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Adresse
Wangda Road, Ziyang Street, Kreis Wuyi, Stadt Jinhua, Provinz Zhejiang, China
Allgemeine Produktinformationen
Herkunftsort:
China
Markenname:
Mein Rivale
Modellnummer:
Halbleiter-Quarztiegel-001
Zertifizierung:
ISO9001
Geschäftsbedingungen für Produkte
Mindestbestellmenge:
Vorbehaltlich Verhandlungen
Preis:
Kontakt für individuelle Angebote
Verpackungsdetails:
Standard-Exportpaket
Lieferzeit:
Lieferzeit: 30–45 Tage nach Auftragsbestätigung
Zahlungsbedingungen:
T/T
Lieferfähigkeit:
500 Einheiten/Monat
●Anwendung: Der Halbleiter-Quarztiegel wurde speziell für die Wachstumsprozesse von einkristallinem Silizium in Halbleiterqualität entwickelt. Es ist ein zentrales Verbrauchsmaterial für Czochralski- (CZ) und magnetische Czochralski- (MCZ) Prozesse und wird häufig bei der Herstellung von Siliziumwafern für fortschrittliche Logik, Speicherchips und Leistungsgeräte im Bereich von 6 Zoll bis 12 Zoll verwendet.
●Leistungen, die erbracht werden können: Analyse des Kundenanwendungsszenarios, passende Materialien, technische Problemlösung.
●Unternehmensprofil:Veteksemicon verfügt über zwei Labore, ein Expertenteam mit 20 Jahren Materialerfahrung sowie F&E- und Produktions-, Test- und Verifizierungskapazitäten.
1. Höchste Reinheit, garantiert von der Quelle
Bei der Züchtung von Einkristallen in Halbleiterqualität ist selbst die kleinste Verunreinigung tödlich. Die Quarztiegel von Veteksemicon halten sich bereits im Rohmaterialstadium an strenge Standards, indem sie hochreinen Quarzsand auswählen und eine fortschrittliche Lichtbogenschmelztechnologie nutzen, um sicherzustellen, dass die Siliciumdioxid-Reinheit der fertigen Tiegel konstant über 99,99 % bleibt. Besonderen Wert legen wir auf die Kontrolle kritischer Verunreinigungsionen wie Alkalimetalle und Schwermetalle und reduzieren deren Gehalt auf unter den ppm-Wert. Diese extreme Reinheit der Quelle vermeidet effektiv Gitterdefekte, die durch die Ausfällung von Verunreinigungen bei hohen Temperaturen verursacht werden, und schafft so eine solide Grundlage für die Herstellung perfekter einkristalliner Siliziumstäbe mit wenigen Defekten und hoher Integrität.
2. Ausgezeichnete Kristallisationsbeständigkeit
Quarztiegel entglasen und kristallisieren bei hohen Temperaturen allmählich. Diese kristallisierte Schicht kann zu Rissen oder Ablösungen führen und die Siliziumschmelze verunreinigen. Veteksemicon nutzt eine einzigartige Oberflächenbehandlungstechnologie und eine präzise Prozesssteuerung, um eine dichte Schutzschicht auf der Innenfläche des Tiegels zu bilden, die die Kristallisation erheblich verzögert. Dies bedeutet, dass unsere Tiegel ihren „jugendlichen“ Zustand über längere Zeiträume des Hochtemperaturbetriebs beibehalten, was zu einer längeren Einweglebensdauer führt und stabilere, kontinuierliche Kristallziehvorgänge unterstützt. Dies trägt direkt dazu bei, das Risiko von Ausfallzeiten und Produktausschuss aufgrund von Leistungseinbußen des Tiegels zu reduzieren, was zu einer Verbesserung der Produktionseffizienz und wirtschaftlichen Vorteilen führt.
3. Hervorragende thermische Stabilität und geringe thermische Verformung
Von Raumtemperatur bis über 1700 °C, nahe dem Schmelzpunkt von Silizium, werden Quarztiegel strengen Thermoschocktests unterzogen. Veteksemicon-Tiegel bestehen aus hochwertigen Materialien mit extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, halten drastischen Temperaturschwankungen problemlos stand und weisen eine hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit auf. Gleichzeitig haben wir durch computergestütztes Design die Wandstärke und Krümmung des Tiegels präzise berechnet, um eine minimale Verformung und eine gleichmäßigere Wärmefeldverteilung bei Betriebstemperaturen zu gewährleisten. Diese stabile thermische Umgebung ist eine entscheidende Voraussetzung für die Züchtung hochwertiger Einkristalle mit genau kontrollierbarem Sauerstoffgehalt und gleichmäßigem spezifischem Widerstand.
4. Strikte Qualitätskonstanz
Für eine High-End-Fertigung sind Leistungsschwankungen nicht akzeptabel. Veteksemicon ist sich dessen bewusst und hat ein umfassendes Qualitätskontrollsystem eingerichtet, das den gesamten Prozess von den Rohstoffen über die Produktion und Nachbearbeitung bis hin zum fertigen Produkt umfasst. Jeder Tiegel, der das Werk verlässt, muss mehreren zerstörungsfreien Tests unterzogen werden, darunter Maßgenauigkeit, innere Blasen, Verunreinigungen und Hydroxylgehalt, um sicherzustellen, dass er den strengen voreingestellten Standards entspricht. Wir liefern nicht nur ein einzelnes hervorragendes Produkt, sondern eine Reihe vorhersehbarer, zuverlässiger und stabiler Leistung. Wenn Sie sich für Veteksemicon entscheiden, entscheiden Sie sich für Sicherheit und wiederholbaren Erfolg für Ihre Produktionslinie.
5. Bestätigung der Verifizierung der ökologischen Kette
Die Verifizierung der ökologischen Kette von Veteksemicon Semiconductor Quartz Crucible erstreckt sich von den Rohstoffen bis zur Produktion, hat die internationale Standardzertifizierung bestanden und verfügt über eine Reihe patentierter Technologien, um seine Zuverlässigkeit und Nachhaltigkeit in den Bereichen Halbleiter und neue Energien sicherzustellen.
Für detaillierte technische Spezifikationen, Whitepapers oder Mustertestvereinbarungen wenden Sie sich bitte an unsKontaktKontaktieren Sie unser technisches Support-Team, um herauszufinden, wie Veteksemicon Ihre Prozesseffizienz verbessern kann.
Technische Parameter
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Projekt |
Parameter |
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Rohstoff |
Hochreiner natürlicher Quarzsand / synthetisches Quarzmaterial |
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Reinheit |
≥99,99 % (SiO2) |
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Temperaturbeständigkeit |
Der Erweichungspunkt kann 1700℃ erreichen |
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Antikristallisation |
Es funktioniert hervorragend in Umgebungen von 1050℃ bis 1300℃ |
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Hydroxylgehalt |
Anpassungen sind möglich, um die Prozessanforderungen der Kunden zu erfüllen (<10 ppm oder >150 ppm). |
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Aussehen |
Die Oberfläche ist glatt und frei von sichtbaren Blasen und Verunreinigungen |
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Anwendungsrichtung |
Typisches Szenario |
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Czochralski (CZ) Methode zur Züchtung von einkristallinem Silizium |
Geeignet für die Herstellung von einkristallinen Siliziumstäben mit großem Durchmesser im Bereich von 6 Zoll bis 12 Zoll und mehr. |
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Magnetische Czochralski-Methode (MCZ). |
Um die Nachfrage nach sauerstoffarmen Siliziumwafern für High-End-Geräte zu decken. |
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Herstellung spezieller Halbleitermaterialien |
Zum Beispiel Verbindungshalbleiter. |
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