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Solide sic-Scheiben-Duschkopf
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Solide sic-Scheiben-Duschkopf

Vetek Semiconductor ist ein führender Halbleiterausrüstunghersteller in China und ein professioneller Hersteller und Lieferant von soliden Scheibenscheibenkopf. Unser Scheibenform -Duschkopf wird in der Produktion von Dünnfilmen wie CVD -Verfahren häufig verwendet, um eine gleichmäßige Verteilung des Reaktionsgass zu gewährleisten, und ist eine der Kernkomponenten des CVD -Ofens.

Die Rolle des massiven sic-förmigen Duschkopfes im CVD-Prozess besteht darin, das Reaktionsgas gleichmäßig über dem Ablagerungsbereich zu verteilen, damit das Gas im gesamten Reaktor gleichmäßig diffundiert werden kann, um einen flachen und gleichmäßigen Film zu erhalten.


Der massive SiC -Duschkopf befindet sich oben am CVD -Ofen oder in der Nähe des Gaseinlasss. Das Reaktionsgas tritt durch die auf dem Duschkopf verteilten Löcher in die scheibenförmige Struktur ein und diffundiert entlang der Oberfläche des Duschkopfes herum. Durch das mehrköpfige Kanalkonstruktion und gleichmäßig verteilte Auslässe kann das Reaktionsgas gleichmäßig zum gesamten Reaktorbereich fließen, wodurch Konzentration oder Turbulenzen vermieden und die Konsistenz der auf dem Substrat abgelagerten Schichtdicke sichergestellt wird.

Solid SiC Disc-shaped Shower Head working diagram


Gleichzeitig hat die Struktur des Duschkopfs der Halbleiterscheibenform auch einen Diffusionseffekt, der die Durchflussrate des Gases effektiv reduzieren kann, sodass er an der Düsenauslage gleichmäßig diffundiert werden kann und die Auswirkungen lokaler Gasflussänderungen auf den Ablagerungseffekt verringern kann. Es hilft, direkte Gasauswirkungen auf das Substrat zu vermeiden und das Problem der ungleichmäßigen Ablagerung zu verhindern.


Aus der Sicht der Materialien besteht der massive Sic-Ga-Duschkopf aus hochtemperaturbeständigem, korrosionsbeständigem und hochfestem festem SIC-Material mit sehr hoher Stabilität. Es kann lange im CVD -Ofen stabil funktionieren und hat eine lange Lebensdauer.


Vetek Semiconductor bietet hochwertige maßgeschneiderte Dienste an. Die Form und das Lochlayout des soliden sic-förmigen Duschkopfes können entsprechend den Prozessanforderungen des Kunden flexibel eingestellt werden, um sich an verschiedene Gastypen, Durchflussraten und Ablagerungsmaterialien anzupassen. Für verschiedene Größen von Reaktoren oder Substratgrößen können dispiellierte Duschköpfe mit unterschiedlichen Durchmessern und Lochverteilungen angepasst werden, um den Gasverteilungseffekt zu optimieren.


Vetek Semiconductor verfügt über ausgereifte Prozesse und fortschrittliche Technologien für solide SIC -Semiconductor -Duschkopfprodukte und hilft einer großen Anzahl von Kunden, kontinuierliche Fortschritte bei CVD -Prozessen zu erzielen. Vetek Semiconductor freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.


Physikalische Eigenschaften von festem sic


Physikalische Eigenschaften von festem sic
Dichte
3.21
g/cm3

Stromwiderstand
102
Ω/cm

Biegerstärke
590 MPA
(6000 kgf/cm2)
Young's Modul
450 GPa
(6000 kgf/cm2)
Vickers Härte
26 Pa
(2650 kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000 ℃)
4.0 X10-6/K

Wärmeleitfähigkeit (RT)
250 W/mk

Es HalbleiterSolid sic-diskussierte Duschkopfproduktionsgeschäfte


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