TAC Coated Graphit Guide Ring

Der mit TAC (Tantal Carbid) beschichtete Graphit -Führungsring ist eine kritische Komponente, die bei der Herstellung von Halbleiter verwendet wird, insbesondere in Prozessen wie epitaxiale Ablagerung und Plasma -Ätzen. Diese Ringe sollen Siliziumwafer sicher halten und positionieren, um eine genaue Ausrichtung und Stabilität während der Hochtemperatur- und harten chemischen Umgebungen zu gewährleisten. Unsere Leitfadenringe sind so konstruiert, dass sie den strengen Anforderungen der modernen Halbleiterherstellung gerecht werden und dazu beitragen, die Prozesserträge und die Qualität der Wafer zu verbessern.

Materialzusammensetzung und physikalische Eigenschaften

Der Kern unseres TAC-beschichteten Graphit-Führungsrings ist ein hochreiner Graphitring, der dann mit einer Schicht Tantal-Carbid (TAC) beschichtet wird.

Graphit -Substrat:

Der Graphit bietet mehrere wichtige Vorteile. Es hat eine ausgezeichnete thermische Stabilität und widerspricht der Deformation bei hohen Temperaturen, die bei der Verarbeitung der Halbleiter häufig sind. Seine leichte Natur minimiert die Wärmemasse und ermöglicht schnelle Heiz- und Kühlzyklen. High-Purity-Graphit verhindert auch eine Kontamination der Prozesskammer.

CVD TAC -Beschichtung:

Die Tantal -Carbid -Beschichtung ist der Schlüssel zur überlegenen Leistung des Rings. TAC ist ein extrem hartes Keramikmaterial, das außergewöhnliche Verschleißfestigkeit und chemische Trägheit bietet. Es schützt den zugrunde liegenden Graphit vor aggressivem Plasma und korrosiven Gasen und verlängert die Lebensdauer des Rings erheblich. Diese Beschichtung verhindert auch, dass Partikel ausschulen, was für die Aufrechterhaltung einer sauberen Prozessumgebung und zur Verhinderung von Mängel auf der Waferoberfläche von entscheidender Bedeutung ist.

Die Rolle von Führungsringen bei der Waferverarbeitung

Unser TAC Coated Guide Ring spielt eine wichtige Rolle bei der Sicherstellung der Qualität und Effizienz der Halbleiterherstellung.

● Waferausrichtung und Stabilität: Während des epitaxialen Wachstums oder der Radierung hält der Führungsring den Wafer in einer genauen Position. Dies verhindert, dass sich der Wafer verschiebt, was für eine gleichmäßige Schichtabscheidung und eine genaue Musterübertragung über die gesamte Waferoberfläche wesentlich ist.

● Thermisches Management: Die thermischen Eigenschaften der Graphit- und Tantal -Carbid -Beschichtung ermöglichen eine effiziente Wärmeverteilung und -bewirtschaftung. Dies ist entscheidend für die Aufrechterhaltung eines gleichmäßigen Temperaturprofils über den Wafer, was für eine konsistente Filmdicke und die Materialeigenschaften erforderlich ist.

● Kontaminationskontrolle: Die hohen Materialien und die dauerhafte TAC-Beschichtung minimieren die Partikelerzeugung und -übergasung. Dies verringert das Risiko einer Waferverschmutzung und Defekte, was zu einer höheren Ausbeute und Zuverlässigkeit der Geräte führt.

● Lebensdauer der verlängerten Komponenten: Die robuste Tantal -Carbidbeschichtung bietet eine hervorragende Resistenz gegen Plasmaerosion und chemischer Angriff. Dies erweitert die Betriebsdauer des Leitfadenrings, verringert die Ausfallzeiten der Wartung und senkt die Gesamtbesitzkosten.