeinen korrosiven Gasen (z. B. Ammoniak, Wasserstoff) ausgesetzt. Hochtemperaturkorrosionsresistente MOCVD-Graphitplatten mit feinkörniger Struktur minimieren die Korrosion und erweitern die Lebensdauer.

●  Hochleistungsmechanische Stärke:

Im epitaxialen Prozess müssen die MOCVD -Graphit -Tabletts mehrere Wafer ohne Verzerrung unterstützen. Nach der tatsächlichen Verarbeitung von Vetekemicon muss die Biegefestigkeit der Graphitplatte ≥ 50 MPa betragen, um das Knacken des Tabletts zu verhindern.

F3: Wie wirkt sich das Anwendungsszenario auf die Auswahl von MOCVD -Graphitschalen aus?

Unterschiedliche MOCVD -Prozesse erfordern maßgeschneiderte Graphitplattendesigns:

●  Epitaxiales Wachstum von LED/Photonik:

Im Epitaxienprozess werden ultra-glatte MOCVD-Graphitplatten verwendet, um die Partikelerzeugung zu reduzieren und defektfreie Schichten sicherzustellen.

Beispielsweise sind Vetekememon -MOCVD -Graphitplatten (oder vetekemische Graphitplatten für MOCVD) für GaN- und GaAs -Epitaxie ausgelegt und bieten optimiertes thermisches Management.

●  Power Semiconductor Manufacturing:

In Kombination mit der experimentellen Statistik von Semikera Semiconductor werden Platten mit verstärkter Oxidationsresistenz für Siliziumcarbid- (SIC) oder GANIDRID -Prozesse (GaN) bevorzugt.

●  Hochdurchsatzproduktion:

Multi-Wafer-Tabletts erfordern eine präzise Verarbeitung, um sich mit dem Reaktordesign auszurichten. Anpassbare MOCVD -Graphitabletts aus zuverlässiger Lieferanten Semikera Semiconductor können bestimmte Toolkonfigurationen übereinstimmen.

F4: Was sind die wichtigsten Überlegungen zum Auffinden eines zuverlässigen MOCVD -Graphitplattenlieferanten?

●  Zertifizierung und Test:

Stellen Sie sicher, dass der Lieferant eine Materialzertifizierung (z. B. Reinheitsbericht, Dichteprüfung) und eine Oberflächenbehandlung nach der Verarbeitung (z. B. Beschichtung zur Verringerung der Porosität) anbietet. Als führende chinesische Halbleiterbeschichtung und epitaxiale Prozessgeräte -Hersteller wurden Vetekememon -MOCVD -Graphitplatten von Regierungsabteilungen für strenge Limit -Experimente zertifiziert, und die Ergebnisse der Reinheit und Dichte der Produkte seiner Produkte sind seinen Kollegen weit voraus.

●  Anpassungsfunktionen:

Top-Anbieter von Graphit-Anfällern mit hoher Purity sollten die Größe, das Lochmuster und die Beschichtung so anpassen, dass Sie Ihre Reaktoranforderungen erfüllen. Sowohl Vetekememon als auch Semikera -Semiconductor verfügen über die Anpassungsservice -Funktionen verwandter Produkte und Technologien und können Ihre verschiedenen angepassten Anforderungen voll und ganz erfüllen.

●  Lebensdauer und Kosteneffizienz:

Während billigere Graphit im Voraus Kosten sparen kann, führen minderwertige Graphitplatten zu häufigen Ersatz- und Ausfallzeiten, was sich ernsthaft auf die normale Produktionseffizienz auswirkt. Durch die Auswahl von Veteksemicon-Graphitplatten und anderen Qualitätsprodukten können Ihr Unternehmen eine langfristige zuverlässige Produktion erzielen.

F5: Wie kann man die Lebensdauer von MOCVD -Graphitschalen verlängern?

●  Oxidation verhindern: Verwenden Sie die Inertgasspur während des Erhitzen-/Kühlzyklen.

●  Regelmäßig reinigen: Verwenden Sie nicht abrasive Methoden (z. B. trockene Ätzen), um abgelagerte Rückstände zu entfernen.

●  Vermeiden Sie mechanische Belastungen: Behandeln Sie das Tablett beim Laden/Entladen des Wafers sorgfältig.

Vetekemicons bester Rat an Sie:

Für MOCVD-Graphitplatten, die gegen hohe Temperaturkorrosion resistent sind, geben Sie Lieferanten mit Fachkenntnissen in Halbleitermaterialien Vorrang.

Testen Sie Proben unter tatsächlichen Prozessbedingungen, um die Leistung zu überprüfen.

Erkunden Sie fortschrittliche Beschichtungen (wie SIC -Beschichtung, TAC -Beschichtung), um die Haltbarkeit und Zuverlässigkeit in extremen Umgebungen zu verbessern.

Weitere Informationen zu SIC Coating MOCVD -Graphitplatte finden Sie hier.

Weitere Informationen zu TAC Coating MOCVD -Graphitplatte finden Sie hier.