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Silizium -Carbid -Ausleger -Paddel
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Silizium -Carbid -Ausleger -Paddel

Vetek Semiconductor's Silicon Carbid Cantilever Paddle ist eine wichtige Komponente im Semiconductor-Herstellungsprozess, insbesondere für Diffusionsöfen oder LPCVD-Öfen in Hochtemperaturprozessen wie Diffusion und RTP. Unser Silizium-Carbid-Cantilever-Paddel ist sorgfältig ausgestattet und mit hervorragendem Hochtemperaturwiderstand und mechanischer Stärke hergestellt und kann und kann sicher und zuverlässig Wafer in den Prozessrohr unter harten Prozessbedingungen für verschiedene Hochtemperaturprozesse wie Diffusion und RTP transportieren. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden. Feel Free, uns zu erkundigen.

Sie können sicher sein, dass Sie maßgeschneiderte Silizium -Carbid -Ausleger -Paddel von Vetek Semiconducto kaufen. Wir freuen uns darauf, mit Ihnen zusammenzuarbeiten. Wenn Sie mehr wissen möchten, können Sie uns jetzt rechtzeitig antworten!

Das Silizium-Carbid-Cantilever-Paddel von Vetek Semiconductor besteht aus hohem Siliziumkarbid und hat eine hervorragende Hochtemperaturwiderstand und mechanische Festigkeit. Es ist eine unverzichtbare Schlüsselkomponente im Halbleiterherstellungsprozess, insbesondere bei Diffusions- oder LPCVD -Öfen und RTP -Prozessen. Das genaue Design und die Herstellung des Silizium-Carbid-Cantilever-Paddels stellt sicher, dass die sichere Positionierung und Übertragung von Wafern die Anforderungen an den hohen Präzisionsprozess erfüllen.

Vetek Semiconductor's Silicon Carbid Cantilever Paddel besteht aus Siliziumkarbid als Hauptmaterial. Siliziumcarbid hat die Eigenschaften hoher Festigkeit und guter thermischer Stabilität, sodass es harten Bedingungen in der Hochtemperaturverfahrensumgebung von Halbleiteröfen standhalten kann. Einer der Gründe für die Auswahl von Siliziumkarbid liegt darin, dass es sich an die Hochtemperaturumgebung in Halbleiteröfen anpassen kann.

Das Design des Silizium -Carbid -Cantilever -Paddels ermöglicht es, sich in das Prozessrohr im Ofen zu erstrecken und an einem Ende außerhalb des Rohrs fest zu fixieren. Dieses Design stellt sicher, dass der verarbeitete Wafer während des Prozesses stabil und unterstützt bleibt und die Störung der thermischen Umgebung im Ofen minimiert.

Vetek Semiconductor ist bestrebt, hochwertige Sic-Cantilever-Paddelprodukte bereitzustellen. Unsere Produkte werden sorgfältig entwickelt und hergestellt, um den strengen Anforderungen des Halbleiterherstellungsprozesses zu erfüllen. Die hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit des Silizium -Carbid -Cantilever -Paddels macht es zu einer unverzichtbaren Schlüsselkomponente in der Halbleiterindustrie. Vetek Semiconductor ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen bereitzustellen, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.


Produktparameter des Silizium -Carbid -Cantilever -Paddels

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum Typischer Wert
Arbeitstemperatur (° C) 1600 ° C (mit Sauerstoff), 1700 ° C (Reduzierung der Umgebung)
Sic -Inhalt > 99,96%
Kostenloser Si -Inhalt <0,1%
Schüttdichte 2,60-2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität <16%
Kompressionsstärke > 600 MPa
Kaltbiege Stärke 80-90 MPa (20 ° C)
Heiße Biegekraft 90-100 MPa (1400 ° C)
Wärmeausdehnung bei 1500 ° C. 4.70 10-6/° C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 ° C. 23 w/m • k
Elastizitätsmodul 240 GPA
Wärmeschockwiderstand Extrem gut


Vergleichen Sie den Semiconductor Production Shop:

VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Semiconductor Chip Epitaxy Industry -Kette:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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