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Hoch reines Silizium -Carbid -Waferträger
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Hoch reines Silizium -Carbid -Waferträger

Vetek Semiconductor High Pure Silicon Carbid Wafer Carrier sind wichtige Komponenten bei der Verarbeitung von Halbleiter, um empfindliche Siliziumwafer sicher zu halten und zu transportieren und in allen Herstellungsstadien eine Schlüsselrolle zu spielen. Vetek Semiconductor's Hood Pure Silicon Carbid Wafer Carrier wird sorgfältig entworfen und hergestellt, um eine hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Vetek Semiconductor ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen bereitzustellen, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

Vetek Semiconductor ist ein professioneller Leiter China China High Pure Silicon Carbid Wafer Carrier Hersteller mit hoher Qualität und angemessenem Preis. Willkommen, uns zu kontaktieren.

Vetek Semiconductor's Hood Pure Silicon Carbid Wafer Carrier ist ein Träger für mehrere Wafer, um die Raumeffizienz innerhalb der Prozesskammer zu maximieren. Diese Hochpuritäts-Silizium-Carbid-Waferträger sind typischerweise rechteckig oder zylindrisch, und jeder Träger verfügt über präzise geeignete Schlitze oder Rillen, die voneinander getrennt sind, um einen einzelnen Wafer in einer vertikalen Position fest zu halten. Hoch reines Silizium -Carbid -Waferträger haben eine hervorragende Resistenz gegen hohe Temperaturen, korrosive Chemikalien und mechanischer Stress, was sie ideal zum Schutz von Wafern vor potenziellen Schäden macht. Sie werden aus hohem Siliziumcarbid (SIC) hergestellt, um die Integrität und Sicherheit von Wafern während der Verarbeitung zu gewährleisten.

Hoch reine Silizium -Carbid -Waferträger spielen eine wichtige Rolle bei komplexen Prozessen wie Diffusion, RTP und thermischen Feldern und dienen als stabiler Träger für Wafer, um eine nahtlose Übertragung zwischen verschiedenen Geräten und Stadien zu erreichen. Die vertikale Struktur minimiert den Bodenraum in der Prozesskammer, optimiert den Produktionsdurchsatz und kann große Chargen von Wafern effizient verarbeiten. Hochreine Silizium -Carbid -Waferträger sind bekannt für ihre hervorragende Beständigkeit gegen hohe Temperaturen, Korrosion und mechanische Festigkeit, um Wafer vor potenziellen Schäden zu schützen.

Der hochreine Silizium-Carbid-Waferträger von Vetek Semiconductor besteht aus hohem Siliziumcarbid (SIC) und weist eine hervorragende Hochtemperaturresistenz, chemische Korrosionsbeständigkeit und mechanische Festigkeit auf, um die Integrität von Wafern in harten Umgebungen zu schützen. Die sorgfältig gestaltete Struktur und die genau verarbeiteten Slots stellen sicher, dass die Wafer fest positioniert sind, um die Bedürfnisse einer hochpräzisen Verarbeitung zu erfüllen.

Vetek Semiconductor setzt sich dafür ein, Kunden qualitativ hochwertige Produkte und zuverlässige technische Unterstützung zu bieten. Unabhängig davon, ob das Waferwachstum, die Diffusion, die Ablagerung von Dünnfilmen oder andere kritische Prozesse, Vetek Semiconductors hochreine Silizium -Carbid -Wafer -Waferträger eine wichtige Rolle bei der Gewährleistung der Stabilität und Konsistenz des Herstellungsprozesses spielen kann. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.


Produktparameter des hohen reinen Silizium -Carbid -Waferträgers

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum Typischer Wert
Arbeitstemperatur (° C) 1600 ° C (mit Sauerstoff), 1700 ° C (Reduzierung der Umgebung)
Sic -Inhalt > 99,96%
Kostenloser Si -Inhalt <0,1%
Schüttdichte 2,60-2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität <16%
Kompressionsstärke > 600 MPa
Kaltbiege Stärke 80-90 MPa (20 ° C)
Heiße Biegekraft 90-100 MPa (1400 ° C)
Wärmeausdehnung bei 1500 ° C. 4.70 10-6/° C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 ° C. 23 w/m • k
Elastizitätsmodul 240 GPA
Wärmeschockwiderstand Extrem gut


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Überblick über die Semiconductor Chip Epitaxy Industry -Kette:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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