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Sic Cantilever Paddel
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Sic Cantilever Paddel

Das SiC Cantilever Paddle von VeTek Semiconductor wird in Wärmebehandlungsöfen zur Handhabung und Unterstützung von Wafer-Booten verwendet. Die hohe Temperaturstabilität und die hohe Wärmeleitfähigkeit des SiC-Materials gewährleisten eine hohe Effizienz und Zuverlässigkeit im Halbleiterverarbeitungsprozess. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Sie sind begrüßt, um in unserem Fabrik-Vetek-Halbleiter zu kommen, um den neuesten Verkauf, den niedrigen Preis und das hochwertige Sic-Cantilever-Paddel zu kaufen. Wir freuen uns darauf, mit Ihnen zusammenzuarbeiten.


Vetek Semiconductor's SIC Cantilever Paddle Features:

Hohe Temperaturstabilität: Kann seine Form und Struktur bei hohen Temperaturen beibehalten und ist für Hochtemperaturverarbeitungsprozesse geeignet.

Korrosionsbeständigkeit: Hervorragende Korrosionsresistenz gegen eine Vielzahl von Chemikalien und Gasen.

Hohe Festigkeit und Steifigkeit: Bietet zuverlässigen Halt, um Verformungen und Beschädigungen zu verhindern.


Vorteile des Sic Cantilever Paddle von Vetek Semiconductor:

Hohe Präzision: Hohe Verarbeitungsgenauigkeit gewährleistet einen stabilen Betrieb in automatisierten Anlagen.

Geringe Kontamination: Hochreines SiC-Material reduziert das Kontaminationsrisiko, was besonders für hochreine Fertigungsumgebungen wichtig ist.

Hohe mechanische Eigenschaften: Hält rauen Arbeitsumgebungen mit hohen Temperaturen und hohem Druck stand.

Spezifische Anwendungen von SIC Cantilever Paddle und seinem Anwendungsprinzip

Handhabung von Siliziumwafern in der Halbleiterfertigung:

SiC Cantilever Paddle wird hauptsächlich zur Handhabung und Unterstützung von Siliziumwafern während der Halbleiterherstellung verwendet. Zu diesen Prozessen gehören in der Regel Reinigen, Ätzen, Beschichten und Wärmebehandlung. Anwendungsprinzip:

Silicon Wafer Handling: Sic Cantilever Paddle ist so konzipiert, dass sie Siliziumwafer sicher klemmen und bewegen. Bei hohen Temperatur- und chemischen Behandlungsprozessen stellen die hohe Härte und Stärke des SIC -Materials sicher, dass der Siliziumwafer nicht beschädigt oder deformiert wird.

Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD):

Beim CVD-Verfahren werden SiC-Cantilever-Paddel zum Transport von Siliziumwafern verwendet, sodass auf ihren Oberflächen dünne Filme abgeschieden werden können. Anwendungsprinzip:

Im CVD -Prozess wird das SIC -Ausleger -Paddel verwendet, um den Siliziumwafer in der Reaktionskammer zu reparieren, und der gasförmige Vorläufer zersetzt sich bei hoher Temperatur und bildet einen dünnen Film auf der Oberfläche des Siliziumwafers. Die chemische Korrosionsbeständigkeit von SIC -Material sorgt für einen stabilen Betrieb unter hoher Temperatur und chemischer Umgebung.


Produktparameter des SIC -Cantilever -Paddels

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C) 1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC-Gehalt > 99,96 %
Kostenloser Si -Inhalt <0,1%
Schüttdichte 2,60–2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität <16%
Kompressionsstärke > 600 MPa
Kaltbiege Stärke 80-90 MPa (20 ° C)
Heiße Biegekraft 90-100 MPa (1400 ° C)
Wärmeausdehnung bei 1500 ° C. 4,70x10-6/° C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 ° C. 23 w/m • k
Elastizitätsmodul 240 GPA
Thermoschockbeständigkeit Extrem gut


Produktionsstätten:

VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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