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Fokusring aus Siliziumkarbid
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Fokusring aus Siliziumkarbid

Der Veteksemicon-Fokusring wurde speziell für anspruchsvolle Halbleiter-Ätzgeräte entwickelt, insbesondere für SiC-Ätzanwendungen. Seine Hauptfunktion besteht darin, die Verteilung des elektromagnetischen Feldes innerhalb der Reaktionskammer zu optimieren und so eine gleichmäßige und fokussierte Plasmawirkung über die gesamte Waferoberfläche sicherzustellen. Ein Hochleistungs-Fokusring verbessert die Gleichmäßigkeit der Ätzrate erheblich und reduziert Kanteneffekte, wodurch die Produktausbeute und die Produktionseffizienz direkt gesteigert werden.

Allgemeine Produktinformationen

Herkunftsort:
China
Markenname:
Mein Rivale
Modellnummer:
SiC-Fokusring-01
Zertifizierung:
ISO9001


Geschäftsbedingungen für Produkte

Mindestbestellmenge:
Vorbehaltlich Verhandlungen
Preis:
Kontakt für individuelle Angebote
Verpackungsdetails:
Standard-Exportpaket
Lieferzeit:
Lieferzeit: 30–45 Tage nach Auftragsbestätigung
Zahlungsbedingungen:
T/T
Lieferfähigkeit:
500 Einheiten/Monat


Anwendung: Bei Halbleiter-Trockenätzprozessen ist der Fokusring eine Schlüsselkomponente, die die Prozessgleichmäßigkeit gewährleistet. Es umschließt den Wafer eng und bestimmt durch die präzise Steuerung der Plasmaverteilung an den Waferkanten direkt die Gleichmäßigkeit und Konsistenz des Ätzprozesses. Damit ist es ein unverzichtbarer Bestandteil zur Gewährleistung der Chipausbeute.


Mögliche Leistungen: Analyse von Kundenanwendungsszenarien, passende Materialien, technische Problemlösung.


Unternehmensprofil: Veteksemicon verfügt über 2 Labore, ein Expertenteam mit 20 Jahren Materialerfahrung sowie F&E- und Produktions-, Test- und Verifizierungskapazitäten.


Technische Parameter

Projekt
Parameter
Hauptmaterialien
Hochreines gesintertes SiC
Optionale Materialien
Beschichtetes SiC kann je nach Kundenwunsch individuell angepasst werden
Anwendbare Prozesse
SiC-Ätzung, Si-Tiefenätzen, andere Verbindungshalbleiterätzen
Anwendbare Geräte
Anwendbar auf gängige Trockenätzgeräteplattformen (bestimmte Modelle können angepasst werden)
Schlüsseldimensionen
Angepasst an das Gerätemodell und die Zeichnungsanforderungen des Kunden
Oberflächenrauheit
Ra ≤ 0,2 μm (kann je nach Prozessanforderungen angepasst werden)
Hauptmerkmale
Hohe Korrosionsbeständigkeit, hohe Reinheit, hohe Härte, ausgezeichnete thermische Stabilität und geringe Partikelbildung


Kernvorteile des Veteksemicon-Fokusrings


1. Außergewöhnliche Materialwissenschaft, entwickelt für raue Umgebungen


Unser ausgewähltes hochreines Siliziumkarbidmaterial mit hoher Dichte hält dem intensiven Plasmabeschuss und der Korrosion durch fluorhaltige chemische Gase während des SiC-Ätzprozesses problemlos stand. Seine hervorragende Korrosionsbeständigkeit führt direkt zu einer längeren Lebensdauer und einer geringeren Häufigkeit des Austauschs von Komponenten. Dadurch werden nicht nur die Ausfallzeiten der Geräte reduziert, sondern auch das Risiko einer Partikelkontamination durch Komponentenverschleiß erheblich verringert, was Ihnen eine langfristige und stabile umfassende Kosteneffizienz bietet.


2. Präzises technisches Design gewährleistet einen konsistenten Prozess


Jeder Veteksemicon-Fokusring wird einer hochpräzisen CNC-Bearbeitung unterzogen, um sicherzustellen, dass wichtige Abmessungen wie Ebenheit, Innendurchmesser und Stufenhöhe eine Genauigkeit im Mikrometerbereich erreichen und so eine perfekte Übereinstimmung mit dem Originalgerätehersteller (OEM) gewährleistet ist. Unser Ingenieurteam optimiert das Profil mithilfe der Plasmasimulation weiter. Dieses Design leitet das elektrische Feld effektiv, reduziert abnormale Ätzungen an den Waferkanten und kontrolliert so die Ätzgleichmäßigkeit des gesamten Wafers auf ein extremes Niveau.


3. Zuverlässige Leistung verbessert die Produktionseffizienz


In anspruchsvollen Massenproduktionsumgebungen kommt der volle Wert unserer Produkte zum Tragen. Durch die Sicherstellung einer konzentrierten und stabilen Plasmaverteilung trägt der Veteksemicon-Fokusring direkt zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit der Ätzrate und einer optimierten Prozesswiederholbarkeit von Charge zu Charge bei. Dies bedeutet, dass Ihre Produktionslinie kontinuierlich Produkte mit hoher Ausbeute liefern kann und gleichzeitig von längeren Wartungszyklen profitiert, was die Kosten für Verbrauchsmaterialien pro Wafer effektiv senkt und Ihnen einen erheblichen Wettbewerbsvorteil verschafft.


4. Bestätigung der Verifizierung der ökologischen Kette


Die Verifizierung der ökologischen Kette des Veteksemicon Focus Ring erstreckt sich von den Rohstoffen bis zur Produktion, hat die internationale Standardzertifizierung bestanden und verfügt über eine Reihe patentierter Technologien, um seine Zuverlässigkeit und Nachhaltigkeit in den Bereichen Halbleiter und neue Energien sicherzustellen.


Für detaillierte technische Spezifikationen, Whitepapers oder Mustertestvereinbarungen wenden Sie sich bitte an unser technisches Support-Team, um herauszufinden, wie Veteksemicon Ihre Prozesseffizienz verbessern kann.


Hauptanwendungsgebiete

Anwendungsrichtung
Typisches Szenario
Herstellung von SiC-Leistungsgeräten
Gate- und Mesa-Ätzung von MOSFET, SBD, IGBT und anderen Geräten.
GaN-auf-SiC-HF-Geräte
Ätzverfahren für Hochfrequenz-Hochleistungs-Hochfrequenzgeräte.
Tiefenätzung von MEMS-Geräten
Mikroelektromechanische Systemverarbeitung, die extrem hohe Anforderungen an die Morphologie und Gleichmäßigkeit der Ätzung stellt.


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