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Auslegerpaddel aus Siliziumkarbid für die Waferverarbeitung
  • Auslegerpaddel aus Siliziumkarbid für die WaferverarbeitungAuslegerpaddel aus Siliziumkarbid für die Waferverarbeitung

Auslegerpaddel aus Siliziumkarbid für die Waferverarbeitung

Das Siliziumkarbid-Cantilever-Paddel von Veteksemicon wurde für die fortschrittliche Waferverarbeitung in der Halbleiterfertigung entwickelt. Es besteht aus hochreinem SiC und bietet hervorragende thermische Stabilität, hervorragende mechanische Festigkeit und hervorragende Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen. Diese Funktionen gewährleisten eine präzise Waferhandhabung, längere Lebensdauer und zuverlässige Leistung in Prozessen wie MOCVD, Epitaxie und Diffusion. Willkommen zur Beratung.

Allgemeine Produktinformationen

Herkunftsort:
China
Markenname:
Mein Rivale
Modellnummer:
SiC-Paddel-01
Zertifizierung:
ISO9001


Geschäftsbedingungen für Produkte

Mindestbestellmenge:
Vorbehaltlich Verhandlungen
Preis:
Kontakt für individuelle Angebote
Verpackungsdetails:
Standard-Exportpaket
Lieferzeit:
Lieferzeit: 30–45 Tage nach Auftragsbestätigung
Zahlungsbedingungen:
T/T
Lieferfähigkeit:
500 Einheiten/Monat


Anwendung: SiC-Paddel von Veteksemicon sind Schlüsselkomponenten in der modernen Halbleiterfertigung und wurden für Kernprozesse wie die Epitaxie von SiC-Leistungsbauelementen, das Hochtemperaturglühen und die Gate-Oxidation für Chips auf Siliziumbasis entwickelt.


Leistungen, die erbracht werden können: Analyse des Kundenanwendungsszenarios, passende Materialien, technische Problemlösung.


Unternehmensprofil:Mein Rivale verfügt über zwei Labore, ein Expertenteam mit 20 Jahren Materialerfahrung sowie über Forschungs- und Entwicklungs- sowie Produktions-, Test- und Verifizierungskapazitäten.


Mein Rivale SiC-Paddel sind tragende Kernkomponenten, die speziell für Hochtemperaturprozesse bei der Herstellung von Halbleiter- und Siliziumkarbid-Chips entwickelt wurden. Unsere aus hochreinem Siliziumkarbid mit hoher Dichte präzisionsgefertigten Paddel weisen eine außergewöhnliche thermische Stabilität und eine äußerst geringe Metallverunreinigung in rauen Umgebungen von über 1200 °C auf. Sie sorgen effektiv für einen reibungslosen und sauberen Wafertransport bei kritischen Prozessen wie Diffusion und Oxidation und dienen als zuverlässige Grundlage für die Verbesserung der Prozessausbeute und der Anlagenleistung.


Technische Parameter

Projekt
Parameter
Hauptmaterialien
Hochreines reaktionsgebundenes SiC / CVD-SiC
Maximale Betriebstemperatur
1600°C (in inerter oder oxidierender Atmosphäre)
Gehalt an Metallverunreinigungen
< 50 ppm (geringere Reinheitsgrade auf Anfrage erhältlich)
Dichte
≥ 3,02 g/cm³
Biegefestigkeit
≥ 350 MPa
Wärmeausdehnungskoeffizient
4,5×10-6/K (20-1000°C)
Oberflächenbehandlung
Durch hochpräzises Schleifen kann die Oberflächengüte Ra 0,4 μm oder weniger erreichen


Die Hauptvorteile der SiC-Paddel von Veteksemi


 ● Höchste Reinheit, Schutz der Spanausbeute

Wir verwenden fortschrittliche Verfahren zur Herstellung von Siliziumkarbid-Rohstoffen und sorgen so für minimale metallische Verunreinigungen. SiC-Paddel von Veteksemi unterdrücken wirksam die Ausfällung von Verunreinigungen in Hochtemperaturumgebungen über längere Zeiträume, verhindern so die Kontamination empfindlicher Wafer und gewährleisten eine Produktion mit hoher Ausbeute von der Quelle an.


● Hervorragende Hitzebeständigkeit für extreme Herausforderungen

Siliziumkarbid selbst verfügt über Hochtemperaturbeständigkeitseigenschaften, die die der meisten Keramikmaterialien übertreffen. Unsere Paddel halten problemlos Prozesstemperaturen von bis zu 1600 °C stand, haben einen extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und weisen eine außergewöhnliche Temperaturschockbeständigkeit bei wiederholten schnellen Aufheiz- und Abkühlzyklen auf, wodurch das Risiko von Verformungen und Rissen minimiert und die Lebensdauer verlängert wird.


● Außergewöhnliche mechanische Festigkeit zur Gewährleistung einer stabilen Übertragung

Dank seiner extrem hohen Steifigkeit und Härte behält es auch bei voller Beladung mit Wafern eine hervorragende morphologische Stabilität bei. Dadurch wird eine präzise Ausrichtung der Wafer während des automatischen Transfers gewährleistet, sodass diese reibungslos in den Ofen ein- und austreten können und das Risiko eines Bruchs aufgrund von Vibrationen oder Abweichungen verringert wird.


● Hervorragende Korrosionsbeständigkeit, längere Lebensdauer

VetekSemicon SiC-Paddel weisen eine starke chemische Inertheit in Gegenwart korrosiver Atmosphären wie Sauerstoff und Wasserstoff auf, die häufig bei Oxidations- und Diffusionsprozessen vorkommen, und weisen extrem niedrige Oberflächenerosionsraten auf. Dies sorgt für stabile Abmessungen und Leistung bei langfristiger Nutzung und senkt Ihre Gesamtbetriebskosten erheblich.


Hauptanwendungsgebiete

Anwendungsrichtung
Typisches Szenario
Herstellung von Siliziumkarbid-Leistungsgeräten
SiC-Epitaxie, Hochtemperatur-Ionenimplantation und Ausheilen
Halbleiter der dritten Generation
MOCVD-Vorbehandlung und Glühen von GaN-auf-Si und anderen Materialien
Diskrete Geräte
Hochtemperatur-Diffusionsprozess für IGBT, MOSFET usw.

Bestätigung der Verifizierung der ökologischen Kette

Die Verifizierung der ökologischen Kette von Veteksemicon SiC Paddles erstreckt sich von den Rohstoffen bis zur Produktion, hat die internationale Standardzertifizierung bestanden und verfügt über eine Reihe patentierter Technologien, um ihre Zuverlässigkeit und Nachhaltigkeit in den Bereichen Halbleiter und neue Energien sicherzustellen.


Für detaillierte technische Spezifikationen, Whitepapers oder Mustertestvereinbarungen wenden Sie sich bitte an unser technisches Support-Team, um herauszufinden, wie Veteksemicon Ihre Prozesseffizienz verbessern kann.


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