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Festes Siliziumkarbid

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Silizium -Carbid -Duschkopf

Silizium -Carbid -Duschkopf

Der Silizium -Carbid -Duschkopf hat eine hervorragende Hochtemperaturtoleranz, chemische Stabilität, thermische Leitfähigkeit und gute Gasverteilungsleistung, die eine gleichmäßige Gasverteilung erzielen und die Filmqualität verbessern kann. Daher wird es normalerweise in Hochtemperaturprozessen wie chemische Dampfabscheidung (CVD) oder PVD -Prozesse (Physikalische Dampfablagerung (PVD) verwendet. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung an uns, Vetek Semiconductor.
Siliziumkarbiddichtungsring

Siliziumkarbiddichtungsring

Als professioneller Produkthersteller und Fabrik von Siliziumkarbiddichtungsring und Fabrik in China wird der Vetek -Halbleiter -Silizium -Carbid -Dichtungsring aufgrund seiner hervorragenden Wärmefestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, mechanischer Festigkeit und thermischer Leitfähigkeit häufig verwendet. Es ist besonders für Prozesse geeignet, die hohe Temperatur- und reaktive Gase wie CVD, PVD und Plasma -Ätzen betreffen, und ist eine wichtige Materialauswahl im Halbleiterherstellungsprozess. Ihre weiteren Anfragen sind willkommen.
CVD-SiC-beschichteter RTP-Suszeptor

CVD-SiC-beschichteter RTP-Suszeptor

Der CVD-SiC-beschichtete RTP-Suszeptor von VeTek Semiconductor eignet sich für Geräte zur schnellen thermischen Verarbeitung (RTP) und schnellen thermischen Ausheilung (RTA), die in der gesamten Halbleiterfertigung eingesetzt werden. Das Substrat wird aus hochreinem isostatischem Graphit gefertigt, auf dem eine dichte CVD-Siliziumkarbidschicht (SiC) abgeschieden wird. Diese Konstruktion sorgt für eine hohe Wärmeleitfähigkeit, robuste chemische Inertheit und anhaltende Dimensionsstabilität bei wiederholten Hochtemperaturzyklen.
CVD -SIC -Block für SIC -Kristallwachstum

CVD -SIC -Block für SIC -Kristallwachstum

CVD -SIC -Block für das SIC -Kristallwachstum ist ein neuer Rohstoff mit hoher Reinheit, der von Vetek Semiconductor entwickelt wurde. Es verfügt über ein hohes Eingangs-Output-Verhältnis und kann hochwertige, großgröße Silizium-Carbid-Einzelkristalle anbauen. Willkommen, um technische Probleme zu besprechen.
SIC -Kristallwachstum Neue Technologie

SIC -Kristallwachstum Neue Technologie

Vetek Semiconductor's Ultrahoh Purity Silicon Carbid (SIC), das durch chemische Dampfabscheidung (CVD) gebildet wird, wird empfohlen, als Ausgangsmaterial zum Anbau von Siliziumkarbidkristallen durch physikalischen Dampftransport (PVT) verwendet zu werden. In der neuen Technologie von SIC -Kristallwachstum wird das Quellmaterial in einen Tiegel geladen und auf einen Samenkristall untermauert. Verwenden Sie die CVD-Sic-Blöcke mit hoher Reinheit als Quelle für den Anbau von sic-Kristallen. Willkommen, um eine Partnerschaft mit uns aufzubauen.
CVD Sic Duschkopf

CVD Sic Duschkopf

Vetek Semiconductor ist ein führender CVD -Duschkopfhersteller und Innovator in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SIC -Material spezialisiert. CVD -Duschkopf wird aufgrund seiner hervorragenden thermochemischen Stabilität, hoher mechanischer Festigkeit und Widerstand gegen Plasma -Erosion als Fokussierringmaterial ausgewählt. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


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